【課題】
揮発性成分が少なく、各種処理剤の成分として使用してもアルコール発生量が少ないβ−ケトエステル構造を有する有機ケイ素化合物として新規なオルガノポリシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】平均組成式：
Ｙ_ａＲ^１_ｂＲ^２_ｃＳｉ（ＯＲ³）_ｄ（ＯＨ）_eＯ_{（４−ａ−ｂ−ｃ−ｄ−ｅ）／２}
（式中、Ｙは少なくとも一部がエノール化していてもよいβ-ケトエステル基を有する有機基、Ｒ^１はメルカプト基、エポキシ基、（メタ）アクリロイルオキシ基等の官能基を含んでもよい一価炭化水素基であり、Ｒ^２は官能基を含まない一価炭化水素基、Ｒ³は一価炭化水素基、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，及びｅは、それぞれ、０．０１≦ａ≦１、０≦ｂ＜１、０≦ｃ≦２、０≦ｄ≦２、及び０≦ｅ≦１で示される数であって、かつ２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦３を満たす。）
で表されるオルガノポリシロキサン化合物。 （もっと読む）

本発明は、元素周期表の第ＶＩＩＩ副族の金属と式（Ｉ）の少なくとも１つの化合物との少なくとも１つの錯体を有し、その際、Ｐｎはプニコゲンを表し；Ｗは両側の結合の間の１〜８つの架橋原子を有する二価の架橋基を表し；Ｒ¹は式（Ｉ）の化合物の基−Ｘ（＝Ｏ）ＯＨと少なくとも１つの分子間の非共有結合を形成することができる官能基を表し；Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ場合により置換されたアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール又はヘタリールを表すか、又はプニコゲン原子と一緒に、存在する場合には基Ｙ²及びＹ³と一緒に縮合されていない又は縮合されている及び非置換の又は置換された５〜８員の複素環を表し；ａ、ｂ及びｃは０又は１を表し；及びＹ¹、Ｙ²、Ｙ³は相互に無関係にＯ、Ｓ、ＮＲ^a又はＳｉＲ^bＲ^cを表し、その際、Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^cはＨ又はそれぞれ非置換であるか又は置換されたアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール又はヘタリールを表す触媒の存在でα，β−不飽和カルボン酸又はその塩を一酸化炭素及び水と反応させることによるアルデヒドの製造方法；並びにα，β−不飽和カルボン酸の脱カルボキシルヒドロホルミル化のための前記触媒の使用に関する。
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【課題】本発明は、核内受容体ＲＡＲαへの作用が増強され、ＲＡＲα転写活性化作用に基づく抗腫瘍活性を有する新規な低分子化合物を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、一般式（Ｉ）


[式中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を示し、Ａｒは、アリール基又はヘテロアリール基を示し、Ｒ^１及びＲ^２は、同一又は相異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はトリフルオロメチル基を示し、Ｒ^３は、水素原子又は低級アルキル基を示す。]で表される、アリールカルボン酸化合物又はその薬理学的に許容される塩を提供する。 （もっと読む）

【課題】チタン含有溶液を出発原料にしてペルオキソチタン錯体を製造する方法において、少ない工程でしかも製造時のエネルギー消費の少ない製造方法を提供すること。
【解決手段】四塩化チタン溶液に過酸化水素、錯化剤及びアルカリを添加する工程を含み、脱イオン工程を有しないことを特徴とするペルオキソチタン錯体溶液の製造方法である。また、前記ペルオキソチタン錯体溶液を乾燥することを特徴とするペルオキソチタン錯体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】経済的なアリールシラノール化合物の製法の提供。
【解決手段】式（１）化合物に酸化剤を反応させてシラノール化合物（２）を製造する。




〔Ｒ^１は置換基を有していてもよいアリール基等、Ｒ^２、Ｒ^３はアルキル基、Ｘはハロゲン等を示し、ｎは１〜３である〕 （もっと読む）

本発明は、¹⁸Fのために適切な又は¹⁸Fによりすでに放射性ラベルされた新規化合物、そのような化合物の製造方法、及びそのような化合物の診断イメージングのためへの使用に関する。そのようなラベルされた化合物は、式II（式中、F, R¹, R², B^1,2、Y^1,2、Z^1,2及びEは明細書及び請求項において定義されるような意味を有する）により特徴づけられる。
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本発明は、抗ウイルス剤エンテカビルの製造方法を提供する。本発明はまた、エンテカビルの単離および精製のための樹脂吸着製法をも提供する。本発明は、エンテカビルの製造に有用な様々な中間体をも提供する。 （もっと読む）

ジクチオスタチン及びそのアナログは、新規抗癌剤として非常に有望であることを示す。本発明は、ジクチオスタチンアナログ、ジクチオスタチンアナログの合成のための合成中間体、並びにそのようなアナログ及び中間体の合成のための合成法を提供する。ジクチオスタチンアナログは、下記構造又はそのエナンチオマー(I)を有することができる：(式中、R¹は、H、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、又はハロゲン原子であり；R²は、H、保護基、アルキル基、ベンジル基、トリチル基、-SiR^aR^bR^c、CH₂OR^d、又はCOR^eであり；R^a、R^b及びR^cは、独立して、アルキル基又はアリール基であり；R^dは、アルキル基、アリール基、アルコキシルアルキル基、-RⁱSiR^aR^bR^c 又はベンジル基であり(式中、Rⁱはアルキレン基である。)；R^eは、アルキル基、アリル基、ベンジル基、アリール基、アルコキシ基、又は-NR^gR^hであり(式中、R^g及びR^hは、独立して、H、アルキル基又はアリール基である。)；R³は、(CH₂)_n (式中、nは0〜5の範囲の整数である)、-CH₂CH(CH₃)-、-CH=CH-、-CH=C(CH₃)-、又は-C≡C-であり；R⁴は、(II)であり：(式中、R^23aは、H、保護基、アルキル基、ベンジル基、トリチル基、-SiR^aR^bR^c、CH₂OR^d、もしくはCOR^eであり、R^23bは、H、保護基、アルキル基、ベンジル基、トリチル基、-SiR^aR^bR^c、CH₂OR^d、もしくはCOR^eであるか、又はR^23a及びR^23bは一緒に、CR^tR^uを組込んでいる6-員のアセタール環の一部を形成し；R^t及びR^uは、独立して、H、アルキル基、アリール基又はアルコキシアリール基である。)；並びに、R⁵は、H又はOR^2bであり(式中、R^2bはH、保護基、アルキル基、アリール基、ベンジル基、トリチル基、-SiR^aR^bR^c、CH₂OR^d、又はCOR^eである。)；但し、この化合物は、ジクチオスタチン1ではない。)。
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構造（Ｉ）のモノマーの重合により形成されたモノマー単位を有するポリマーとコポリマー（ここで、Ｒ¹はエチレン性不飽和の重合性基を含む部分構造であり、Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₃のアルキレン基であり、Ｒ³は、Ｃ₁〜₁₀の線状若しくは環状アルキル基、Ｃ₆〜₁₀の芳香族若しくは置換芳香族基、Ｃ₁〜₈のアルコキシメチル基、又はＣ₁〜₈のアルコキシエチル基である）は、感光性組成物のバインダー樹脂として、また、半導体デバイスや材料の製造におけるフォトリソグラフィープロセスに有用である。
【化１】

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