【課題】 ブロックコポリマーの自己組織化を利用し、低コストで周期パターンと非周期パターンを形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 実施形態のパターン形成方法では、被加工膜上でブロックコポリマーを自己組織化させて第１のブロック相および第２のブロック相を含むパターンを形成する。また、第１の条件で露光と現像を行い第１の領域に存在するブロックコポリマー全体を除去し、第１の領域以外の領域に第１のブロック相および第２のブロック相を含むパターンを残存させる。また、第２の条件で露光と現像を行い第２の領域に存在する第１のブロック相を選択的に除去し、第１の領域以外の領域と第２の領域以外の領域との重なり領域に第１のブロック相および第２のブロック相を含むパターンを残存させる。また、重なり領域を除く第２の領域に第２のブロック相のパターンを残存させ、残存したパターンをマスクとして被加工膜をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】金属ナノ構造体の形状・サイズがより自在にデザインされた金属ナノ構造体を表面に備える基板を製造し得る方法の提供。
【解決手段】複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を基板表面に形成した後、当該層を相分離させる工程と、前記層のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のポリマーのうちの少なくとも一種類のポリマーからなる相を選択的に除去し、前記基板表面の一部を露出させる工程と、露出された基板表面に金属イオンを接触させ、基板表面と金属イオンとの間に起こる電気化学反応により、当該基板表面に金属を析出させる工程と、を有する金属ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法、並びに当該製造方法により製造された金属ナノ構造体を表面に備える基板。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。
【解決手段】まず、基板１０１の上に、化学増幅型レジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。次に、レジスト膜１０２に極紫外線からなる露光光を選択的に照射してパターン露光を行う。続いて、パターン露光されたレジスト膜１０２を加熱し、加熱されたレジスト膜１０２を現像して、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。化学増幅型レジスト材料は、アニオン部及びカチオン部を持つオニウム塩を有し且つアニオン部であるスルフォン酸基と共有結合した基を含む第１のモノマーユニットと、酸脱離基を含む第２のモノマーユニットとを含むブロックポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】面内の位相差が小さく、耐衝撃性に優れるフィルムを提供する。
【解決手段】面内の位相差が１ｎｍ以下であるフィルムを、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとを合計３ブロック以上有し、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの含有率が８２重量％〜９０重量％、ジエン化合物水素化物ブロックの含有率が１０重量％〜１８重量％であり、少なくともポリマー鎖の一端以上が芳香族ビニル化合物水素化物ブロックからなるビニル脂環式炭化水素重合体を含む層を設けることにより実現する。 （もっと読む）

【課題】 ―方向に迅速に動作する有機高分子アクチュエータを提供すること。
【解決手段】 ブロック共重合体の交互ラメラ構造を有する有機高分子薄膜、溶液部、および該高分子薄膜および溶液部をはさんだ電極からなる有機高分子アクチュエータ。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、軟質性、パラフィンオイル耐油性、流動性、耐傷つき摩耗性、力学物性に優れる熱可塑性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】特定の条件を満たすクロス共重合体及び特定のポリエステル系樹脂、特に熱可塑性ポリエステルエラストマー（ＴＰＥＥ）を含む樹脂組成物であって、クロス共重合体５〜９９質量％、ポリエステル系樹脂が９５〜１質量％の範囲であることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物であり、耐熱性、軟質性、パラフィンオイル耐油性、流動性、耐傷つき摩耗性、力学物性に優れる。
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【課題】低光沢性耐候性熱可塑性樹脂およびその製造方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸アルキルエステル系重合体（Ａ）および芳香族ビニル−シアン化ビニル系共重合体（Ｂ）を含み、前記（メタ）アクリル酸アルキルエステル系重合体（Ａ）はネットワーク状の分散相を形成し、前記芳香族ビニル−シアン化ビニル系共重合体（Ｂ）は連続相を形成する低光沢性耐候性熱可塑性樹脂である。 （もっと読む）

【課題】カチオン重合可能なビニル系モノマーとラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体を、簡便かつ高収率で得る製造方法を提供する
【解決手段】ＲＡＦＴ剤の存在下にカチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合させ、得られたリビングポリマーにラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合させることを特徴とする、該カチオン重合可能なビニル系モノマーと該ラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体の製造法。 （もっと読む）

【課題】
基板上に離散的に配置した化学パターンに対して自己組織化により化学的パターンを補間し、長距離秩序性に優れ、低欠陥の相分離構造を発現させる方法を提供する。
【解決手段】
少なくとも第１セグメントおよび第２セグメントを有する高分子ブロック共重合体を含む高分子層を基板表面に配置する第１段階と、高分子層をミクロ相分離させ、第１セグメントを成分にする連続相とこの連続相の貫通方向に配列し第２セグメントを成分にするミクロドメインとから形成される構造を発現させる第２段階とを有し、基板は、ミクロドメインが形成される位置に離散的に配置された基板表面とは化学的性質の異なるパターン部材を有し、第１段階で配置する高分子層の厚みｔと、高分子ブロック共重合体が形成するミクロドメインの固有周期ｄの関係が、（ｍ＋０.３）×ｄ＜ｔ＜（ｍ＋０.７）×ｄであり、ｍが０以上の整数であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】紫外線露光装置を用いて選択的にミクロ相分離構造を形成することが可能なブロック共重合体およびそれを用いて基板に微細パターンを低コストで形成できる基板の加工方法を提供する。
【解決手段】疎水性モノマの繰り返し構造を備えた疎水性ブロックと、親水性官能基を有する親水性モノマの繰り返し構造を備えた親水性ブロックとを基本骨格として有するブロック共重合体であって、前記親水性官能基の少なくとも一部が疎水性の保護基により被覆され、前記疎水性の保護基により被覆された親水性ブロックと前記疎水性ブロックとは互いに相溶であり、且つ前記親水性官能基を被覆している疎水性の保護基は、光照射により前記親水性官能基より脱離するブロック共重合体およびそれを用いて基板に微細パターンを形成する基板の加工方法。 （もっと読む）

【課題】ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンからなる共重合体とビニル芳香族炭化水素系樹脂との組成物を用いて成形加工を行う樹脂換えの際に、樹脂成形機内の残留先行樹脂の洗浄を確実に行う。
【解決手段】樹脂成形機内の組成物Ａを組成物Ｂに切り替える際に、置換パージ材により樹脂成形機内を洗浄するパージング方法において、組成物Ａ及び組成物Ｂとしては、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとからなる共重合体とビニル芳香族炭化水素系樹脂との組成物を用い、置換パージ材としては、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの共重合体からなり、当該共重合体のビニル芳香族炭化水素含有量が８０〜９７質量％、共役ジエンの含有量の合計が２０〜３質量％であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定による数平均分子量が３万〜５０万であり、２０万以上の分子量比率が１５〜７０質量％である洗浄用樹脂を用いる。 （もっと読む）

【課題】透明性樹脂の成形加工を行う際の、樹脂換えや色換え時に、成形機内の残留先行樹脂の洗浄に有効な洗浄用樹脂及びそれを用いた洗浄用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの共重合体からなり、共重合体におけるビニル芳香族炭化水素含有量が８０〜９７質量％、共役ジエン含有量が２０〜３質量％であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定による数平均分子量が３万〜５０万であって、２０万以上の分子量比率が１５〜７０質量％である洗浄用樹脂を提供する。 （もっと読む）

（ａ）２００，０００から３００，０００のピーク見掛け分子量を有する、一般式（Ａ−Ｂ）で表される線状ジブロックコポリマー（Ｉ）、
（ｂ）一般式（Ａ−Ｂ）_２Ｘで表される、線状２腕ブロックコポリマー（ＩＩ）、
（ｃ）式（Ａ−Ｂ）_３Ｘで表される、３腕ブロックコポリマー（ＩＩＩ）、
（ｄ）式（Ａ−Ｂ）_ｎ＞３Ｘで表される、３腕を超えるブロックコポリマー（ＩＶ）、
（ｅ）前記線状ジブロックコポリマー（Ｉ）未満のピーク見掛け分子量を有する側面ポリマー構造（ＳＰＳ）、
を含み、Ａは、主としてポリ（モノビニル芳香族炭化水素）のブロックを表し、前記ポリ（モノビニル芳香族炭化水素）含有量は２０から３５重量％の範囲にあり、Ｂは、主としてポリ（共役ジエン）のブロックを表し、Ｘは、３官能および／または４官能カップリング剤の残基である高分子量結合ブロックコポリマー組成物であり、前記ブロックコポリマー組成物は、４５０，０００から８００，０００の範囲の重量平均分子量Ｍｗを有し、ブロックコポリマーの相対量は、前記全ブロックコポリマー組成物の重量に対して、それぞれ、Ｉは５から１５重量％であり、ＩＩおよびＩＩＩは合わせて７０から９０重量％であり、ＩＩＩは１０重量％超であり、ＩＶは１０重量％未満であり、ＳＰＳは１０重量％未満であることに相当し、それぞれの成分の合計は１００％になる、高分子量結合ブロックコポリマー組成物。 （もっと読む）

制御されたラジカル重合のための光イニファータが記載される。光イニファータが、テレケリック（コ）ポリマーを提供するためのアズラクトン部分を有する。 （もっと読む）

【課題】 医療用素材として、コスト、成型性等の面で実用的であり、かつ良好な抗血栓性を有する高分子組成物、ならびに該高分子組成物用いた医療用材料を提供する。
【解決手段】 〔Ａ〕次の一般式（１）で表される重合体ブロックと、一般式（２）で表される重合体ブロックを含む二元以上のブロック共重合体、及び〔Ｂ〕ポリスチレン系重合体により抗血栓性高分子組成物を構成する：
【化１】
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