均質な薄膜を形成することができるポリ弗化ビニリデン系共重合体、その溶液及びポリ弗化ビニリデン系共重合体からなる薄膜を提供する。本発明にかかるポリ弗化ビニリデン系共重合体は、ジメチルフォルムアミドの光散乱強度（Ｉ_０）に対するジメチルフォルムアミドを溶媒としたポリ弗化ビニリデン系共重合体の濃度が１５％の溶液の光散乱強度（Ｉ）の比（Ｉ／Ｉ_０）が１０以下であることを特徴とする。ポリ弗化ビニリデン系共重合体の溶液は、ポリ弗化ビニリデン系共重合体と該共重合体を溶解可能な有機溶液とからなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、特定の官能基を主鎖末端および／または側鎖末端に含む含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。また、該含フッ素エラストマーからなる硬化性組成物、該硬化性組成物を架橋して得られる成形品を提供する。
【解決手段】主鎖末端および／または側鎖末端に−Ａ（Ａ：ハロゲン原子）部位を有する含フッ素エラストマーと、一般式（１）：
【化１】


（Ｍ：アルカリ金属、Ｓ：硫黄原子、Ｒ¹：２価以上の有機基または直接結合、Ｘ¹：架橋性官能基、ｍ：１〜３の整数）で示されるチオール金属塩とを反応させて、前記−Ａ部位を一般式（２）：
【化２】


（Ｒ¹：２価以上の有機基または直接結合、Ｓ：硫黄原子、Ｘ¹：架橋性官能基、ｍ：１〜３の整数）で示される部位に変換する工程を含む含フッ素エラストマーの製造方法である。 （もっと読む）

真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にＦ２レジスト用として超微細パターンを形成することができる含フッ素重合体であって、炭素数２または３のエチレン性単量体であって少なくとも１個のフッ素原子を有する含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）に由来する繰り返し単位（Ｍ１）および／または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体（ｍ２）に由来する繰り返し単位（Ｍ２）を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ^１または酸反応性基Ｙ^１に変換可能な基Ｙ^２を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）および／または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体（ｍ２）をフッ素原子を有する重合開始剤を用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】官能基含有重合体を、黄変や高分子量化、熱劣化を惹き起こさずに、比較的小規模の装置により短時間でかつ多量に連続して処理する方法を提供する。
【解決手段】１つのベント口を有しかつ内部が減圧および／または加熱されている混練機の供給口から、揮発成分を含んでいてもよい官能基含有重合体（Ａ）と該重合体（Ａ）を溶解している有機溶剤（Ｂ）とを含む官能基含有重合体の有機溶剤溶液（Ｃ）を供給し、混練中に揮散する有機溶剤（Ｂ）および揮発成分をベント口から排出しつつ官能基含有重合体を溶融状態または固体状態で取出し口から回収することを特徴とする揮発分含有量が低減化された官能基含有重合体の製造法。この製造法は、特に粉体塗料用含フッ素共重合体の製造に適する。 （もっと読む）

【解決手段】 新規なコポリマーを開示する。該コポリマーは、下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ｐ１）の少なくとも一種を１〜９９ｍｏｌ％、及び下記一般式（２）で表される繰り返し単位（Ｐ２）の少なくとも一種を９９〜１モル％含むコポリマーである。式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴及びＬ¹〜Ｌ⁴はそれぞれ、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、又は任意の置換基を表し；Ｘ及びＹはそれぞれ酸素原子（Ｏ）または硫黄原子（Ｓ）を表し；ｎ１は２〜４のいずれかの整数を表し、ｌ及びｍはそれぞれ、繰り返し単位の反復数を表すが；ただし、Ｒ¹〜Ｒ⁴の少なくとも一つはフッ素原子（Ｆ）ではなく、Ｌ¹〜Ｌ⁴の基の中に必ずフッ素原子を１個以上含み；Ｌ¹〜Ｌ⁴の中から選ばれる２つが環状構造をとってもよい。
【化２７】
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構造（１ａ）または（１ｂ）
【化１】


（式中、ＺはＳ、ＳＯ_２、またはＰＯＲ（ここで、Ｒは場合により酸素もしくは塩素を含有していてもよい１〜１４個の炭素原子の線状もしくは分枝パーフルオロアルキル基、１〜８個の炭素原子のアルキル基、６〜１２個の炭素原子のアリール基または６〜１２個の炭素原子の置換アリール基を含んでなる）を含んでなり、；Ｒ_Ｆは場合により酸素もしくは塩素を含有していてもよい１〜２０個の炭素原子の線状もしくは分枝パーフルオロアルケン基を含んでなり；ＱはＦ、−ＯＭ、−ＮＨ_２、−Ｎ（Ｍ）ＳＯ_２Ｒ^２_Ｆ、および−Ｃ（Ｍ）（ＳＯ_２Ｒ^２_Ｆ）_２（ここで、ＭはＨ、アルカリカチオン、またはアンモニウムを含んでなる）から選択され、；Ｒ^２_Ｆ基は場合によりエーテル酸素を含んでいてもよい１〜１４個の炭素原子のアルキルまたは６〜１２個の炭素原子のアリールを含んでなり、ここで、アルキルまたはアリール基は過フッ素化または部分フッ素化されていてもよく；かつ、ｎは１ａについては１または２であり、そしてｎは１ｂについては１、２、または３である）を含んでなる少なくとも１つのグラフトモノマーを少なくとも１つのベースポリマーへグラフトすることによって製造されたフッ素化イオン交換高分子。これらのイオン交換高分子は、燃料電池で使用される触媒コート膜および膜電極アセンブリを製造するのに有用である。
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同じ重合体鎖末端に２個の反応性基を有するテレケリックポリマーを開示する。これらの重合体は、シクロボラン開始剤と、少なくとも１個のフリーラジカル重合性単量体と、酸素とを結合することによって、シクロボラン開始剤から得られる重合体セグメントの一端にボラン残基を有する重合体セグメントを形成することで製造することができ、該ボラン残基を、少なくとも２個の官能基に変換して、テレケリックポリマーを形成する。 （もっと読む）

少なくとも一種のフルオロオレフィンを含むフルオロポリマーの製造方法であって、式（１）：
［化１］


（式中、Ｒ¹、Ｒ²は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、アルキル基またはアルケニル基、Ｒ³は、水素原子、アルキル基またはアルケニル基であって、Ｒ¹〜Ｒ³の合計炭素数が２〜２５であり、Ｌ^-は−ＳＯ₃^-、−ＯＳＯ₃^-、−ＰＯ₃^-、−ＯＰＯ₃^-または−ＣＯＯ^-であらわされる基であり、Ｍ⁺は１価のカチオンである）で示される界面活性剤の存在下で、重合を行なうことからなるフルオロポリマーの製造方法に関する。これにより、少量の界面活性剤の存在下で、生産効率よく、重合を行なうことができ、かつ、界面活性剤により耐水性などの諸物性を低下させることなく、フルオロポリマーを製造することができる。 （もっと読む）

本発明は、末端基の安定性が高く、成形性に優れた含フッ素重合体の製造方法を提供することを目的とするものである。 本発明は、特定不安定末端基（Ｐ）を有する溶融加工可能な含フッ素重合体（Ａ）を安定化処理領域を含む混練機内で溶融混練することにより上記特定不安定末端基（Ｐ）が−ＣＦ_２Ｈに変換されてなる含フッ素重合体（Ｂ）を製造する含フッ素重合体製造方法であって、上記特定不安定末端基（Ｐ）は、アルコキシカルボニル基、フルオロアルコキシカルボニル基及び／又はカルボキシル基４級窒素化合物塩であり、上記溶融混練は、アルカリ金属元素若しくはアルカリ土類金属元素の存在下又は不存在下に行うものであり、上記アルカリ金属元素又はアルカリ土類金属元素は、質量が溶融混練物の２ｐｐｍ以下であり、上記安定化処理領域内における溶融混練は、水存在下に行うものであることを特徴とする含フッ素重合体製造方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、重合上がりの含フッ素重合体水性分散液に含まれる含フッ素乳化剤を効率的に除去することができる含フッ素重合体水性分散体の製造方法、及び、含フッ素乳化剤濃度が低い含フッ素重合体水性分散体を提供するものである。
本発明は、処理前含フッ素重合体水性分散液に濃縮操作からなる濃縮処理を行うことよりなる含フッ素重合体水性分散体の製造方法であって、上記処理前含フッ素重合体水性分散液は、含フッ素界面活性剤（Ａ）の存在下に水性媒体中にてフッ素含有単量体を重合することにより得られたものであり、上記含フッ素界面活性剤（Ａ）は、オクタノール／水分配係数が１．５〜３．５である含フッ素界面活性剤であることを特徴とする含フッ素重合体水性分散体の製造方法である。 （もっと読む）