【課題】
下水処理場における下水余剰汚泥や下水消化汚泥のように繊維分の少ない所謂難脱水汚泥に対し、脱水ケーキ含水率低下の要求を満足し、同時に架橋あるいは分岐した水溶性高分子の難点とされる薬剤添加量の増加にも対応でき、コスト増加を抑制可能な汚泥脱水剤を提供する。
【解決手段】
定義１で表示される電荷内包率５０％以上９０％以下の水溶性カチオン性高分子（Ａ）、電荷内包率５０以上、９０％以下の水溶性両性高分子（Ｂ）および酸性物質（Ｃ）を組み合わせた水溶性高分子組成物であって、前記水溶性カチオン性高分子（Ａ）および前記水溶性両性高分子（Ｂ）は、特定の単量体と高分子構造改質剤からなる共重合物であり、これら水溶性高分子の配合物によって達成できる。
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【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基含有繰り返し単位を有する樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布、溶剤除去するレジスト膜形成工程、クロムレスのシフターが配列された位相シフトマスクを用い高エネルギー線で露光後加熱し、酸不安定基に脱離反応させた後、現像しポジ型パターンを得る工程、露光又は加熱し、酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、架橋形成により有機溶剤耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物による反転用膜形成工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、解像性やプロセスマージンが拡大し、スループットが高く、ドライ現像のためのエッチング装置が不要で、ダブルダイポールリソグラフィーと同等の解像力が得られる。 （もっと読む）

【課題】硬質表面のバイオフィルムの生成を抑制する方法を提供する。
【解決手段】（Ａ） 分子中に、アミノ基及び４級アンモニウム基から選ばれる基を１種以上有する構成単位（ａ）とアニオン性基を有するビニル系モノマーに由来する構成単位（ｂ）とを有する高分子化合物を、硬質表面に適用することを特徴とする、硬質表面における微生物によるバイオフィルムの生成を抑制する方法。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性を有すると共に、クラックを発生させず、形状安定性も優れ、かつ熱に対して安定で黄変が発生せず、金型からの離型性にも優れた光学部品用樹脂を製造するための原料組成物および光学部品を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する、アダマンチル基を含む（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と低分子量の（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）及び下記一般式（III）で表される脂肪族化合物(Ｃ)を含有する光学部品用樹脂原料組成物である。[Ｒ⁴は炭素数６〜３０の脂肪族炭化水素基、Ｗは水素原子、金属原子又は炭素数１〜８の炭化水素基である。]
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【課題】本発明の課題は、圧電特性に優れかつ耐熱性に優れた有機圧電体、有機圧電材料および超音波振動子ならびに測定の安定性に優れる超音波探触子を提供することにある。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物、または下記一般式（１）で表される化合物の残基をＲ１若しくはＲ２を介して側鎖に有する重合体であることを特徴とする有機圧電体。一般式（１） Ｒ１−Ａ１−（Ｌ１−Ａ１）ｎ−Ｒ２
（式中、Ａ１は、−ＮＨＣＳＮＨ−、−ＮＨＣＳＯ−または−ＮＨＣＳ−を表す。Ｒ１およびＲ２は、各々独立に無置換の芳香族基、アルキル基若しくはアルコキシ基で置換された芳香族基、またはアルキル基若しくはアルコキシ基で置換されたシクロアルキル基を表す。Ｌ１は２価の連結基を表し、ｎは０〜１００の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】液浸露光や、液浸のダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用の含フッ素重合性単量体および含フッ素重合体、それらを使ったレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される含フッ素重合性単量体。
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本発明は、ポリカルボン酸系櫛型ポリマーが粉砕添加剤として使用される組成物と方法とを開示している。該櫛型ポリマーは炭素主鎖と側基とを含み、そのオキシアルキレン側基は、ポリマーに、粉砕処理の間の劣化に抵抗し、それによりセメント、ポゾラン、石灰石およびその他のセメント材料等の水和性セメント材料のワーカビリティと強度とを保持するための堅牢性を提供するための、１種または複数のエーテル結合基を含む。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクトの発生を抑制できるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。また、異物経時特性（保存安定性）に優れるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。そして、さらに好ましくは、処理前後で感度やレジストパターンサイズの変化が起こりにくいホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、有機溶剤（Ｃ）とを含むホトレジスト組成物を、臨界表面張力が７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上の第１の膜を備えた第１のフィルタを通過させる工程を有し、且つ前記第１のフィルタを通過させる工程の前後の一方又は両方に、さらに、該ホトレジスト組成物を、ポリオレフィン樹脂またはフッ素樹脂製の第２の膜を備えた第２のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表示ムラ及び気泡・剥がれの発生が防止された透明粘着シートを提供する。
【解決手段】透明粘着シートは、（Ａ）アルキル基の炭素数が４〜１８である（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（Ｂ）ホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以上である極性モノマー、及び（Ｃ）（メタ）アクリル酸エステル
を含むモノマーの共重合体を含み、共重合体は１４０℃、１．０Ｈｚにおけるｔａｎδが０．１３以上であり、且つ２５℃、１．０Ｈｚにおける貯蔵弾性率が８．９×１０4Ｐａ以下である。 （もっと読む）

【課題】
レジスト膜上に設けられて、前記レジスト膜を保護するトップコート組成物において、適度な現像液溶解性を有するトップコート組成物を提供する。
【解決手段】
下記一般式（５）で表される繰返し単位を有する含フッ素重合体を含むことを特徴とするフォトレジスト用トップコート組成物。
【化１】


［式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。ｎは０または１であり、ｍは１〜（３＋ｎ）の整数である。Ｒ²またはＲ³は、水素原子もしくは保護基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高温で長時間の処理を行わないで架橋され、表面接着性に優れた絶縁層を形成可能な有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ウレア結合もしくはウレタン結合を介して結合した感光性基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、（Ｂ）硬化剤と、（Ｃ）有機溶剤とを含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物である。有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物をオーバーコート層に用いることを特徴とした有機薄膜トランジスタ。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物の基材成分として新規な高分子化合物、そのモノマー、及び当該高分子化合物を含有するレジスト組成物とそれを用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、基材成分（Ａ）が、側鎖に、環骨格中にスルホニル基を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリル誘導体単位で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ０）を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】核酸の効果的な動物細胞への導入手段の提供。
【解決手段】エチレン性不飽和重合性基から形成される主鎖を有し、側鎖に四級化された第三級アミン部分を有する架橋ポリマー由来のポリマー微粒子と、核酸分子の複合体であり、精製水中に分散させて動的光散乱粒子解析（ＤＬＳ）を行った場合に平均粒径が３０ｎｍ〜１０μｍの範囲にあり、該核酸がプラスミドＤＮＡ、ｓｉＲＮＡ、アンチ−ｍｉｃｒｏＲＮＡ、アンチセンス核酸、デコイ核酸、アプタマーおよびリボザイムからなる群より選ばれる複合体。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性を有すると共に、クラックを発生させず、形状安定性も優れ、かつ熱に対して安定で黄変が発生せず、密着性にも優れた光学部品用樹脂を製造するための原料組成物および光学部品を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する、アダマンチル基を含む（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と低分子量の（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）及び下記一般式（III）で表されるシラン系（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）を含有する光学部品用樹脂原料組成物である。
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【課題】簡便に製造し得るインターロック構造を有する高分子架橋体およびその製造方法、特に綺麗なフィルム状の高分子架橋体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】２個以上の環状部分を有するポリマーと、一方の末端にブロック基を有し他方の末端に重合性官能基を有する直鎖状分子及び／又は両末端に重合性官能基を有する直鎖状分子とを混合し、その全部又は一部について包接錯体を形成させ、次いで、上記重合性官能基と、下限臨界溶液温度を有しない水溶性（メタ）アクリル酸系モノマーとを共重合し、インターロック構造を有する高分子架橋体を得る。 （もっと読む）

【課題】 超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィにおいて、現像前のレジスト表面が親水性と疎水性の凸凹構造を持つことによる撥水化を抑制し、ムラなく均一に現像が進行するようにすることで、抜け性の向上による高解像性とアウトガス低減を同時に実現するパターン形成を可能とするリソグラフィ用基板被覆方法、及びその方法に用い得るポジ型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 リソグラフィプロセスにおいて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上にトップコート層を設ける工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記膜が、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする、リソグラフィ用基板被覆方法。 （もっと読む）

【課題】波長３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの活性エネルギー線照射により優れた表面硬化性が得られる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの不飽和二重結合を有する化合物（Ａ）、オキシムエステル基を有する化合物（Ｂ）、および硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物（Ｃ）を含み、波長３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの活性エネルギー線によって硬化することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリオレフィン系樹脂製品をリサイクル使用するにあたり、劣化により低下したポリオレフィン系樹脂の溶融張力を向上させ、成形加工性を良好に保持できる、ポリオレフィン系樹脂製品のリサイクル性を向上させる方法を提供する。
【解決手段】ポリオレフィン系樹脂製品（Ａ）を破砕し、破砕された前記ポリオレフィン系樹脂製品（Ａ）１００質量部に対し、アルキル基の炭素数が２〜６のアルキルメタクリレート単位を主成分とし、質量平均分子量が１５万〜２，０００万であるアルキルメタクリレート系重合体（Ｂ）を０．０１〜２０質量部となるように配合する。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性、低線膨張率、低含水率を有すると共に、クラックを発生させず、かつ熱に対して安定で黄変が発生せず、加工性にも優れた光学部品用樹脂を製造するための原料組成物および光学部品を提供する。
【解決手段】（１）下記の一般式（Ｉ）で表されるアダマンチル基を含有する（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、環状炭化水素を含まない（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を含有し、かつ（２）一般式（Ｉ）で表される（メタ）アクリレート化合物（Ａ）においてｎが１であるものに対する、ｎが２〜４ものと（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）との合計量との比率が、５５〜０質量％：４５〜１００質量％であることなどを要件とする光学部品用樹脂原料組成物である。（Ｘは、多環式脂肪族炭化水素基又は、芳香族炭化水素基及び／又は単環式脂肪族炭化水素基、Ｙは独立に、直接結合、炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数１〜４のオキシアルキレン基、Ｒ¹は独立に、水素原子又はメチル基であり、ｎは１〜４の整数である。）
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【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、アンモニウム塩化合物であって、アニオンが、下記式（ｄ１−１）〜（ｄ１−３）のいずれかで表されるアニオンであることを特徴とするレジスト組成物。
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