【課題】ネガ型レジストのパターン形成に際し、ラフネスが小さく、レジストパターンの倒壊やブリッジ形成を招くことなく安定的に微細パターンを形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
（ア）架橋反応によりネガ化する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、および
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程
を含むレジストパターン形成方法であって、前記レジスト組成物が、
（Ａ）分子量５００〜５０００の低分子量化合物、
（Ｂ）可視光線、紫外線、エキシマレーザー、電子線、極端紫外線（ＥＵＶ）、Ｘ線およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的または間接的に酸を発生する酸発生剤、
（Ｃ）酸架橋剤、および
（Ｄ）溶剤
を含有することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、テルペニルフェノールを使用してテルペニルシクロヘキサノールを製造する方法に関するものである。本発明によるテルペニルフェノールの水素化によるテルペニルシクロヘキサノールの製造方法は、テルペニルフェノールを、残留アルミニウムを含み、かつ、鉄及びクロムの混合物がドープされたラネーニッケル型触媒の存在下において液体相中で水素化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】化学修飾が容易であるとともに、特徴的な立体構造を有し、かつ、包摂化合物等としての利用が期待される新規なアレーン系化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）（Ｘは炭素数１〜１０のアルキル基等を示し、ｍは０又は１を示す）で表される原料化合物（Ａ）と、下記一般式（２）（Ｙは一価の置換基等を示し、ｎは０又は１を示す）で表される原料化合物（Ｂ）とを反応させて得られるアレーン系化合物である。
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本明細書においては、下記の式(I)を有する化合物、またはその製薬上許容し得る塩、またはそのプロドラッグを開示し、説明する：
【化１】


また、これらの化合物に関連する治療方法、組成物および医薬品も開示し、説明する。
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ポリマーまたはプレポリマーを作るのに有用な化合物混合物であって、該化合物混合物は式Ｉ


（式中、Ｒ_１はＨ、アクリロイル、メタクリロイルまたはビニルであり、Ｒ_２はアクリロイル、メタクリロイルまたはビニルである。）
の化合物を含み、式Ｉの化合物はシスおよびトランス−１，３−および１，４−置換シクロヘキサンの混合物からなり、そして式Ｉの化合物のトランス−１，４−置換シクロヘキサン含有量は４０モル％未満である。式ＩＩ


の化合物を含む化合物混合物を製造する方法であって、式ＩＩの化合物はシスおよびトランス−１，３−および１，４−メタノール置換シクロヘキサンの混合物からなり、そして式ＩＩの化合物のトランス−１，４−メタノール置換シクロヘキサン含有量は２５モル％未満である。
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【課題】香料成分として有用なシクロプロパン化合物とその誘導体、及び該シクロプロパン化合物等を含有する香料組成物を提供すること。
【解決手段】［２−メチル−２−（４’−メチル−３’−ペンテニル）シクロプロペニル］メタノールの光学異性体、２−［２’−（２’’，２’’−ジメチル）シクロプロピル］エチル−２−メチルシクロヘキシルプロパンメタノールの光学異性体および３−（２’，２’−ジメチルシクロプロピル）−２−（１’’−メチルシクロプロピル）−１−プロパノールのいずれか１つで表されるシクロプロパン化合物又はその誘導体、及び前記のシクロプロパン化合物又はその誘導体の少なくとも１種を含有してなる香料組成物。 （もっと読む）

【課題】シクロアルカノンの酸素酸化により、シクロアルカンを良好な転化率で酸化して、シクロアルカノール及び／又はシクロアルカノンを良好な選択率で製造する。
【解決手段】酸化セリウムに金が担持されてなる触媒の存在下に、シクロアルカンを酸素で酸化する。この酸化反応は、ラジカル開始剤の存在下に行うのが好ましく、このラジカル開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）の如きアゾニトリル化合物が好適である。 （もっと読む）