【課題】繰り返しパターン転写を行っても良好なパターン形成性、および基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体を少なくとも１種と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、
前記（Ａ）重合性単量体が、フロロアルキル基およびフロロアルキルエーテル基から選ばれる含フッ素基を少なくとも２つ含有し、かつ、該含フッ素基の少なくとも２つは、炭素数２以上の連結基により隔てられている化合物であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】従来の反射防止膜として種々の要求性能は維持しつつ、膜形成時（焼成時）に昇華物の発生を抑制できる、新たな下層膜形成組成物、並びに該層膜形成組成物を用いるフォトレジストパターン形成法を提供する。
【解決手段】下記式（ａ）で表される構造単位を有するポリマー、架橋剤、並びに溶媒を含む、リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。
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【課題】式(1)または(2)の構成単位と環構造を有しながら、異物の含有量が少ないアクリル系重合体を提供する。
【解決手段】式(1)または(2)の構成単位を有し、主鎖に環構造を有し、Tgが110℃以上であり、濃度15重量％のクロロホルム溶液としたときに、測定光透過距離が1cmの測定セルに収容、測定した溶液の濁度が2％以下のアクリル系重合体とする。R¹-R⁴は水素または有機残基、R⁵はO¹に結合する炭素が2または3級の有機残基、Arはアリール基。


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【解決手段】カルボキシル基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基又はアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基である。ｍは１〜４の整数である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】水等の溶媒に対しても、数十ナノレベルで高分散するパラジウムナノコンポジット粉末状粒子の提供。
【解決手段】パラジウム粒子が、下記一般式（１）で表されるフルオロアルキル基含有オリゴマーで複合化されてなるパラジウムナノコンポジット粉末状粒子。


｛式中、Ｒ^１及びＲ^２は、−（ＣＦ_２）ｐ−Ｙ基、又は−ＣＦ（ＣＦ_３）−[ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）]ｑ−ＯＣ_３Ｆ_７基を示し、Ｒ^１及びＲ^２は、同一の基であっても異なる基であってもよく、Ｒ^１及びＲ^２中のＹは水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、ｐ及びｑは０〜１０の整数である。Ｂ_１は炭素数１〜５のアルキレン基を示す。ｎ３は５〜１０００の整数である。ｎ１とｎ２のモル比は１：９９〜９９：１である。｝ （もっと読む）

【課題】 高精細で、密着性も良く、更に現像残渣のない、感光性樹脂組成物、それを用いたフォトスペーサーを有するカラーフィルタの製造方法及びカラー表示装置を提供する
【解決手段】 （Ａ）エチレン性不飽和基を有するアクリル樹脂、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）有機溶剤、及び（Ｅ）エチレン性不飽和基を有するリン酸エステル、とを含有する感光性樹脂組成物。前記（Ａ）成分であるエチレン性不飽和基を有するアクリル樹脂が、重量平均分子量が３，０００〜２００，０００であり、ジシクロ環または、トリシクロ環を有するモノマー３〜７０質量％、水酸基を有するモノマー５〜５０質量％、及びＮ−置換マレイミド基を有するモノマー５〜５０質量％を含有するモノマー成分を重合して得られる重合体（ａ）に、一般式（１）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネートを１〜３０質量％付加させた重合体である前記の感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、異なる分子量および異なる陽イオン活性の両方を有する新規かつ安定な双峰性陽イオン性逆エマルジョンポリマー(W/O)であって、水性相中、低分子量ポリマーの存在下における高分子量の陽イオン性ポリマーの「系内」乳化重合により調製されたものに関する。低分子量陽イオン性ポリマーは、溶液中における予備重合で生成される。この新規かつ安定な陽イオン性油中水型エマルジョンは、容易に転移可能であり、製紙における凝集剤、脱水助剤および歩留向上剤として有用である。 （もっと読む）

【課題】高速ラベリングを必要とする分野に適用するための粘着シートを提供すること。
【解決手段】（Ａ）（ａ１）（メタ）アクリル酸アルキルエステルおよび（ａ２）架橋化基点として作用する反応性官能基を有するエチレン性不飽和単量体を含む混合物を乳化重合して得られるアクリル系共重合体、および（Ｂ）架橋剤を含む水分散型アクリル系粘着剤組成物であって、該粘着剤組成物の乾燥皮膜が、（i）引張り試験における破断応力が０．３〜２．５ＭＰａであり、かつ破断伸度が２０００％以下、（ii）ガラス転移点が−７０℃〜−２０℃および（iii）ゲル分率が５０〜９０％を満足する水分散型アクリル系粘着剤組成物および同組成物から形成された粘着層を有する粘着シート、ならびに粘着シートの繰り出し速度が３０ｍ／分以上である粘着シートの使用方法。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｘは−ＮＨ−又は−Ｓ−である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制できる。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ヒドロキシアルキル（メタ）アクリラートとポリリン酸（ＰＰＡ）との反応により合成されるホスホアルキル（メタ）アクリラートモノマーを含む低ＶＯＣ重合性組成物を製造する方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも１種の重合性溶媒の存在下で、少なくとも１種のヒドロキシアルキル（メタ）アクリラートと少なくとも１種のポリリン酸とを反応させることを含む、改良された低ＶＯＣ重合性組成物を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】焦点深度、ＬＷＲ、ＭＥＥＦに優れるとともに、現像欠陥にも優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の二種の繰り返し単位を含有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）特定のアンモニウム構造を有する化合物を含有する、感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 固着に基づく毛髪（へアスタイル）の固定が可能であり、なおかつアレンジ力（再整髪力も含む）にも優れた毛髪化粧料を提供する。
【解決手段】 特定構造を有するモノマーを組み合わせて重合することにより得られる、皮膜形成時に程よい固さと高い粘着力を有する新規な粘着性セット樹脂をセット樹脂として配合した毛髪化粧料。本発明の毛髪化粧料は、糖、糖アルコール及びＥＯ／ＰＯ誘導体から選択される少なくとも１種を更に含有するが好ましい。
【効果】 固定力とアレンジ力を兼ね備えた毛髪化粧料が得られる。 （もっと読む）

【課題】水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、長期に渡って優れた防汚性が維持され、塗膜表面の崩落現象、クラッキングやフレーキングの発生等の現象を抑制でき、かつ、長期貯蔵時の安定性に優れた防汚塗料組成物に適した共重合体及び該共重合体を含む防汚塗料組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される有機ケイ素含有単量体から選択される少なくとも１種の単量体を、単量体（ａ）〜（ｃ）の合計量に対して１〜７０重量％、（ｂ）一般式（２）で表される有機ケイ素含有単量体から選択される少なくとも１種の単量体を、単量体（ａ）〜（ｃ）の合計量に対して１〜７０重量％、及び（ｃ）単量体（ａ）及び単量体（ｂ）以外の重合性単量体を、単量体（ａ）〜（ｃ）の合計量に対して１〜９８重量％
からなる単量体組成物を重合して得られる共重合体である。 （もっと読む）

【課題】露光部における指紋部の画像抜けや、空気中の水分、塩（Ｎａｃｌ）などによる画像故障が改善された平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）バインダーポリマー、（Ｄ）赤外線吸収剤、及び（Ｅ）（ａ）側鎖にフッ素原子の数が９以上のフルオロアルキル基等含有置換基を有する（メタ）アクリレート（１）と、（ｂ）下記一般式（２）で示される側鎖に、カルボキシル基含有の炭素数３〜３０の脂肪族環状構造を有する（メタ）アクリレート（２）と、を共重合成分として有する高分子化合物、を含有する画像記録層を有するネガ型平版印刷版原版。
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【課題】高感度化だけではなく、基板密着性、耐熱性、保存性を改良することができる感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、連鎖移動剤、及び熱架橋剤を含有してなり、前記連鎖移動剤が、下記一般式（Ａ)で表される化合物である感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。


Ｒ_１及びＲ_２は、いずれも水素原子及び有機官能基のいずれかを表し、Ｒ_１及びＲ_２のうち少なくとも１つは、有機官能基を表し、Ｒ_１とＲ_２とは環を形成してもよい。Ｙは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。ｎは、２〜８を表し、Ｚは、ｎ官能の有機連結鎖を表す。 （もっと読む）

【課題】高い撥液性を発揮する表面改質剤として用いることができる含フッ素ラジカル重合性ブロック共重合体及びその製造方法を提供する。また、この含フッ素ラジカル重合性ブロック共重合体を用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】炭素原子数１〜６のフッ素化アルキル基を有するラジカル重合性不飽和単量体（ａ１）と、反応性基を有するラジカル重合性不飽和単量体（ａ２）とを必須の単量体成分として、リビングラジカル重合により共重合させて得られるブロック共重合体（Ａ）が有する反応性基の一部又は全部に対し、当該反応性基と反応して結合を形成する官能基及びラジカル重合性不飽和基を有する化合物（Ｂ）を反応することによって得られることを特徴とする含フッ素ラジカル重合性ブロック共重合体。 （もっと読む）

【課題】シリコーンオイルとの親和性に優れ、且つ、分散粒子に立体安定化作用を与え、シリコーンオイルへの分散度を向上させた分散液の提供。
【解決手段】シリコーンオイル中に、少なくともシリコーンオイルに不溶な粒子成分と、繰り返し単位が自然数であるジメチルシロキサン単位を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体を重合した重合体とを含有し、前記重合体が、繰り返し単位が２５以下の自然数であるポリアルキレンエーテル単位を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体をさらに含んで重合したものであることを特徴とする分散液。 （もっと読む）

【課題】高解像度でラインエッジラフネスが小さく、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すレジスト膜を与えるポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²はＨ、Ｃ１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、Ｃ６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基。ＲはＨ、Ｃ１〜１２のアルキル基、Ｏ又はＳを有していてもよく、Ｃ２〜１２のアルケニル基、Ｃ２〜１２のアルキニル基、又はＣ６〜１０のアリール基。Ｒ³〜Ｒ⁶はＨ、あるいはＲ³とＲ⁴、Ｒ⁴とＲ⁵、又はＲ⁵とＲ⁶が結合してベンゼン環を形成してもよい。ｍ、ｎは１〜４の整数。） （もっと読む）

【課題】破壊強度が高く、かつ、形状や基板への密着性も良好なスペーサを形成することが可能な感光性樹脂組成物、及びその感光性樹脂組成物から形成されたスペーサを有する液晶パネルを提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、不飽和カルボン酸から誘導される構成単位（ａ１）と、エポキシ基含有不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ２）とを有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ１）、及び構成単位（ａ１）と、光重合性モノマー（Ｂ）との重合可能部位を有する構成単位（ａ３）とを有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ２）、又は構成単位（ａ１），（ａ２），（ａ３）を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ３）を含む。アルカリ可溶性樹脂（Ａ１），（Ａ３）のそれぞれにおける構成単位（ａ２）の割合は７１質量％以上である。 （もっと読む）