【課題】樹脂の劣化した部分に発生した黒色化の著しいカビ汚れに対して十分な漂白効果を有する液体漂白剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）次亜塩素酸アルカリ金属塩、（ｂ）第４級アンモニウム型界面活性剤、（ｃ）ケン化度７０〜９３％の部分ケン化型ポリビニルアルコール、及び（ｄ）水を、それぞれ特定比率で含有する液体漂白剤組成物。 （もっと読む）

【課題】鋼帯の洗浄方法におけるリンス工程において、リンス剤として界面活性剤を含有する水溶液を用いて、かつ、リンス剤を循環して使用しても、安定したリンス効果が得られる鋼帯の洗浄方法を提供する。
【解決手段】鋼帯に付着する汚れを洗浄剤により洗浄する洗浄工程（１）と前記洗浄工程（１）が施された後の前記鋼帯をリンス剤Ｗによりリンスするリンス工程（２）を有する鋼帯の洗浄方法であって、前記リンス工程（２）で用いるリンス剤は、下記一般式（１）：


で表されるカチオン性界面活性剤（ａ）を含有する水系組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】バイオフィルムを効果的に除去するバイオフィルム除去剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）


（式中、Ｒ¹は炭素数４〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、Ｘ及びＹは次の式


で示される基から選ばれる基を示し、ｍは１〜５の整数を示す。）
で表わされる塩基性アミノ酸誘導体又はその塩を含有するバイオフィルム除去剤。 （もっと読む）

【課題】バイオフィルムとその他汚れとの複合汚れを効果的に除去できる硬質表面用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含有する硬質表面用洗浄剤組成物：（Ａ）下記一般式（１）


（式中、Ｒ¹は炭素数４〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示し、ｍは１〜５の整数を示す。）で表わされる塩基性アミノ酸誘導体又はその塩、（Ｂ）アルカリ剤、（Ｃ）成分（Ａ）以外の界面活性剤。 （もっと読む）

【課題】 洗浄力に加え、抱水性に優れたドライクリーニング用洗浄剤組成物の提供をする。
【解決手段】 スチレン化フェノール、スチレン化アルキルフェノール、スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物、スチレン化アルキルフェノールアルキレンオキサイド付加物、スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物の脂肪酸エステル及びスチレン化アルキルフェノールアルキレンオキサイド付加物の脂肪酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発泡性に優れ、耐熱性芽胞形成菌に対する殺菌効果及び有機物汚れ除去効果を有すると共に、アルミニウムに対する侵食を防止する殺菌洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリヘキサメチレングアニジン塩０．１〜５質量％、
（ｂ）珪酸塩０．５〜３質量％、
（ｃ）炭素数１２〜２４の第２級アルコールに炭素数２〜４のアルキレンオキシド５〜７モルが付加された第２級アルコールアルキレンオキシド付加物１〜１０質量％、及び
（ｄ）炭素数６〜８の第１級アルコールに炭素数２〜４のアルキレンオキシド４〜２０モルが付加された第１級アルコールアルキレンオキシド付加物１〜１０質量％
を含有する殺菌洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】介護を必要とする者が着用する衣料等の排泄物による汚れに対して、優れた除菌効果と洗浄効果を安定して発揮し、衣料等を再汚染しにくい液体除菌洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】繊維品の除菌および洗浄に用いられる洗浄剤組成物であって、下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を必須成分として含有する液体除菌洗浄剤組成物である。
（Ａ）特定のジアルキルジメチルアンモニウム塩 ２〜１０質量％。
（Ｂ）アルカリ剤 １〜３０質量％。
（Ｃ）キレート剤 １〜３０質量％。 （もっと読む）

本発明は、固体清浄組成物の製造方法に関する。上記方法は、蝋質清浄組成物の流動性蝋質粒子を加圧及び／又は振動することを含むことができる。蝋質清浄組成物において、流動性蝋質粒子を加圧及び／又は振動することにより、上記固体の形状及び密度が決定されるが、固体を形成することは要求されない。上記方法は、加圧及び／又は振動のためのコンクリートブロック装置を用いることができる。本発明はまた、上記方法により製造された固体清浄組成物、及び結合剤により共に結合された粒子を含む固体清浄組成物に関する。
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【課題】ＣＩＰ洗浄において、泡立ちを抑え、効率良く残存フレーバーを除去でき、洗浄後にＣＩＰ用洗浄剤組成物由来の基剤臭が殆ど残存しない、保存安定性に優れた１剤型のＣＩＰ用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】エステル化合物、シリコーン化合物、及び２５℃でのＳＰ値が６〜９である炭化水素からなる群より選ばれる１種以上の溶剤（Ａ）、（Ｃ）成分以外の界面活性剤（Ｂ）、一般式（１）で表される特定のモノグリセリルエーテル系化合物（Ｃ）、炭素数１０〜１８の脂肪族アルコール（Ｄ）、並びに一般式（２）で表される特定のモノグリコールエーテル系化合物（Ｅ）を、それぞれ特定の範囲で含有するＣＩＰ用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】抗菌力が素早く効果を発揮し、室内干しなどの乾燥条件においても悪臭の発生を抑える効果の高い液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】
（Ａ）非イオン界面活性剤（Ｂ）４級アンモニウム基を有するカチオン（Ｃ）特定の長鎖アミン化合物（Ｄ）-OH基を有し、ｌｏｇＰ値が０．１〜３．５である有機溶剤を含有する液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

（Ａ）少なくとも１つの界面活性剤；並びに（Ｂ）（ｉ）界面活性特性を有する抗微生物剤；（ｉｉ）疎水性物質；及び（ｉｉｉ）極性溶媒を含む、抗微生物組成物を含む製剤を開示する。 （もっと読む）

布地を処理するための組成物。本発明の組成物は、布地が標準的な洗濯プロセス全体を行う必要なく、嗅覚認識及び／又は布地の外観などの布地の種々の特性を改善するために使用され得る。布地を処理するための方法もまた開示される。 （もっと読む）

【課題】特徴的な粘弾性を有し、室温程度の温度領域でも安定性かつ安全性が高くいゲル状組成物を提供する。
【解決手段】ＨＬＢ値１１以上１８以下のショ糖脂肪酸エステル及び、ＨＬＢ値３以上１１未満の界面活性剤、クラフト点が２５℃以下のイオン性界面活性及び/又はステロー
ル基を有する非イオン性界面活性剤を含有するゲル化剤又はゲル状組成物。 （もっと読む）

【課題】繊維製品の洗濯後に洗濯物を洗濯槽から取り出しやすく、また乾燥後にシワになりにくい洗濯方法を提供すること。
【解決手段】 洗剤を水に溶解した洗浄液中で繊維製品を洗浄する工程であり、前記洗剤として、（i）（i-1）陰イオン界面活性剤及び（i-2）非イオン界面活性剤から選ばれる一種以上の界面活性剤及び（ii）特定のシリコーン化合物を含有する洗剤を用いる工程１、洗浄後、水を用いて濯ぎを行う工程２、濯ぎ後、（I）陽イオン界面活性剤、（II）非イオン界面活性剤及び（III）アミノ変性シリコーン化合物を含有し、（II）／（I）が質量比で１〜４であり２０℃のｐＨが２〜６である仕上剤を溶解した仕上げ液と繊維製品を接触させる工程３を含む繊維製品の洗濯方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄性に優れると共に、十分な柔軟効果が得られるカーペット洗剤を提供する。
【解決手段】本発明のカーペット洗剤は、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤及びノニオン系界面活性剤のうちの少なくとも１種からなる洗剤成分（例えば、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン等）と、カチオン性柔軟剤及び両性柔軟剤のうちの少なくとも一方からなる柔軟剤成分（例えば、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド等）と、を含有する。 （もっと読む）

飲用水中に約１／４０オンス／ガロン〜約１／１０オンス／ガロンに希釈した場合にスケール制御および腐食阻害を示す、金属器具および金属成分（部品、道具、器具、容器、機器、および表面）に使用するための濃縮された中性の水性洗浄用組成物。さらに、前記濃縮物は、ステンレスのような金属の表面に直接適用してよく、付加的な腐食または他の金属表面に対するダメージを生じることなく、さびおよび他の変色を除去することができる。 （もっと読む）

【課題】スプレーヤーにより、噴霧時に緻密な泡が形成され、高い付着滞留性を有することで、コーキングやパッキンに発生したカビ汚れに対して優れた漂白性能を有する、スプレー式の漂白剤を提供する。
【解決手段】（ａ）次亜塩素酸アルカリ金属塩、（ｂ）陽イオン界面活性剤、（ｃ）一般式（１）で表される化合物を含有する漂白剤組成物を、噴霧手段を備えた容器に充填してなるスプレー式漂白剤。
Ｘ¹−Ｏ（ＡＯ）_n−Ｘ² （１）
〔式中、ＡＯは炭素数２〜４のアルキレンオキシ基、ｎはアルキレンオキシ基の平均付加モル数５〜１５０を示す。Ｘ¹、Ｘ²は、それぞれ水素原子、−ＳＯ₃Ｍ、−ＣＨ₂ＣＯＯＭ（Ｍはアルカリ金属原子）、炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｘ¹、Ｘ²が同時に水素原子、アルキル基になることはない。〕 （もっと読む）

【課題】洗浄中の対象物とのヌルツキ感を嫌う食器や調理器具、果物や野菜等の硬質表面に付着した汚れを除去する洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】Ｎ−アシルアスパラギン酸またはその塩を０．０１〜５０質量％含有してなるｐＨが３〜７の果物、野菜、食器、調理用器具等の硬質表面を洗う洗浄剤組成物および更に酸化エチレン残基および酸化プロピレン残基から選ばれる１または２種を含む親水基を有し炭素数が８〜１４の直鎖状または分岐鎖状の飽和または不飽和炭素鎖を疎水基とするノニオン界面活性剤を含有してなる洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体基板、層間絶縁膜などの半導体部品や、記録媒体部品および光学用部品などの化学的機械研磨（ＣＭＰ）に適し、被研磨物の表面を平坦にし、かつ研磨速度を高くできる研磨用組成物および研磨方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも研磨材、ならびに、（ａ）スルホン酸（塩）基を有する単量体、カルボン酸（塩）基を有する単量体、水酸基を有する単量体およびエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドに由来する骨格を有する単量体の群から選ばれた少なくとも１種の単量体、および、（ｂ）窒素原子を有する単量体、からなる単量体成分を共重合してなる共重合体（塩）を主成分とする半導体部品用洗浄剤からなる研磨助剤、を含有する研磨用組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体基板、層間絶縁膜などの半導体部品や、記録媒体部品および光学用部品などの化学的機械研磨（ＣＭＰ）に適し、被研磨物の表面を平坦にし、かつ研磨速度を高くできる研磨用組成物および研磨方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも研磨材、ならびに、（ａ）スルホン酸（塩）基を有する単量体、カルボン酸（塩）基を有する単量体、水酸基を有する単量体、エチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドに由来する骨格を有する単量体、および窒素原子を有する単量体の群から選ばれた少なくとも１種の単量体、および、（ｂ）ビニルホスホン酸（塩）、からなる単量体成分を共重合してなる共重合体（塩）を主成分とする半導体部品用洗浄剤からなる研磨助剤、を含有する研磨用組成物。 （もっと読む）