【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５〜１３であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

本発明は、固体清浄組成物の製造方法に関する。上記方法は、蝋質清浄組成物の流動性蝋質粒子を加圧及び／又は振動することを含むことができる。蝋質清浄組成物において、流動性蝋質粒子を加圧及び／又は振動することにより、上記固体の形状及び密度が決定されるが、固体を形成することは要求されない。上記方法は、加圧及び／又は振動のためのコンクリートブロック装置を用いることができる。本発明はまた、上記方法により製造された固体清浄組成物、及び結合剤により共に結合された粒子を含む固体清浄組成物に関する。
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【課題】 微生物汚染が問題になるであろう状況において、微生物及び微生物産生物質からなるバイオフィルムの生成を抑制し、これに起因する危害を防止するためのバイオフィルム生成抑制方法を提供する。
【解決手段】次の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：
（Ａ）一般式（１）
ＲＯ−（ＥＯ）_n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜１４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＥＯはエチレンオキシ基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。）で表される化合物から選ばれる１種以上、
（Ｂ）界面活性剤、
（Ｃ）溶剤
を含有する組成物を対象物に適用し、濯がないで使用することを特徴とするバイオフィルム生成抑制方法。 （もっと読む）

【課題】ＣＩＰ洗浄において、泡立ちを抑え、効率良く残存フレーバーを除去でき、洗浄後にＣＩＰ用洗浄剤組成物由来の基剤臭が殆ど残存しない、保存安定性に優れた１剤型のＣＩＰ用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】エステル化合物、シリコーン化合物、及び２５℃でのＳＰ値が６〜９である炭化水素からなる群より選ばれる１種以上の溶剤（Ａ）、（Ｃ）成分以外の界面活性剤（Ｂ）、一般式（１）で表される特定のモノグリセリルエーテル系化合物（Ｃ）、炭素数１０〜１８の脂肪族アルコール（Ｄ）、並びに一般式（２）で表される特定のモノグリコールエーテル系化合物（Ｅ）を、それぞれ特定の範囲で含有するＣＩＰ用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】抗菌性洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】カテキン類０．０００５〜５質量％及びアニオン性界面活性剤０．０００１〜１０質量％を含有し、ｐＨが４．５〜５．５又は７．５〜８．５である抗菌性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクルや有機物の汚染、金属汚染及び有機物と金属による複合汚染の除去性と再付着防止性に優れ、基板表面を腐食することなく、高度に清浄化することができる半導体デバイス用基板洗浄液を提供する。特に、疎水性のため薬液をはじき易く、パーティクル除去性が悪い低誘電率（Ｌｏｗ−ｋ）材料の洗浄性に優れた洗浄液を提供する。
【解決手段】（Ａ）有機酸、（Ｂ）スルホコハク酸、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸及びこれらの塩よりなる群から選ばれる１種又は２種以上、並びに水を調合してなることを特徴とする半導体デバイス用基板洗浄液。 （もっと読む）

【課題】皮膚表面のかさつきや毛髪のパサツキを抑え、なめらかさの付与効果をさらに高め、かつ洗浄後もそれらの効果が持続し、皮膚や毛髪に対して適度の潤いとなめらかさを付与する優れた洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される（Ａ）ジメチコノールと（Ｂ）フェノキシエタノールと（Ｃ）トリグリセリドを主成分とする植物油とを含有することを特徴とする洗浄剤組成物。


〔ｎは０〜１０，０００の整数を表す〕 （もっと読む）

【課題】水溶性溶剤臭を軽減させ、かつゲル化や低温固化を生じることがなく、また一次希釈時（２〜３倍希釈）において所望の粘度特性を有する濃縮中性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の陰イオン性界面活性剤と、（Ｂ）脂肪酸アルカノールアミドと、（Ｃ）特定の非イオン界面活性剤と、（Ｄ）アルキルアミンオキシドと、（Ｅ）水溶性溶剤と、（Ｆ）水とを必須成分として含有し、このうち（Ａ）〜（Ｄ）成分の総和量が組成物全体に対し３５〜５５質量％であり、その２倍希釈液の２５℃における粘度が５００〜８００ｍＰａ・ｓとなり、その３倍希釈液の２５℃における粘度が１００〜２００ｍＰａ・ｓとなる濃縮中性洗浄剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】
安全性の高い微生物菌を使用しながら、製造コストを抑制し、しかも、使用時においては、対象物表面に一定時間以上に渡り付着状態を維持することが可能なカビ処理剤及びカビ処理方法を提供すること。
【解決手段】
バチルススパリカス（Bacillus sphaericus）微生物菌、バチルスサブチルス（Bacillus subtilis）微生物菌、またはバチルスツリュゲナイセス（Bacillus thuringiensis）微生物菌を６０度〜１５０度で高温処理した家畜糞と混合した粉体に水分を添加して得られる微生物含有液体と、界面活性剤と噴射剤とを含むことを特徴とするカビ処理剤である。
好ましくは、該界面活性剤は、ラウリル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンセチルエーテル及び脂肪酸カリウムからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、該噴射剤はＬＰガスであることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、３５重量％超の脂肪アルコールスルフェート（ＦＡＳ）を含んでなる濃厚脂肪アルコールスルフェート製剤に関する。該製剤は水を含むが、ＦＡＳに加えてポリオールまたは油溶性ベタインも含む。該製剤は、洗剤および洗浄剤の製造に適しているが、化粧品、特にデンタルケア製品の製造にも適している。 （もっと読む）

本発明は、洗浄剤であって、マイクロエマルションまたは流体ナノ相系を含み、かつ以下の構成要素：ａ）４ｇ／Ｌ未満の水に対する溶解度を有する少なくとも１つの水不溶性物質と、ｂ）少なくとも１つの両親媒性物質、ＮＰ−ＭＣＡ、であって、界面活性剤構造を有しておらず、それ自体は構造形成性ではなく、水または油に対するその溶解度は４ｇ／Ｌ〜１，０００ｇ／Ｌであり、かつ油−水界面に優先的には蓄積しない少なくとも１つの両親媒性物質、ＮＰ−ＭＣＡ（ただしこのＮＰ−ＭＣＡは、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２−（ｎ−ブチル）−２−エチル−１，３−プロパンジオールから、および／または１，２−ジオールからは選択されない）と、ｃ）少なくとも１つのアニオン性、カチオン性、両性および／または非イオン性の界面活性剤と、ｄ）水および／またはヒドロキシ官能性を有する水溶性の溶剤と、任意に、補助物質と、を含むことを特徴とする洗浄剤に関する。 （もっと読む）

【課題】特徴的な粘弾性を有し、室温程度の温度領域でも安定性かつ安全性が高くいゲル状組成物を提供する。
【解決手段】ＨＬＢ値１１以上１８以下のショ糖脂肪酸エステル及び、ＨＬＢ値３以上１１未満の界面活性剤、クラフト点が２５℃以下のイオン性界面活性及び/又はステロー
ル基を有する非イオン性界面活性剤を含有するゲル化剤又はゲル状組成物。 （もっと読む）

本発明は、１又はそれ以上の疎水的に改質されたポリアクリルアミドを含む組成物であって、ポリアクリルアミドが１又はそれ以上のアニオン性モノマであるアクリルアミドを含み、カチオン性モノマを含まない組成物、及び、消費者及び／又は産業用途のために組成物を用いる方法に関する。 （もっと読む）

【課題】特徴的な粘弾性を有し、室温程度の温度領域でも安定性かつ安全性が高くいゲル状組成物を提供する。
【解決手段】ＨＬＢ値１１以上１８以下のショ糖脂肪酸エステル及び、ＨＬＢ値３以上１１未満の界面活性剤、クラフト点が２５℃以下のイオン性界面活性及び/又はステロー
ル基を有する非イオン性界面活性剤を含有するゲル化剤又はゲル状組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な洗浄力を有し、トリガー式スプレーヤーから噴霧された際にムセにくく、かつ、拭き残りが抑制された拭き取り用洗浄剤組成物、および当該拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーに収容して用いる洗浄方法の提供。
【解決手段】トリガー式スプレーヤーに収容されて用いられる拭き取り用洗浄剤組成物において、過酸化水素（Ａ）０．１〜５質量％と、特定のアルカンスルホン酸、特定のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル、およびそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）０．２〜３．５質量％とを含有し、かつ、特定のアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）の含有割合が０．５質量％以下であり、２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする拭き取り用洗浄剤組成物、および当該拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーに収容して用いる洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】流動性に優れた高嵩密度粒状洗剤組成物を提供する。
【解決手段】下記成分(a)〜(d)を配合し、かつ、嵩密度を0.5〜1.2g/mLに設定する。
(a)以下の(i)〜(iii)を含有する噴霧乾燥粒子：5〜50質量％、
(i)α−オレフィンスルホン酸塩及びアルキル硫酸塩からなる群より選ばれるアニオン界面活性剤：20〜70質量％
(ii)SiO₂／Na₂Oのモル比が1.0〜3.5である珪酸塩：1〜20質量％
(iii)炭酸塩及び／又は硫酸塩：15〜70質量％；
(b)珪酸塩及び／又は炭酸塩：10〜70質量％；
(c)以下の(i)〜(iii)からなる群より選ばれるキレート剤：1〜50質量％、
(i)ポリアクリル酸塩
(ii)アクリル酸とマレイン酸との共重合体及び/又はその塩
(iii)ニトリロトリ酢酸塩；並びに
(d)ノニオン界面活性剤：1〜20質量％ （もっと読む）

【課題】メントール等の結晶性清涼剤の低温時における安定性に優れ、かつ高温時の保存においても、必要に応じて添加した高重合シリコーンなどの分離安定性に優れ、パール光沢が美麗な洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】次の成分(a)〜(d)を含有する洗浄剤組成物。
(a) アニオン性、非イオン性又は両性界面活性剤 ２〜40質量％
(b) エタノール 0.1〜３質量％
(c) メントール等から選ばれる清涼剤
(d) エチレングリコールジ脂肪酸エステル等から選ばれるパール化剤 0.1〜10質量％ （もっと読む）

【課題】低クラフト点で耐硬水性に優れ、且つ起泡性、泡持続性に優れたアルキル硫酸エステル塩を含む界面活性剤組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるアルキル硫酸エステル塩誘導体を含有する界面活性剤組成物。
Ｒ−Ｏ−（ＰＯ）_n−ＳＯ₃Ｍ （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜２４の直鎖アルキル基であり、ＰＯはプロピレンオキシ基であり、ｎはＰＯの平均付加モル数を示し、０＜ｎ＜１の数である。Ｍは陽イオンを示す。） （もっと読む）

本発明は、ポリエステル系防汚ポリマーを添加することにより、一次および二次洗浄作用が低下することのない、洗浄剤または清浄剤中のＬＡＳのＭＥＳによる部分的または完全な置き換えに関する。見解は、それによる、布地洗浄における損失を消費者が受け入れる必要のない、石油化学に基づく界面活性剤の脂肪化学に基づく界面活性剤への置き換えを開示する。これは、洗浄剤および清浄剤分野における持続可能で経済的な活動の方向へのさらなるステップとなる。スルホン酸エステルを含有する洗浄剤または清浄剤においてポリエステル系防汚ポリマーは、布地洗浄の灰色化の低減のために使用される。 （もっと読む）

式１
（Ｒ_f−Ａ）_a−Ｑ−（［Ｂ］_k−Ｒ）_b 式１
［式中、
ａおよびｂは、それぞれ独立して１又は２であり；
Ｒ_fは、任意に少なくとも１個の酸素で中断されている、２〜約２０個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖パーフルオロアルキル基であり；
Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₂₀直鎖、分岐鎖若しくは環式のアルキル、又はＣ₆〜Ｃ₁₀アリールであり；
Ｂは−（ＣＨ₂ＣＨＲ¹Ｏ）_x−であり、
ｋは０又は１であり、ｘは１〜約２０であり、
Ａは、−（ＣＨ₂）_m［（ＣＨＲ¹ＣＨ₂Ｏ）］_s−［（ＣＨ₂）_m（ＣＨ）_tＣＨＯＨ（ＣＨ₂）_m］_e−であり、
（式中、
各ｍは、独立して０〜３であり、ｓは０〜約３０であり、ｔは０又は１であり、ｅは０又は１であり、
Ｒ¹はＨ又はＣＨ₃である）
Ｑは、−ＯＰ（Ｏ）（Ｏ^-Ｍ⁺）（Ｏ）−、
−Ｏ−、
−Ｓ−（ＣＨ₂）_m−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、
−ＳＯ₂−Ｏ−、
−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂Ｃ（ＯＨ）（Ｖ）ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_xＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_x−（ＣＨ₂）_m−Ｓｉ［ＯＳｉ（Ｒ²）₃］₂−、
−ＳＯ₂ＮＲ²−、
−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_zＣ（Ｏ）ＣＨ（ＳＯ₃^-Ｍ⁺）ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）_z−（式中、ｚは１〜約１５である）、又は
ｓが正の整数であるとき、結合であり、
Ｖは−Ｃ（Ｏ）ＯＲ³であり、Ｒ³は、Ｈ、ＣＨ₃またはＲ_fであり；
Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり、
Ｍ⁺は、１族金属であるか又はアンモニウム（ＮＨ_xＲ²_y）⁺カチオンであり（式中、ｘ＋ｙ＝４であり、Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₄アルキルである）、
但し、Ｑが−ＯＰ（Ｏ）（Ｏ^-Ｍ⁺）（Ｏ）−であるとき又はＱが−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_z−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＳＯ₃^-Ｍ⁺）ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）_z−であるとき、ｓ又はｅの少なくとも１つは正の整数である］
の界面活性剤。 （もっと読む）