【課題】触媒の活性を評価する際に実反応を行わずに、発熱反応型の反応に使用する触媒の性能を、迅速かつ簡易に評価、比較することを可能とする触媒活性評価装置、およびそれを使用した触媒活性評価方法を提供する。
【解決手段】発熱反応型の触媒の活性を簡易評価するための触媒活性評価装置であって、外管と触媒を収容する反応管（内管）との二重管で構成されてなり、触媒の温度変化を測定する熱電対とデータロガーが備えられていることを特徴とする触媒活性評価装置。およびそれを使用した発熱反応型の触媒の活性を簡易評価する方法であって、触媒の触媒作用により反応する溶媒を該触媒に含有させ、その際の該触媒の温度変化を測定することを特徴とする触媒活性評価方法。 （もっと読む）

【課題】発泡金属からなる多孔体の気孔率が大きなまま、表面積を大きくし、多様な用途に利用可能な多孔体を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る多孔体は、三次元網目構造を持つ発泡金属からなる多孔体であって、該発泡金属の骨格の表面に髭状物質が形成されていることを特徴とする。発泡金属としては、Ｎi、ＣoまたはＦeであることが好ましく、髭状物質としては、光触媒機能を
持つカーボンナノチューブ及び／又はＴiＯ₂であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】より浄化性能が向上した新規な排ガス浄化用触媒の提供。
【解決手段】本発明は、基材上に平均粒径３〜７μｍの微細粒子を含むコート層が配置されている排ガス浄化用触媒であって、当該コート層が平均粒径２０μｍ超５０μｍ未満の粗大粒子を更に含み、少なくとも当該微細粒子に触媒金属が担持されている排ガス浄化用触媒、を提供する。 （もっと読む）

【課題】触媒特性が安定で、安価な触媒を提供する。
【解決手段】触媒であって、Ｃｕを主構成元素とし、ＡｌおよびＳｃを含有するＣｕ系準結晶の粉末を用いたことを特徴とする。また、触媒の製造方法であって、Ｃｕを主構成元素とし、ＡｌおよびＳｃを含有するＣｕ系準結晶のインゴットを粉砕し、Ｃｕ系準結晶の粉末を得ることを特徴とする。さらに、することを特徴とする。さらに、水素生成装置であって、Ｃｕを主構成元素とし、ＡｌおよびＳｃを含有するＣｕ系準結晶の粉末を触媒として備え、メタノールと水との混合物から水素を生成することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、金属製のハニカム体（１）、特に触媒担体を製造するための箔（２）に関し、この箔（２）は、その両表面上に、少なくとも１つの測定方向において、０．３μｍ（マイクロメートル）よりも大きい平均表面粗さ（Ｒａ）を有する。好ましくは、この箔（２）は圧延された箔であり、圧延方向（Ｌ）、および／または圧延方向に対する横断方向（Ｑ）において、０．３μｍよりも大きく、好ましくは０．５μｍよりも大きく、特に好ましくは約０．６μｍである平均表面粗さ（Ｒａ）を有する。この箔（２）は、その両表面上に、６０ｎｍ（ナノメートル）から８０ｎｍ、好ましくは７０ｎｍから７５ｎｍの厚さ（Ｄ）を有する酸化物被膜（３）を有することができる。この粗さにもかかわらず、有利にも、１０％未満の許容範囲、好ましくは、５％未満の許容範囲を有する酸化物被膜（３）の均一の厚さ（Ｄ）が両表面上にある。 （もっと読む）

本発明は、高温耐食鋼から構成される少なくとも１つの金属箔（２）を含むハニカム体（１）、特に触媒コンバーター支持体であって、箔（２）は少なくともいくつかの領域（５）に接合点（５）を有し、その表面上に各々の場合６０〜８０ｎｍ（ナノメートル）、好ましくは７０〜７５ｎｍの厚さ（Ｄ）を有する酸化物層（３）を有する、ハニカム体（１）に関する。箔（２）、好ましくはクロムおよびアルミニウム構成成分、特に１〜５％アルミニウムを含む鋼から構成され、酸化物層（３）は、好ましくは実質的に酸化アルミニウム、特にγ−酸化アルミニウムから構成される。酸化物層（３）は、好ましくはハニカム体（１）の全表面上において１０％未満、好ましくは５％未満の許容差を有する均一な厚さ（Ｄ）を有するべきである。圧延方向（Ｌ）および／またはこの圧延方向に対して横である横方向（Ｑ）において、０．３μｍより大きい、好ましくは０．５μｍより大きい、特に好ましくはおよそ０．６μｍの平均表面粗さ（Ｒ_ａ）を有し、かつハニカム体（１）を製造するために使用される圧延された箔の上で、酸化物層（３）が使用されることが好都合である。これにより、高負荷下でも耐久性がありかつ明確な接合点（５）を有するハニカム体の製造が可能になる。 （もっと読む）

【課題】防眩性が十分に優れ、且つ優れた防汚性及び光触媒性を付与することが可能な光触媒性積層塗膜を提供すること。
【解決手段】第１のフッ素樹脂と第１の架橋剤とアクリル樹脂微粒子とを含有する第１の塗料からなる保護層、並びに、前記保護層上に形成された、第２のフッ素樹脂と第２の架橋剤と光触媒性微粒子とを含有する第２の塗料からなる光触媒層を備えており、前記第２のフッ素樹脂がポリジメチルシロキサン変性フッ素樹脂であり、且つ前記第１のフッ素樹脂が前記ポリジメチルシロキサン変性フッ素樹脂以外のフッ素樹脂であること特徴とする光触媒性積層塗膜。 （もっと読む）

【課題】光触媒層に、発光ダイオードの電極機能を併せ持たせる。
【解決手段】光源一体型光触媒装置１００は、ＩｎＧａＮから成る発光層１３を有する。ｐ型ＡｌＧａＮから成るｐクラッド層１４、ｐ型ＧａＮから成るｐコンタクト層１５の上には酸化ニオブチタンから成る、光触媒機能を有する透光性電極２０が形成されている。酸化ニオブチタンから成る透光性電極２０は、発光層１３からの波長３８０ｎｍの紫外光により活性化されて光触媒機能層として作用し、且つ発光層１３に電流を供給するための透光性電極としても作用する。光触媒として機能するのは透光性電極２０の露出した表面２０ｓ近傍である。 （もっと読む）

【課題】接着層および／またはコート層内でのマクロポアの形成を回避し得るハニカム構造体の製造方法。
【解決手段】セル壁で区画されたセルを有する複数のハニカムユニットを接着層で接合してセラミックブロックを形成する工程、またはセル壁で区画されたセルを有する一つのハニカムユニットでセラミックブロックを形成する工程と、前記セラミックブロックの外周部にコート層を設置する工程と、を有し、さらに、前記ハニカムユニットの接合面に、直径が１〜５０μｍの範囲の発泡材料の粒子を含む接着層用のペーストを設置する工程、および／または前記セラミックブロックの外周部に、直径が１〜５０μｍの範囲の発泡材料の粒子を含むコート層用のペーストを設置する工程と、前記発泡材料を発泡させる工程と、前記発泡材料を消失させ、直径１００〜３００μｍの範囲の気泡痕を形成する工程と、を有するハニカム構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面に有機系塗膜および光触媒層が設けられた積層体であって、光触媒を積層する際に発生する光沢度の変化を確実に防止でき、任意の光沢度に制御可能な光触媒層を有する積層体、ならびに、その製造方法を提供する。
【解決手段】光触媒層を有する積層体は、金属層（５）の少なくとも一方の表面に有機系塗膜（４）が設けられ、かつ、当該有機系塗膜の表面に少なくとも保護接着層（３）を介して光触媒層（２）が形成され、当該光触媒層の表面に剥離性フィルム（１）が設けられて成り、当該剥離性フィルムの表面粗度が中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．１〜１．０μｍである。また、積層体の製造においては、金属層（５）の表面の有機系塗膜（４）に、転写フィルム（Ａ）を配置して５０〜１５０℃の条件で加熱加圧した後、剥離性フィルム（１）を剥す。 （もっと読む）

【課題】脱水素反応の反応効率を高めることができる脱水素触媒とそれを用いた水素供給装置を提供する。
【解決手段】金属触媒を多孔質酸化膜からなる触媒担体に担持したものからなり、化学的に水素貯蔵・供給を繰り返す媒体を用いて水素を取り出す脱水素触媒において、多孔質酸化膜の吸水率／膜厚を０．０３０〜０．０６５（ｍｇ／（ｃｍ^２・μｍ））とする。また、多孔質酸化膜の吸水率／膜厚が０．０３０〜０．０６５（ｍｇ／（ｃｍ^２・μｍ））、Ｐｔ触媒粒径が１〜４ｎｍ、多孔質酸化膜の微細孔径が４５〜１００ｎｍ、多孔質酸化膜の熱拡散率／膜厚が１×１０^−６〜１×１０^−５（ｍ^２／（ｓ・μｍ））の構造を有する脱水素触媒を用いて水素供給装置を作製する。 （もっと読む）

少なくとも１種の触媒要素（３２）を有する触媒活性被覆（２）付きの少なくとも１つの被覆区域（８）を有する総表面（７）を備えた担体（１）であって、担体（１）の表面（３５）に分散配置される触媒要素（３２）が表面に沿って少なくとも３マイクロメートルの平均間隔（３４）を有し、表面（３５）が２〜１０マイクロメートルの平均粗さＲ_Zを有し、平滑な未被覆表面（３５）を有する担体に比べて２５％の最大圧力損失増大を有する、担体（１）。 （もっと読む）

【課題】長期間にわたって一酸化炭素等の有害物質を除去可能な触媒体及びこれを用いた空気調和機を提供する。
【解決手段】基体と、基体上に形成された吸湿性を有する吸湿性コート層と、吸湿性コート層に保持され、気体中に含まれる反応目的分子と他の物質との反応を触媒するＰｔ、Ａｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｉｒ等の触媒物質と、を有する触媒体。好ましくは、前記吸湿性コート層として、平均細孔径が５０ｎｍ以下の多孔質シリカを用いる。 （もっと読む）

【課題】高温安定、高比表面積のコーディエライト多孔体を基材とし、該基材表面に針状粒子を発現させ、その針状粒子の表面の一部あるいは全体に該針状粒子と異なる成分が被覆されているセラミック体、及びセラミック触媒体を提供する。
【解決手段】排ガス浄化用触媒あるいはフィルターの多孔質基材として使用され、排ガスの接触する面に針状粒子が存在するセラミック体において、多孔質基材表面に該基材主成分と成分が異なる針状粒子が形成されていることを特徴とするセラミック体、セラミック触媒体及びその製造方法。
【効果】比表面積が大きく、焼結による比表面積の低下が抑制され、熱容量が小さく、触媒の早期活性化が可能であり、また、圧損が少ない、新しい排ガス浄化用セラミック触媒体を製造し、提供することができる。 （もっと読む）

本発明は、排ガス処理システム、及びディーゼルエンジン排出ガス流から粒子状物質及び酸化窒素を除去する方法に関する。特に、本発明は、ディーゼルエンジン排出ガス流からＮＯ_x及び他のガス状成分と共に粒子状物質を同時に効率よく処理する排ガス処理システムに関する。排ガス処理システムは、サブミクロン粒子を含む一種以上の極薄塗膜組成物で被覆された統合すすフィルターを使用し、これによりその塗装物に過剰な背圧がかからないような極薄の塗膜層を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 触媒層と排ガスとの接触頻度を向上させて、浄化性能を向上させた排ガス浄化触媒を提供する。
【解決手段】 基材１０の壁面に触媒層２０を備える排ガス浄化触媒。触媒層２０のうち最も表側の触媒層２２の表面は凹凸を有している。この凹凸の高さは、2μm以上50μm以下である。この凹凸を形成させるために、凹凸形成材を触媒層中に含有している。凹凸形成材は、好ましくは無機材料の繊維である。 （もっと読む）

【課題】角埋めを行うことなく、触媒の性能向上に繋がる触媒成分層の均一な形成を実現し得る下地層付きメタル担体、その製造方法、その製造方法において用いる下地層形成剤、及び下地層付きメタル担体を用いた触媒を提供すること。
【解決手段】触媒成分層を形成して用い、複数のセルを備えた下地層付きメタル担体であって、該下地層が、所定の下地層形成剤を用いて形成され、且つ凹凸表面を有する下地層付きメタル担体。下地層付きメタル担体に触媒成分層を形成して成る触媒。下地層付きメタル担体の製造方法である。既製メタル担体の表面に下地層形成剤を塗布し、乾燥・焼成する。メタル箔の表面に下地層形成剤を塗布し、メタル箔を巻き取りメタル担体を成形し、乾燥・焼成する。下地層付きメタル担体の製造方法に用い、耐熱性接着剤を含有する下地層形成剤。 （もっと読む）

【課題】多量のプリコート層を形成することなく、メタル箔と触媒成分層形成スラリーとのコート性（密着性）を向上させ、均一な触媒成分層を形成し得るメタル担体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】複数のセルを備え、該セルの内壁に凹部を有するメタル担体。
メタル担体の製造方法である。メタル担体を製造するに当たり、グラインダーを用いた精密切削加工により、メタル箔に凹部を形成する。メタル担体を製造するに当たり、レーザー加工により、メタル箔に凹部を形成する。メタル担体を製造するに当たり、ブラスト加工により、メタル箔に凹部を形成する。メタル担体を製造するに当たり、酸を用いたエッチング加工により、メタル箔に凹部を形成する。メタル担体を製造するに当たり、ローラを用いた加工により、メタル箔に凹部を形成する。 （もっと読む）

アンモニウムイオンを含有する均一乾燥混合物を製造し、これを低分子酸素の雰囲気中で高められた温度で熱処理し、この際、均一乾燥混合物中に含有されるアンモニウムイオンの一部分量をアンモニアの遊離下に分解し、熱処理雰囲気の酸素含量を熱処理の経過中に高める、元素Ｎｂ及びＷの少なくとも１種及び元素Ｍｏ、Ｖ及びＣｕを含有する触媒活性多種元素酸化物材料の製法。 （もっと読む）

【課題】 光の吸収効率を高め、さらに電荷の再結合を防止した半導体光電極、及び光電変換効率を高めた光エネルギ変換装置を提供する。
【解決手段】 表面に凹凸を構成した金属基板２と、金属基板２表面に形成された光触媒作用を有する材料から成る半導体層３とを備える半導体光電極。 金属基板の表面の平均粗さは１〜４ミクロンが好ましく、光触媒を有する材料としてはＴｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｖ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉ，及びＩｎの中から選択される少なくとも一種以上の元素を含むことが好ましい。また、半導体層の厚さは０．１〜１ミクロンであることが好ましい。 （もっと読む）