【課題】 正帯電性に優れたアクリル重合体粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】水性媒体中、シード粒子の存在下、該シード粒子に、アクリル系重合性モノマーを吸収させて、シード乳化重合を行い、アクリル系重合体粒子を製造する工程を含み、
前記シード粒子がビニル系重合体粒子、前記アクリル系重合性モノマーが（メタ）アクリルエステル系モノマーを４０〜１００重量％、及び前記（メタ）アクリルエステル系モノマーと共重合可能なビニル系重合性モノマー０〜６０重量％の配合物であり、
前記（メタ）アクリルエステル系モノマーのエステル部の置換基の炭素数が４以上１０以下であり、
前記アクリル系重合体粒子のブローオフ帯電量が＋３０〜＋８０μＣ／ｇであることを特徴とする重合体粒子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、２回目のパターニングの影響を受けにくい第一のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】ダブルパターニングプロセスにおいて、第一のレジスト膜を形成するポジ型レジスト組成物として用いられ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含フッ素化合物成分（Ｆ）とを含有し、当該（Ｆ）成分が、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）のみを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）および前記構成単位（ｆ１）と側鎖に特定の基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ２）からなる群から選択される少なくとも一種の含フッ素樹脂成分を含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用によりネガ現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、重量平均分子量が１,０００以上２０,０００未満であり、反応性グループを含まないバインダー樹脂１および重量平均分子量が２０,０００以上８０,０００未満であり、反応性グループを含むバインダー樹脂２を混合させたアルカリ可溶性バインダー樹脂を使用した半透過型構造のＬＣＤに適した感光性樹脂組成物に関するものである。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、高解像度の精細なパターンの形成が可能で且つ下部基板との密着性に優れた効果がある。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、および当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と下記一般式（ｆ２−１）［式中、Ｗは多環式の脂肪族環式基を含む基である。］で表される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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【課題】マイクロブリッジ欠陥やＢＬＯＢ欠陥と呼ばれる各種現像欠陥が低減されたパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により保護基が脱離してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有する疎水性樹脂、を含有してなり、樹脂(A)が、極性基を含む保護基を有する繰り返し単位を有し、かつ、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物：(x)アルカリ可溶性基；(y)アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基；(z)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基。 （もっと読む）

【課題】高触感性能と防汚性能の両方を備えた被膜を形成することができる高触感防汚樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フルオロオレフィンからなる単位を含むと共にＯＨ価で１００ｍｇ（ＫＯＨ／ｇ樹脂）を超えて２３０ｍｇ（ＫＯＨ／ｇ樹脂）を超えない量の反応に寄与する水酸基を有するアクリルポリオールと、高分子微粒子と、イソシアネート樹脂とを含有する。高分子微粒子は、アクリル系、ウレタン系、シリコン系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系から選ばれる材料からなり、平均粒子径が１０μｍを超えて２０μｍを超えないと共に、かつ含有量が組成物の全樹脂固形分に対して２０質量％を超えて〜４０質量％を超えない。 （もっと読む）

【課題】各部位での濃度むら、色むらが抑制され、耐溶剤性および明度に優れた信頼性の高いカラーフィルターを提供すること、該カラーフィルターの製造に好適に用いることができる液滴の吐出安定性に優れたインクジェット方式のカラーフィルター用インクを提供すること、また、該カラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルター用インクは、イインクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられるカラーフィルター用インクであって、着色剤と、前記着色剤を分散および／または溶解する液性媒体と、下記式（７）で表される重合体Ｘと、ハイドロ無水フタル酸化合物とを含むことを特徴とする。
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【課題】現像欠陥の発生が抑制され、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中の符号は、明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】本発明は、電圧無印加時に液晶分子が垂直配向している状態を利用する液晶表示装置及びその製造方法に関し、現状の垂直配向膜の形成工程を省略してコストダウンを実現できる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】化学式１
【化１】


（ここで、Ｘはアクリレート基もしくはメタクリレート基を示し、Ｒはステロイド骨格を有する有機基を示す）
の構造を有する単官能モノマー２を含み、基板間に液晶材料５を挟持してから、紫外線を照射して単官能モノマー２を硬化して基板２２界面にポリマー膜４を形成するように構成する。単官能モノマー２は、アルキル鎖等の疎水性骨格２ａと骨格の片側に光反応基２ｂとを有している。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れる。
【解決手段】アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって、下記式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位と、下記式（２）で表されるラクトン構造を有する繰り返し単位との２成分のみからなる共重合体である酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂成分と、放射線により酸を発生する酸発生成分とを含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】酸の拡散が被パターン化樹脂膜の全面に均一に十分な精度をもって行うことができ、その結果、被パターン化樹脂膜の全面に均一優れた寸法安定性が得られる酸転写用膜を得ることができる酸転写用組成物、これを用いてなる酸転写用膜、及びこの酸転写用膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）感放射線性酸発生剤、（Ｂ）含窒素基を有する重合体、及び、（Ｃ）ケトン系溶剤、を含有する組成物。（Ｂ）重合体は特定の(メタ)アクリルアミド構成単位を有することが好ましい。この組成物を用いてなる酸転写用膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、重合性の液晶組成物を構成した場合他の液晶化合物と優れた溶解性を有し、前記重合性の液晶組成物を硬化させた場合に優れた耐熱性及び機械強度を示す重合性化合物を提供することである。
【解決手段】
【化１】


で表わされる重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする液晶組成物、更に、当該液晶組成物を用いた光学異方体、又は液晶デバイスを提供する。本願発明の重合性化合物は、他の液晶化合物との優れた溶解性を有することから重合性組成物の構成部材として有用である。又、本願発明の重合性化合物を含有する重合性成物は、液晶相温度範囲が広く当該重合性組成物を用いた光学異方体は、耐熱性が高く、偏向板、位相差板等の用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】顔料の分散安定性に優れ、長期間にわたって優れた吐出安定性を保持することができ、各部位での色むら、濃度むらが抑制され、コントラスト比に優れた画像を表示することができ、個体間での特性の均一性に優れたカラーフィルター用インクの提供。
【解決手段】本発明のカラーフィルター用インクは、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられるものであり、顔料と、下記式（８）で表される重合体Ｍと、前記顔料が分散する分散媒と、下記式（１０）で表される化合物Ａとを含有するものである。


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【課題】 発光ダイオード用封止材や有機ＥＬパネル用充填剤に好適な、光学的透明性、耐熱性に優れ、低硬化収縮率、低弾性率、低吸水率を有する硬化物を得ることができる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、及び脂環式（メタ）アクリレートを含有する発光ダイオード封止材用硬化性樹脂組成物；ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、及び脂環式（メタ）アクリレートを含有する有機ＥＬパネル充填剤用硬化性樹脂組成物；脂環式（メタ）アクリレートはイソボルニル（メタ）アクリレート、またはフェンチル（メタ）アクリレートが好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】〈１〉酸の作用でアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位とラクトン構造含有繰り返し単位を有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料を、基板上に塗布して第１レジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で露光し、加熱処理後にアルカリ現像し、ラインパターンを主とした第１レジストパターン形成工程と
〈２〉上記パターン上にレジスト変性用組成物を塗布、加熱する変性処理工程と
〈３〉変性処理後の第１パターン上に第２ポジ型レジスト材料を塗布、加熱処理後に露光し、加熱処理後にアルカリ現像し、第１レジストパターンと平行にラインパターンを主とした第２レジストパターンを形成する工程
を含むパターン形成方法で、変性処理後のレジスト膜未露光部の純水接触角が５０〜８５度である。
【効果】本発明により、２回の露光と１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを行える有用なパターン形成方法及びレジスト変性用組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に、連結基を介してその環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−１）、側鎖に、酸解離性基を有するエステル基と、連結基を介したエステルを縦に連結した（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−２）、および側鎖に酸解離性基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ１−０−１）を有し、全構成単位に対し、構成単位（ａ０−１）の割合は１０〜４０モル％であり、構成単位（ａ０−２）の割合は５〜２０モル％であり、構成単位（ａ１−０−１）の割合は１０〜５５モル％である高分子化合物（Ａ１）。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に用いたときに異物の発生が少ない液浸露光用化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供する。
【解決手段酸】酸発生剤、樹脂、塩基性化合物、溶剤及び界面活性剤を含有する液浸露光用化学増幅型フォトレジスト組成物であり、該組成物の固形分中のフッ素含有率が０．５質量％以下であることを特徴とする組成物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性が良好で、透明性が高く、耐擦傷性、帯電防止性に優れた硬化皮膜を与える光硬化性樹脂組成物、及びその硬化皮膜を有する物品を提供する。
【解決手段】（１）平均粒子径が８０ｎｍ以下の無機酸化物微粒子、（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物、（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物、（４）脂肪族アミン系イオン性化合物、（５）ラジカル系光重合開始剤を含有してなり、（１），（２），（３）成分の合計１００質量部中、（１）成分が２５〜７０質量部、（２）成分が２０〜７０質量部、（３）成分が５〜３０質量部であり、（１），（２），（３）成分の合計１００質量部に対して、（４）成分が０．０５〜３質量部、（５）成分が１〜８質量部であり、実質的に溶剤を含有せず、２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】比誘電率の低い層間絶縁膜を構成する硬化パターンの形成に好適なネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法及びこの硬化パターン形成方法により得られた硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、［Ａ］シラノール基を有するポリシロキサン、［Ｂ］下記一般式（１）で表される構造単位を有し、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００である重合体、及び、［Ｃ］溶剤を含有する。
【化１】
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