【課題】極端紫外線露光において高感度なフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）


（式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基等を表す。Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基、炭素数３〜６の分岐状アルキル基または炭素数３〜６の環状アルキル基をとり得る。ＡおよびＢは、酸素原子または硫黄原子を表す。）で表される繰り返し単位を構成単位として有する高分子化合物および光酸発生剤を含有することを特徴とする、極端紫外線露光用化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の発生が抑制され、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中の符号は、明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】良好なパターン形成性およびエッチング耐性を有するインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される重合性単量体（Ａｘ）と光重合開始剤を含有するインプリント用硬化性組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｒ¹は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表し、Ｚは芳香族基を含有する分子量１００以上の基を表す。但し、重合性単量体（Ａｘ）が２５℃において液体であるとき、２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下である。） （もっと読む）

【課題】遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光更には液浸露光によるパターニングにおいても、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び（Ｄ）酸の作用により脱離する基を有する低分子化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、１）アルキル（メタ）アクリレート系単量体、２）脂肪族環及び／または芳香族環を含む（メタ）アクリレート系単量体、３）イミド系単量体及びスチレン系単量体のうち少なくとも１種を含むアクリル系共重合体樹脂、上記アクリル系共重合体樹脂及び主鎖に芳香族環及び／または脂肪族環を含有する樹脂を含む樹脂組成物、上記樹脂組成物を含む光学フィルム、及び、上記光学フィルムを含む液晶表示装置に関するものである。本発明による光学フィルムは、耐熱性、光学性透明性などに優れている。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】電解液への溶出成分が少ない（メタ）アクリル酸系ニトロキシドラジカル重合体の製造方法の提供。
【解決手段】２，２，６，６−テトラメチルピペリジノキシメタクリレートを重合して（メタ）アクリル酸系重合体とする重合工程と、該（メタ）アクリル酸系重合体をニトロキシド化して（メタ）アクリル酸系ニトロキシドラジカル重合体とするニトロキシド化工程とを含む（メタ）アクリル酸系ニトロキシドラジカル重合体の製造方法であって、前記重合工程後、アルコール溶媒存在下、無機酸を用いて処理する工程を有することを特徴とする（メタ）アクリル酸系ニトロキシドラジカル重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 改良された化学増幅フォトレジスト材料及び組成物を提供すること。
【解決手段】 本発明は、ポリマー骨格と酸感受性基との間のペンダントスペーサを有する第１のメタクリレートモノマーと、フッ素化アルキル基を含むペンダント基を有する第２のメタクリレートモノマーと、ペンダント炭化水素基を有する第３のメタクリレートモノマーとを含むポリマーである。フォトレジスト調合物は、上記ポリマーと、光酸発生剤と、キャスト溶媒とを含む。フォトレジスト調合物からパターン付けされたフォトレジスト膜を形成する方法は、約６０℃以下の温度での露光後ベークで特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、ラインエッジラフネス性能、パターン倒れ性能、現像欠陥性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射によりノルボルニル構造を有する特定の酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）樹脂側鎖に連結基を介してラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明はパターンの複製方法に関し、前記方法は（ａ）複数の窪みまたは突起領域がその中に形成されているパターン付きテンプレート表面を備えたパターン付きテンプレートを準備する工程；（ｂ）（ペル）フルオロポリオキシアルキレン鎖〔鎖（Ｒ_ｆ）：鎖Ｒ_ｆの分子量は１０００を超え、３５００未満である〕および少なくとも２個の不飽和部分を含む少なくとも１種類の官能性ペルフルオロポリエーテル化合物（化合物（Ｅ））と、少なくとも１種類の光開始剤とを含むある体積量の硬化性ペルフルオロポリエーテル組成物（組成物（Ｃ））を、前記パターン付きテンプレート表面に接触させる工程；（ｃ）前記組成物（Ｃ）を紫外線に曝してパターン付きモールド表面を備えたモールドを形成させ、前記モールドを前記パターン付きテンプレートから分離する工程；（ｄ）前記パターン付きモールド表面を（プレ）ポリマー組成物（組成物（Ｐ））と接触させる工程；および（ｅ）前記組成物（Ｐ）を加工してパターン形成された表面を有する物品を形成させ、前記物品を前記モールドから分離する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むエステル基を有するアクリル酸系エステルで表される構成単位（ａ０−１）、および酸解離性の脂肪族単環式基を有するアクリル酸系エステル構成単位（ａ０−２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

酸感応性、現像剤可溶性の下層反射防止膜組成物、その組成物の使用方法、および組成物から形成されるマイクロエレクトロニクス構造を提供する。組成物は好ましくは、溶剤系に溶解または分散された架橋可能なポリマーを含む。ポリマーは好ましくはアダマンチル基を有する繰り返しモノマー単位を含む。また組成物は、好ましくは、ポリマーと共に溶剤系中に分散または溶解しているビニルエーテル架橋剤のような架橋剤を含む。いくつかの実施態様では、組成物は光酸発生剤（ＰＡＧ）および／または消光剤を含むこともある。下層反射防止膜組成物は、熱的に架橋可能であるが、酸の存在下では脱架橋し、現像剤可溶性にさせることができる。 （もっと読む）

【課題】安定性、ハンドリング性に優れたポリマー組成物を提供すること。
【解決手段】下記成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含有し、成分（Ａ）の含有量が５〜３０重量％であるポリマー組成物。
（Ａ）特定のカチオン性基含有共重合体
（Ｂ）式Ｒ¹¹Ｏ−（ＡＯ）m−Ｈ（式中、Ｒ¹¹は水素又は炭素数１〜２０の炭化水素基、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、平均付加モル数ｍは１０〜６０の数を示す）で表される化合物、
（Ｃ）式Ｒ¹²Ｏ−（Ａ'Ｏ）n−Ｈ（式中、Ｒ¹²は炭素数８〜１０の炭化水素基、Ａ'Ｏは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、平均付加モル数ｎは０．５〜４の数を示す）
で表される化合物 （もっと読む）

【課題】二次電池用の活物質として利用可能なラジカル材料組成物について、導電材の含有量を抑制しながら体積抵抗率を低くする。
【解決手段】ニトロキシドラジカル架橋重合体組成物は、アクリル酸系多官能化合物やメタクリル酸系多官能化合物等の架橋剤およびカーボン材等の導電材の存在下で２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル（メタ）アクリレートで例示されるイミノ基を含んだ化合物を重合することにより得られる架橋重合体組成物をニトロキシド化する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも処理コストの低減と同時に、脱水処理工程中における悪臭を低減することにより作業環境や近隣地域環境の改善を図ることが可能であるより改善された畜産汚泥の脱水方法を提供する。
【解決手段】畜産汚泥に対し、亜塩素酸塩、次亜塩素酸塩、臭素酸塩、亜臭素酸塩、次亜臭素酸塩、過酸化水素の酸化剤群より選択される一種以上の無機系酸化剤により消臭処理及び改質処理を施した後、ビニル重合系カチオン性水溶性及び／またはビニル重合系両性水溶性高分子を添加、凝集処理し、その後脱水機により脱水することによって達成できる。 （もっと読む）

【課題】光硬化後に基板等から容易に除去することができ、かつ、光硬化物の強度や感度が良好な光インプリントリソグラフィによる樹脂パターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の少なくとも１種からなる光重合性化合物（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）とを含有し、前記光硬化性組成物中に含まれる光重合性化合物の総量に対する前記光重合性化合物（Ａ）の割合が９９質量％以上であり、かつ下記式（１）により算出したガラス転移温度Ｔｇが３１３Ｋ以上である樹脂パターン形成用光硬化性組成物とする。
【数１】


Ｔｇ_ｉ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物ｉのホモポリマーのガラス転移温度（Ｋ）
Ｗ_ｉ；光重合性化合物ｉの光重合性化合物（Ａ）に対する質量分率（％）
ｎ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の種類の数であり、１以上の整数 （もっと読む）

【課題】パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても平坦性、光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れた高解像度のパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、下記の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）からなり、各成分の構成割合が（Ａ）１００質量部に対して（Ｂ）５〜５０質量部及び（Ｃ）１〜４０質量部に設定されている。成分（Ａ）：フマル酸ジエステル単量体から誘導される構成単位（ａ１）、芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位（ａ２）、α，β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位（ａ３）及び（メタ）アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位（ａ４）からなる共重合体。成分（Ｂ）：キノンジアジド基を有する感光剤。成分（Ｃ）：２個以上のエポキシ基を有する硬化剤。 （もっと読む）

【課題】広い露光ラテテュード、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および（Ｃ）２種類以上の塩基性化合物を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（Ｒ_１は水素原子又はメチル基。Ｒ_２はハロゲン原子等。ｎは０〜５の整数。）
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【課題】本発明は、粘着剤が積層されたフィルムやシートをカットする際に、カッターに塗布して粘着剤の付着を防止あるいは軽減することのできるフッ素系非粘着剤として有用であり、かつ環境への負荷が懸念されているパーフルオロオクタン酸Ｃ_７Ｆ_１５ＣＯＯＨ（ＰＦＯＡ）及びそれ以上の炭素数のパーフルオロアルキル脂肪酸を含むことなく、また分解してＰＦＯＡ及びそれ以上の炭素数のパーフルオロアルキル脂肪酸を発生させることがないフッ素系非粘着剤組成物を提供するものである。
【解決手段】一般式（１）で表される
ＣＨ_２＝ＣＸＣＯＯＲ^１Ｃ_６Ｆ_１５ 一般式（１）
（ここで式中Ｒ^１はＣ_ｍＨ_２ｍであってｍ＝１〜１０のアルキレン基またはフェニレン基、ＸはＨ、ＣＨ_３、Ｃｌ、Ｆ）
の付加重合体あるいは
一般式（２）で表される
ＣＨ_２＝ＣＸ^１Ｘ^２ 一般式（２）
（ここでＸ^１、Ｘ^２は水素原子、メチル基、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＯＯＲ、ＣＯＮＲ^２Ｒ^３（式中Ｒ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は水素原子、メチル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０のアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０のシクロアルキル基、又はフェニル基である。）共重合体、及びその重合体を溶解するに可能なフッ素系溶媒からなるフッ素系非粘着剤組成物である。 （もっと読む）