【課題】低湿度の条件下でも保水性を維持し、高湿度の条件下でもベタつきを感じさせず、粘性がなく又はほとんどなく、他の成分の感触、官能に影響を与えることのない水溶性ポリマーを提供すること。
【解決手段】ポリマーの骨格部分として（メタ）アクリル酸を選択し、導入基としてアミド化合物を選択し、さらに水溶性のホモポリマーを与える重合性単量体をコモノマー成分として使用し、架橋剤を用いずに重合させて得られた、優れた保水性を示すと共に、粘性が非常に低く、化粧料に配合した場合に他の成分の感触・官能に影響を与えずに十分な保湿性を実感させることができる水溶性のコポリマー。 （もっと読む）

【課題】ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ₂ エキシマレーザーあるいはＥＵＶに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、解像度やラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基盤密着性に優れた樹脂組成物およびその原料化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される脂環式エステル化合物。
【化１】


（式中、Ｒ₁は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ₂〜Ｒ₄は、同一または異なって、メチル基またはエチル基を示し、Ｚは、炭素数４〜１５の２価の炭化水素基を示し、両端で結合する炭素原子と共に環状の炭化水素を形成する。炭化水素基においては、水素原子がハロゲン原子、アルコキシ基で置換されていても良い。） （もっと読む）

【課題】下塗り反射防止層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物を提供する。
【解決手段】上塗りフォトレジスト層の現像中の単一工程をはじめとする水性アルカリ現像剤で現像されうる有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物が提供される。好ましいコーティング組成物は少なくとも４種の異なる官能基を含むテトラポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】焦点深度が広く、パターン剥がれ耐性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式(ａ−１)で示される繰り返し単位と、下記一般式（ａ−２）で示される繰り返し単位と、を有し、ＧＰＣ重量平均分子量が１０００〜１０００００である重合体。


（一般式（ａ−１）、（ａ−２）中、Ｒ^０はヒドロキシ基を有するアルキル基、Ｒ^１は水素原子等、Ｒ^２およびＲ^３は炭素数１〜４のアルキル基等を示す。） （もっと読む）

【課題】適正な現像時間を有し、かつ、形状や基板への密着性も良好なスペーサを形成することが可能な感光性樹脂組成物、及びその感光性樹脂組成物から形成されたスペーサを有する液晶パネルを提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、例えば、不飽和カルボン酸から誘導される構成単位（ａ１）と、脂環式基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ２）と、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ３）とを有し、構成単位（ａ２）の割合と構成単位（ａ３）の割合との合計が７１質量％以上である。 （もっと読む）

【課題】エチレン・α−オレフィン共重合体とシランカップリング剤などを含有し、耐熱性、透明性、柔軟性に優れる太陽電池封止材用樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記の特性を有するエチレン・α−オレフィン共重合体成分（Ａ）、有機過酸化物成分（Ｂ）、エチレンと式（Ｉ）で表される環状アミノビニル化合物との共重合体成分（Ｃ）及びシランカップリング剤成分（Ｄ）を含有することを特徴とする太陽電池封止材用樹脂組成物によって提供。
（ａ１）密度が０．８６０〜０．９２０ｇ／ｃｍ^３
（ａ２）ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めたＺ平均分子量（Ｍｚ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｚ／Ｍｎ）が８．０以下
（ａ３）１００℃で測定した、せん断速度が２．４３×１０ｓ^−１での溶融粘度が９．０×１０^４ｐｏｉｓｅ以下
（ａ４）１００℃で測定した、せん断速度が２．４３×１０^２ｓ^−１での溶融粘度が１．８×１０^４ｐｏｉｓｅ以下 （もっと読む）

【課題】 有機ハロゲン化物、金属銅又は銅化合物の錯体を重合触媒とするリビングラジカル重合法を利用し、（メタ）アクリル系重合体を製造するに当たり、従来と比較して低濃度な銅触媒であっても分子量、分子量分布などの重合体構造を制御しつつ、従来の重合速度で生産性を落とすことなく重合可能な条件を提供するものである。
【解決手段】 反応系中に有機ハロゲン化物、金属銅又は銅化合物、ポリアミン化合物及びアセトニトリルが存在する（メタ）アクリル系単量体のリビングラジカル重合法において、アセトニトリルと重合触媒のモル比（アセトニトリル／重合触媒）を２０以上１００以下とする。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）が低減された良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の合成に利用できる化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ、前記酸解離性溶解抑制基が１，３−ジオキソール骨格を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた形状、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用によりカルボキシル基及びヒドロキシ基を生じかつラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ１−３）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物及び化学増幅型フォトレジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ドライピック強度およびウェットピック強度、印刷光沢に優れ、かつ、ラテックスの粘着性（ベタツキ性）の少ない紙塗工用共重合体ラテックスを提供すること。
【解決手段】脂肪族共役ジエン系単量体３０〜７０重量部、エチレン系不飽和カルボン酸単量体１〜１０重量部およびその他の共重合可能な単量体２０〜６９重量部からなる単量体（合計１００重量部）を、α−メチルスチレンダイマー０．１〜４．５重量部の存在下で乳化重合してなる共重合体ラテックスであり、かつ共重合体ラテックス中に残留する２，４ジフェニル−４−メチル−１−ペンテンが、該共重合体ラテックスの固形分に対して７8０ｐｐｍ以下であり、残留する２，４ジフェニル−４−メチル−１−ペンテンと２，４ジフェニル−４−メチル−２−ペンテンの重量比が０．６〜６．５であることを特徴とする紙塗工用共重合体ラテックス。 （もっと読む）

【課題】十分な耐熱性（低着色、高Ｔｇ）を有しつつ、かつ吸水率が低い重合性組成物、およびその硬化物を提供する。
【解決手段】成分Ａ、および成分Ｂを含む、重合性組成物。成分Ａ：環状脂肪族炭化水素基を有する多官能（メタ）アクリレート成分Ｂ：分子内に酸素原子を含まない単官能チオール化合物


（式（Ｉ）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^１３およびＲ^１４は置換基を有していてもよい炭素数１〜４の直鎖アルキレン基を表す。ｍは１又は２を、ｎは０または１を表し、ｐおよびｑは０または１を表す。） （もっと読む）

【課題】硬化前は低粘度であって、硬化後の力学的強度に優れた、感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記化合物の少なくとも１種と、光重合開始剤を含有する感光性組成物。
（もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスを維持しつつ、優れたパターントップ形状を形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用により２個以上のカルボキシル基を生じ、酸の作用により水酸基を生じず、且つラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ１−１）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】めっき触媒等の金属に対して充分な吸着性を有し、吸水性が低く、重合性に優れ、且つアルカリ水溶液による加水分解を抑制しうる新規共重合ポリマーの提供。
【解決手段】下記式（１）で表されるユニット、及び、下記式（２）で表されるユニットを含むポリマー。式（１）及び式（２）中、Ｒ^１〜Ｒ^５は、夫々独立して、水素原子、又は置換若しくは無置換のアルキル基を表し、Ｒ^６は、無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基を表し、Ｖ及びＺは、夫々独立して、単結合、置換若しく無置換の二価の有機基、エステル基、アミド基、又はエーテル基を表し、Ｌ^１及びＬ^２は、夫々独立して、置換若しくは無置換の二価の有機基を表す。
（もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス及びアウトガス低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】繰り返し単位（Ａ）〜（Ｃ）を含有する樹脂（Ｐ）及び沸点１５０℃以下の溶媒を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法。
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位
（Ｂ）酸の作用により分解してカルボン酸を生成する基を含有する繰り返し単位
（Ｃ）炭素−炭素不飽和結合を含有する繰り返し単位 （もっと読む）

本発明は、３またはそれ以上のアジュバントと共有的に結合するポリマー骨格を含むアジュバント‐ポリマー構築物を提供し、そこで３またはそれ以上のアジュバントが、ペンダント側鎖にそれぞれ存在し、当該アジュバントが、直接的またはスペーサー基を介してのいずれかでポリマー骨格と結合する。
（もっと読む）

【課題】本発明は、形成される塗膜の耐水性と耐汚染性に優れ、更に、耐候性及び表面タック等の総合的な性能にバランスよく優れる水性塗料を得るための塗料用添加剤及びそのような塗料用添加剤を含んで成る水性塗料を提供する。
【解決手段】（ａ）重合性不飽和単量体を重合して得られた（Ａ）水性樹脂を含む塗料用添加剤であって、（Ａ）水性樹脂の酸価は２０〜６０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、（ａ）重合性不飽和単量体は、（ａ１）ヒドロキシル基およびエチレン性二重結合を有する単量体を含んで成る塗料用添加剤を含む塗料は、形成される塗膜の耐水性と耐汚染性に優れ、更に、耐候性及び表面タック等に総合的にバランスよく優れる。（ａ）重合性不飽和単量体は、（ａ２）アルコキシシリル基およびエチレン性二重結合を有する単量体を含んで成ることが好ましい。本発明に係る塗料用添加剤は、耐汚染化剤として使用できる。 （もっと読む）

【課題】下塗り反射防止コーティング層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物の提供。
【解決手段】ジエン／ジエノフィル反応生成物を含む有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物が提供される。好ましい本発明の組成物は、基体から上塗りフォトレジスト層に戻る露光放射線の反射を低減させるのに有用であり、および／または平坦化、一体化もしくはビアフィル層として機能する。 （もっと読む）

【課題】焦点深度マージン（ＤＯＦ）、表面荒れ、及び現像欠陥が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】−Ｃ(Ｘ₁)(Ｘ₂)(ＯＲ₁)で表される基（Ｘ₁及びＸ₂は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基を表し、Ｘ₁及びＸ₂のどちらか一方又は両方に少なくとも１個以上のフッ素原子を含む。Ｒ₁は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又は酸分解性基を表す。）を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び、少なくとも１つの極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】初期接着性、接着安定性、耐熱性に優れ、使用後はエネルギー照射することにより、容易に解体（剥離）できる(メタ)アクリル系樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及び／又はオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステルを含有する (メタ)アクリル系樹脂組成物。（Ｄ）（Ａ）〜（Ｃ）成分に溶解しない粒状物質を含有してもよい。該 (メタ)アクリル系樹脂組成物を用いる易解体性接着剤。 （もっと読む）