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Fターム[4G169BA28]の内容

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Fターム[4G169BA28]に分類される特許

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【課題】本発明は、光学純度の高い光学活性3−キヌクリジノール又はその塩を収率よく製造し得る方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、3−キヌクリジノン又はその塩を、塩基化合物、第8族〜第10族の遷移金属と光学活性二座配位子との錯体、及び光学活性ジアミンの存在下、水素と反応させることを特徴とする光学活性3−キヌクリジノール又はその塩の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 より簡便にクラスターサイズが制御された貴金属触媒を酸化物担体に担持させた排ガス浄化用触媒を提供する。
【解決手段】複数の有機多座配位子と複数の貴金属原子からなる多核錯体を酸化物担体上に析出させ、次いで有機多座配位子を除去することにより、貴金属クラスター担持触媒を製造する。白金、ロジウム等の貴金属3を含む多核錯体1を含む溶液にアルミナ、シリカ等の酸化物担体4を浸漬し、溶媒除去・乾燥し、更に紫外線、マイクロ波等の照射により有機多座配位子2を分解もしくは燃焼させて除去して、酸化物担体4の表面に貴金属のクラスター5を担持させる。 (もっと読む)


フェノール及びメチルエチルケトンを製造する方法は、ベンゼン及びC4アルキル化剤を含む原材料をアルキル化条件下で、ゼオライトベータ又は12.4±0.25、6.9±0.15、3.75±0.07、及び3.42±0.07オングストロームの格子面間隔の最大値を含むX線回折パターンを有するモレキュラーシーブを含む触媒に接触させ、sec−ブチルベンゼンを含むアルキル化流出液を生成する工程を含む。該sec−ブチルベンゼンをその後酸化し、ヒドロキシペルオキシドを生成し、該ヒドロキシペルオキシドを分解してフェノール及びメチルエチルケトンを生成する。 (もっと読む)


本発明は、窒素と酸素(N,O)原子或いは酸素と酸素(O,O)原子により配位結合された、即ちアミノアルコール類、(ヒドロキシイミノ)ジカルボン酸類、ヒドロキシピラノン類、トリフルオロ酢酸、トリフリック酸又は無機酸からの誘導体である、二座又は多座配位子を有する、バナジウム錯体(酸化状態が+4又は+5である)を、温和条件の下、一酸化炭素の存在下或いは非存在下、及びトリフルオロ酢酸(CF3COOH)中のペルオキソ二硫化塩(K2S2O8)の存在下に、メタンの酢酸への直接ワンポット転化の際の触媒として、一般式(I)に基づいて使用する。 (もっと読む)


【課題】 高価な白金触媒の代替となる水素酸化触媒を提供する。
【解決手段】 μ−オキソ遷移金属錯体が導電性担体表面に配位子を介して固定化され、かつ前記μ−オキソ遷移金属錯体の近傍に炭素数6〜10である疎水性基が配置されたことを特徴とする水素酸化触媒。μ−オキソ遷移金属錯体が導電性担体表面に配位子を介して固定化され、かつ前記導電性担体表面に親水処理が施されていることを特徴とする水素酸化触媒。μ−オキソ遷移金属錯体が導電性担体表面に配位子を介して固定化され、前記μ−オキソ遷移金属錯体の近傍に炭素数6〜10である疎水性基が配置され、かつ、前記導電性担体表面に親水処理が施されていることを特徴とする水素酸化触媒。及びこれら水素酸化触媒を用いた燃料電池電極。 (もっと読む)


ラクトンの製造方法は、オキシランの接触カルボニル化により行い、その際、触媒として、
a) 成分Aとして少なくとも1種のコバルト化合物及び
b) 成分Bとして一般式(I)
MXn−x (I)
[式中、
Mは、アルカリ土類金属又は元素周期表の3、4又は12又は13族の金属を表し、
Rは、水素又は炭化水素基(この炭化水素基はMと結合する炭素原子以外の炭素原子で置換されていてもよい)を表し、
Xは、アニオンを表し、
nは、Mの原子価に相当する数を表し、
xは、0〜nの範囲内の数を表し、
その際、n及びxは、電荷中性が生じるように選択される]の少なくとも1種の金属化合物
からなる触媒系を使用する。 (もっと読む)


燐を含む触媒組成物及びそれを利用したヒドロホルミル化の方法を提供する。
遷移金属触媒にリガンドとして単座及び二座の燐化合物を組合わせた触媒組成物及び触媒組成物をオレフィン系化合物、一酸化炭素及び水素の混合気体と共に攪拌しつつ、加温、加圧してアルデヒドを製造するオレフィン系化合物のヒドロホルミル化の方法である。これにより、二座配位子を単独で使用した場合の、イソ−アルデヒドに対するノルマル−アルデヒドの選択性(N/I選択性)を維持しつつ、触媒活性を向上させて触媒系を安定化させうる。 (もっと読む)


本明細書に提供されるものは、うつ病、不安及び他の関連疾患の治療に有用な5−Ht1b受容体拮抗剤の製造に有用である中間体を製造するための新規な方法である。本発明の方法は、中間体及び最終生成物の改善された収率、純度、製造及び単離の容易さ、並びにより工業的に有用な反応条件及び作業性を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、各種反応の触媒等として有用であり、且つ使用後の回収・再使用が容易である、遷移金属を微小のクラスターとして高分子に担持させて得られる組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 遷移金属を架橋高分子に担持させてなる高分子担持金属クラスター組成物であって、該架橋高分子がその側鎖に疎水性側鎖基及び架橋性官能基を有する親水性側鎖を有する架橋性高分子を架橋させてなることを特徴とする高分子担持クラスター組成物である。この高分子担持金属クラスター組成物は、例えば、適当な溶液中で該架橋性高分子に該金属のクラスターを担持したミセルを形成した後、該架橋性高分子を架橋反応に付すことによって形成されることが好ましい。水素化反応、脱水素反応、アリル位置換反応、酸化反応、カップリング反応又はカルボニル化反応のための触媒等として有用である。
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(a)パラジウムソース;及び(b)式IIの二座ジホスフィン配位子:
>P−R−P<R(式中、P及びPは、リン原子を表し;Rは、場合によっては置換される、2個の第三級炭素原子により該リン原子に連結された二価有機基を表し;R及びRは、独立に、第三級炭素原子(これを介して各基が該リン原子に連結される。)を含有する、1個から20個の原子の一価の基を表すか、又は、R及びRは、一緒に、場合によっては置換される、少なくとも2個の第三級炭素原子(これを介して該基が該リン原子に連結される。)を含有する二価有機基を形成し;Rは、3個の原子(これを介してPがPに直線的に連結する。)を含有する二価架橋基を表す。);及び(c)陰イオンソースを含む触媒システムの存在下で、共役ジエンを一酸化炭素及び、活性水素原子を有する共反応物質と反応させることを含む、共役ジエンのカルボニル化のためのプロセス。 (もっと読む)


本発明は、R1が、水素原子またはC1〜C4アルキルであり、少なくとも1個のsec−ホスフィンが、非置換もしくは置換環状ホスフィン基あるいは1個もしくは2個の一価のアニオンまたは二価のアニオンを有するそのホスホニウム塩である、ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態で提供される、式(I)の化合物に関する。式(I)の化合物は、新規な方法により得ることができ、且つ不斉合成において触媒的に活性な金属錯体の有益な配位子である。
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式1または2または3または4または5または6
【化1】


【化2】


【化3】


【化4】


【化5】


【化6】


[但し、R1、R2、R4基の少なくとも1個がHでないという条件下で、R1、R2,R4基がそれぞれ独立して炭素原子数1〜8個を有するアルキルまたはアルキレン基を表し、
R5〜R22がそれぞれ独立してH、炭素原子1〜8個を有するアルキルまたはアルキレン基を表し、
R3がH、メチルまたはエチルを表し、
nが1または2である場合、XはF、ClまたはCF3を表し、
nがゼロである場合、XはHを表す。]
で表されるホスフィニット・ホスフィットI、またはその混合物。

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少なくとも1個のニッケル(0)中心原子、及び少なくとも1個の燐配位子を含むニッケル(0)−燐配位子を製造するための方法が記載されている。この方法は、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル又はこれらの混合物を含むニッケル(II)供給源を、少なくとも1種の燐配位子の存在下に還元させることを含む。 (もっと読む)


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