説明

Fターム[4H048BE23]の内容

第1−3族元素を含む化合物及びその製造 (10,279) | 反応試剤 (169) | MBH4、その誘導体 (22)

Fターム[4H048BE23]に分類される特許

1 - 20 / 22


【課題】安価な原料から、安全かつ効率的にテトラシアノボレート化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明のテトラシアノボレート塩の製造方法とは、一般式(1):B−(X−Y−R)3(式中、XはS又はO、YはCO又はSO2、Rは炭素数1〜10の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、又は、ハロゲンを表し、各X、Y及びRはそれぞれ互いに同一でも異なってもよく、2以上のRは結合していてもよい)で表されるホウ素化合物と、シアン化合物とを反応させるところに特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】5つのdppe(diphenylphosphinoethane)を配位子とするAu13クラスタの提供。
【解決手段】5つのdppeが配位子として金クラスタに結合しているAu13クラスタであって、該金クラスタは、Au(dppe)Clを還元剤、例えばNaBHを用いて還元し、金原子の数が2、3、4、6、11、13、14、15、17及び18の複数種類の金クラスタを含む混合物を得て、これに塩酸を加えるという簡易な方法により製造される。 (もっと読む)


【課題】高純度のN−アルキルボラジンを製造しうる手段を提供する。
【解決手段】ボラン(BH)錯体またはジボラン(B)と、RCN(Rは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはアラルキル基である)で表されるニトリルとを反応させてN−アルキルボラジンを合成する段階を有し、水分含量が1質量%以下の前記ニトリルが反応に用いられることを特徴とする、N−アルキルボラジンの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】水素化ホウ素出発物質のための追加の溶媒を使用することなく、水素化ホウ素ナトリウムおよびアミン塩からアミンボランを製造するより効率的な方法を提供する。
【解決手段】水素化ホウ素アルカリ金属からアミンボランを製造する方法。水素化ホウ素アルカリ金属は、水とアミンを含む溶媒中で、0.95〜1.05当量のアミン塩と反応させられる。 (もっと読む)


【課題】従来のバルク白金触媒に代わるスケールの燃料電池用触媒として利用可能な、新規な白金−異種金属複合ナノ微粒子およびそれを用いた燃料電池用触媒と、その前駆体である新規なフェニルアゾメチンデンドリマー金属錯体の提供。
【解決手段】次式(I)


(式中のR1、R2は有機分子基等を示す。Mは白金および異種金属で、それら両方が存在している。mはデンドリマーの世代数を表し、nはR1に対するデンドロン部位の結合数を示す。)で表される金属錯体を調整後、還元して白金−異種金属複合ナノ微粒子とする。 (もっと読む)


【課題】反応性の高い、ボラジン化合物製造工程から排出される廃棄物を、安全に無害化処理する。
【解決手段】ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される水素化ホウ素アルカリと、RNHX(Rは水素原子またはアルキル基であり、Xはハロゲン原子である)で表されるアミン塩とを溶媒中で反応させてボラジン化合物を製造する方法において、排出されるボラジン化合物を含む廃棄物を、酸性条件下で水酸基含有化合物と接触させる。 (もっと読む)


【課題】不斉合成に有用な遷移金属触媒の配位子であるホスフィノビナフチルの有用な合成中間体を提供する。
【解決手段】下式で表されるホスフィンーボラン錯体またはその塩。


〔式中、R3’、R5’、R6’およびR8’はそれぞれ水素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を、R4’およびR7’はそれぞれ水素原子、フッ素原子、塩素原子、C2-6アルキル基、低級アルコキシ基、モノ低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す(R3’とR4’およびR7’とR8’は低級アルキレンジオキシ基を形成してもよい)〕 (もっと読む)


【課題】本発明が取り組む課題は、M1212を製造するための、さらに効率的なプロセスを提供することである。
【解決手段】金属ボロハイドライドおよびXBH(式中、Xは置換アミン;置換ホスフィン;またはテトラヒドロフランである)を組み合わせることにより、M1212(式中、Mは金属またはアンモニウムカチオンであり、nは1または2である)を製造する方法。 (もっと読む)


【課題】N−アルキルボラジンの製造の際に、合成の終了後の蒸留精製時に蒸留装置の冷却部に析出物が付着する問題を解決し、生産性を向上させる手段を提供する。
【解決手段】ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される水素化ホウ素アルカリと、(RNHX(Rはアルキル基であり、Xは硫酸基またはハロゲン原子であり、nは1または2である)で表されるアミン塩とを、溶媒中で反応させてN−アルキルボラジンを合成する工程を含むN−アルキルボラジンの製造方法であって、前記N−アルキルボラジンを含む液であり、かつRNH−BH(Rはアルキル基である)で表されるアミンボランの含有量が前記N−アルキルボラジンに対して3mol%以下である液を蒸留することによってN−アルキルボラジンを精製する工程を含む、N−アルキルボラジンの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】不安定な水素化ホウ素アルカリを安定に保管し、ボラジン化合物の製造を効率的に実施する。
【解決手段】ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される水素化ホウ素アルカリと、RNHX(Rは水素原子またはアルキル基であり、Xはハロゲン原子である)で表されるアミン塩とを溶媒中で反応させてボラジン化合物を製造する方法において、水素化ホウ素アルカリと溶媒の混合物を、二酸化炭素が200容積ppm以下の雰囲気で取り扱う。 (もっと読む)


【課題】N−アルキルボラジンの製造の際に、合成の終了後の蒸留精製時に蒸留装置の冷却部に析出物が付着する問題を解決し、生産性を向上させる手段を提供する
【解決手段】ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される水素化ホウ素アルカリと、(RNHX(Rはアルキル基であり、Xは硫酸基またはハロゲン原子であり、nは1または2である)で表されるアミン塩とを、溶媒中で反応させてN−アルキルボラジンを合成する工程を含むN−アルキルボラジンの製造方法であって、前記N−アルキルボラジンを含む液を、前記N−アルキルボラジンの標準沸点+15℃以下の蒸留温度で蒸留してN−アルキルボラジンを精製する工程を含む、N−アルキルボラジンの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】不純物としての金属元素の含量が少なく、半導体装置の素子膜などに用いても問題のない高純度のボラジン化合物を製造しうる手段を提供する。
【解決手段】水素化ホウ素金属塩と、(RNHX(Rは水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基であり、Xは硫酸基またはハロゲン原子であり、nは1または2である)で表されるアミン塩とを、溶媒中で反応させてボラジン化合物を合成する段階を有する、ボラジン化合物の製造方法において、各金属元素(ただし、水素化ホウ素金属塩の構成元素の含有量を除く)の含有量がいずれも100質量ppm以下の水素化ホウ素金属塩、または各金属元素の含有量がいずれも100質量ppm以下のアミン塩の少なくとも一方を反応に用いるか、あるいは、アルミニウム、亜鉛、クロム、コバルト、鉄、銅、鉛、ニッケル、およびマンガンの総含有量(ただし、水素化ホウ素金属塩の構成元素の含有量を除く)が20質量ppm以下の水素化ホウ素金属塩、またはアルミニウム、亜鉛、クロム、コバルト、鉄、銅、鉛、ニッケル、およびマンガンの総含有量が100質量ppm以下のアミン塩の少なくとも一方を反応に用いる。 (もっと読む)


【課題】不純物としての金属元素の含量が少なく、高純度のボラジン化合物を製造しうる手段を提供する。
【解決手段】化学式1:


(上記式において、Rは互いに独立して、水素原子、アルキル基及びシクロアルキル基からなる群より選択される)で示されるボラジン化合物を合成する段階と、前記ボラジン化合物を金属除去剤と接触させる段階とを含む、ボラジン化合物の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】LSI等の性能を向上させるために、ナトリウムなどの金属原子のボラジン化合物中での存在量が少なく、高純度のボラジン化合物を高収率で製造しうる手段を提供することを目的とする。
【解決手段】水素化ホウ素金属塩(ただし、金属原子はリチウム原子、ナトリウム原子及びカリウム原子以外である)(I)と、(RNHX(Rは水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基であり、Xは硫酸基またはハロゲン原子であり、nは1または2である)で表されるアミン塩(II)とを、溶媒(III)中で反応させてボラジン化合物を合成する段階を含む、ボラジン化合物の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】高品質のボラジン化合物を、効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される水素化ホウ素アルカリと、RNHX(Rは水素原子またはアルキル基であり、Xはハロゲン原子である)で表されるアミン塩とを溶媒中で反応させてボラジン化合物を製造する方法であって、反応器に水素化ホウ素アルカリと溶媒を含む混合物を供給しながら反応するに当たり、前記水素化ホウ素アルカリと溶媒を含む混合物の供給時の温度を50℃以下にすることを特徴とするボラジン化合物の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】高純度のボラジン化合物を効率的に製造しうる手段を提供する。
【解決手段】ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される少なくとも1種の水素化ホウ素アルカリと、(RNHX(Rは水素原子または置換基があってもよいアルキル基であり、Xは硫酸基またはハロゲン原子であり、nは1または2である)で表される少なくとも1種のアミン塩とを、溶媒中で反応させてボラジン化合物を合成する段階を有し、前記水素化ホウ素アルカリおよび前記アミン塩のうち少なくとも一方が、撹拌しながら加熱乾燥することによって水分含量が1質量%以下としたものであることを特徴とする、ボラジン化合物の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】ハライドイオンの含有量が非常に少ないN−アルキルボラジンを製造する手段を提供する。
【解決手段】ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される水素化ホウ素アルカリと、RNHX(Rはアルキル基であり、Xはハロゲン原子である)で表されるアルキルアミン塩とを溶媒中で反応させてN−アルキルボラジンを合成する工程を含むN−アルキルボラジンの製造方法であって、反応後の第1溶液からハライドイオンの含有量を前記N−アルキルボラジンに対して1000質量ppm以下に低減させた第2溶液を得る工程、および前記第2溶液から蒸留精製によってN−アルキルボラジンを精製する工程を含む、N−アルキルボラジンの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】N−アルキルボラジンに含まれる、N−アルキルボラジンと沸点差の小さい不純物の含有量を効果的に低減させる手段を提供する。
【解決手段】ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される水素化ホウ素アルカリと、(RNHX(Rはアルキル基であり、Xは硫酸基またはハロゲン原子であり、nは1または2である)で表されるアミン塩とを、反応用溶媒中で反応させてN−アルキルボラジンを合成する段階を含み、前記反応用溶媒として、前記N−アルキルボラジンの沸点±35℃の範囲に沸点を有する有機物の含有量が500質量ppm以下の溶媒を使用する、N−アルキルボラジンの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】水素化ホウ素アルカリとアミン塩とからボラジン化合物を製造する際に副生する水素が反応系内に残存することに起因する危険性をより一層低減させうる手段を提供する。
【解決手段】ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される水素化ホウ素アルカリと、(RNHX(Rは水素原子またはアルキル基であり、Xは硫酸基またはハロゲン原子であり、nは1または2である)で表されるアミン塩とを、溶媒中で反応させてボラジン化合物を合成する段階を有するボラジン化合物の製造方法であって、前記反応において生成する水素を含む水素含有ガスを2.7〜4.0m/秒の線速で反応系から排出することを特徴とするボラジン化合物の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】中心元素にオリゴエーテル基が結合した構造のアニオンとリチウムイオンとの塩であって、より有用性の高いリチウム塩を提供すること。
【解決手段】下記式(1):
LiM(OY)n(N(CORX24-n ・・・(1);
で表されるリチウム塩が提供される。ここで、nは1〜3である。Mは周期表13族に属する元素(例えばAl,B)である。Yはオリゴエーテル基である。RXは炭素数1〜3のハロゲン化アルキル基(例えば、トリフルオロメチル基)である。 (もっと読む)


1 - 20 / 22