【課題】レーザーによる走査露光に於いても十分な感度で、画像部の強度に優れ、画質の良好なネガ型平版印刷版を提供することを課題とする。
【解決手段】支持体上に設けられた感光層に少なくとも重合性ポリマー、光重合開始剤および分子内に一般式１で表される単位構造を２つ以上有する重合性モノマーを含有し、更に一般式３で表される増感色素を含有する事を特徴とする平版印刷版。
【化１】


【化３】
（もっと読む）

【課題】 重合性液晶組成物を基板に塗布した場合、空気界面におけるチルト角を減じる効果を有し、かつ、重合性液晶組成物の硬化物である光学異方体が液晶セル内に組み込まれた場合において液晶ディスプレイの電圧保持率を悪化させることが無い重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（I）
【化１】


で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１００以上である化合物を含有することを特徴とする重合性液晶組成物を提供する。本願発明の重合性液晶組成物は、空気界面におけるチルト角を減じる効果を有することから空気界面において水平配向となる光学異方体の材料として有用であり、界面活性剤等の極性物質を含有しないため液晶ディスプレイの電圧保持率を悪化させることがなく、積層膜の形成が容易であるといった特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】高感度かつ高解像度で、１，２００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なパターン形状が得られ、現像液に対する溶解性に優れ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等にも優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、１分子内に１つ以上の水酸基を有する不飽和化合物と、ラクトン構造を有する不飽和化合物と、これらの不飽和化合物以外の他の不飽和化合物の共重合体に、（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体および重合性不飽和化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。
【解決手段】表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシートＷに凹凸型を密着させ、この凹凸型表面の凹凸形状をシートの表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される放射線硬化性組成物である。この放射線硬化性組成物は、所定の構造をもつアクリレート又はメタアクリレート、及び光重合開始剤を含む。 （もっと読む）

【課題】乳化重合時の安定性を良好にし、また、エマルションから得られた塗膜の耐水性、接着性、及び耐熱性、耐候性が著しく改善され、更に得られたポリマー物性を著しく改善できる新規分解型反応性乳化剤を提供する。
【解決手段】下記一般式で表される新規分解型反応性乳化剤。


［Ｘはアルキル基等、ｍは０または１、Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｙは水素原子またはイオン性の親水性基、Ａはアルキレン基、ｎは０または１〜１００の整数。］ （もっと読む）

本発明は、１−アルケン及びアクリレート系単量体を金属酸化物またはルイス酸の存在下でラジカル重合反応させる段階を含む方法により製造される１−アルケン−アクリレート系共重合体を開示する。本発明による１−アルケン−アクリレート系共重合体は、アルケンと極性モノマーのランダム共重合体でありながら、極性基の含有量が著しく高く、アルケンの結晶性が存在しなくなるため、高分子フィルムなどに加工後にも、高分子の透明性には影響がなく、光学素材などの用途に使用可能である。また、本発明で提供する特定範囲のエチレン−アクリレート共重合体は、高い機械的物性及び酸素遮断性を有するフィルムなどに製造が可能である。特に、エチレンの結晶性が存在しなくなるため、高分子フィルムなどに加工後にも、高分子の透明性には影響がなく、高透明性遮断性樹脂への応用も可能である。本発明によるエチレン−アクリレート系共重合体のエチレン含量は、柔軟性及び延伸性などの機械的物性を向上させる重要な要因であり、アクリレート含量は、フィルムの酸素遮断性及び透明性を向上させる主要な要因である。したがって、二つの単量体間の含量を適宜調節することにより、所望の透明性、機械的物性及びガス遮断効果を同時に有する樹脂及びフィルムなどを製造することができる。
（もっと読む）

【課題】高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される構造を含む基を含有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。
【化１】


一般式（１）中、
Ｒ_１はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子またはアリール基から選ばれる原子または基を表す。
ｎは０〜６の整数を表し、ｎ≧２の整数のときＲ_１は同じでも異なっていてもよく、Ｒ_１同士が環を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸分解性繰り返し単位と特定構造の非酸分解性繰り返し単位とを有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】フィルム表面に傷が付きにくく、付着異物が少ないことに加え、当該フィルムを使用して偏光板を製造する過程で新たに付着する異物を防ぐことができる光学フィルムロールおよびそれを用いた偏光板の製造方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系樹脂からなる光学フィルムとポリエステル系フィルムとを重ね合わせ、巻回することにより得られる光学フィルムロール、この光学フィルムロールにおける光学フィルム長手方向と、偏光子の長手方向とを揃え、両者を連続的に貼付する工程と、ポリエステル系フィルムを除去する工程とを含む偏光板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｉｔｙ及び解像性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］


［式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を示し；ｎ’は１または２の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】 耐擦傷性に優れ、かつ低カール性で、クラックが発生せず、また高い透明性を有するハードコート膜（塗膜）を形成する、活性エネルギー線硬化型ハードコート用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 下記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型ハードコート用樹脂組成物；該組成物を基材フィルムの片面の少なくとも一部に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
（Ａ）：特定組成のアクリレート混合物
（Ｂ）：光重合開始剤
（Ｃ）：特定のポリエーテル変性オルガノポリシロキサン （もっと読む）

【課題】液晶性化合物との相溶性がよく、非液晶性化合物との相溶性も良好で、カチオン重合により強固な高分子が得られる新規なジオキセタン化合物とその用途を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される非対称ジオキセタン誘導体。


（Ｒ^１，Ｒ^２は水素、メチル基、エチル基を表わし、Ｌ^１は−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは１〜１２を表わし）を表わし、Ｘ^１は単結合、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−を表わし、Ｙは単結合、−ＣＯ−を表わし、Ｍ^１は環構造を表わす。）
（１）で表わされるジオキセタン化合物とカチオン重合性基を有する化合物からなるカチオン重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の製造方法や液晶表示装置の光学補償を目的とした光学補償フィルムの製造方法の改良に役立つ液晶配向膜を好適に提供する方法の実現。
【解決手段】光配向成分と光増感成分を側鎖に有する共重合体であって、前記光増感部の重量％が０．０１ｗｔ％〜４．７ｗｔ％であることを特徴とする液晶配向用光配向材料を液晶配向膜として用いる。該液晶配向用光配向材料の溶液を基板上ないしは基材フィルム上に塗布して膜を形成する。該膜に直線偏光性の光を照射し、続く加熱による分子運動によって配列は促進され、膜全体が異方性となり液晶配向膜となる。この方法により比較的小さな照射エネルギー量で液晶配向膜を製造できることから、液晶表示装置の製造方法や液晶表示装置の光学補償を目的とした光学補償フィルムの製造方法の改良に役立つ液晶配向膜を好適に提供する方法を実現できる。 （もっと読む）

【課題】安定した再剥離性が得られる紫外線硬化型再剥離性圧着組成物を提供する。高温多湿下においても接着強度に経時変化がなく、また、硬化時の紫外線照射量が変動した場合でも硬化塗膜の接着強度の変動が少なく、使用時に、すなわち剥離時に接着剤が塗布された基材を破壊せず、安定した再剥離性を発揮できる紫外線硬化型再剥離性圧着組成物を提供する。
【解決手段】紫外線硬化成分、光重合開始剤、及び下記(1)〜(3)：(1)フッ素含有重合性化合物；(2)フッ素含有セグメントとフッ素を含まないセグメントを有するフッ素含有共重合体；(3)フッ素含有界面活性剤から選ばれる少なくとも１種のフッ素含有化合物を含有し、及び該紫外線硬化成分が、１モル当たり６モル以上のエチレンオキサイド基が付加したエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートを含む、紫外線硬化型再剥離性圧着組成物。 （もっと読む）

【課題】 生産性に優れ、耐擦傷性、耐薬品性、耐汚染性、耐候性など優れた表面物性を有する化粧板を得る。
【解決手段】 式（１）で示される、トリアジン環含有（メタ）アクリレートプレポリマー（Ａ）１０〜５０重量％、式（４）で示される（Ａ）以外の一級水酸基を有する活性エネルギー線重合性化合物（Ｂ）５〜５０重量％、（Ａ）以外の４〜１５個のエチレン性不飽和結合を有し、一級水酸基を有さない活性エネルギー線重合性化合物（Ｃ）１０〜５０重量％を含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を得る。次いでフィルムに組成物を塗布し、熱硬化性樹脂含浸紙に転写して、フィルムは剥がす。 （もっと読む）

【課題】 機能性高分子等の原料として有用と期待される、新規なアミノアルコキシスチレン類及びその効率的な製造方法、並びにその重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 触媒の存在下に、下記一般式（２）


（Ｒ^１，Ｒ^２はＣ_１〜Ｃ_４のアルキル基を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。ｎは３〜６の整数を表す。）で示されるアミノアルコキシフェニルマグネシウムハライドと下記一般式（３）


（Ｘはハロゲン原子を表す。）で示されるビニルハライドとを反応させて、アミノアルコキシスチレン類を得る。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層等を安定的に作製するのに有用なポリマーを提供する。
【解決手段】フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を有する構成単位、及び下記一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマーである。一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは円盤状置換基を表す。
一般式（Ａ）
（もっと読む）

【課題】導電性粒子の配合量が少なくても、充分な帯電防止性能を発現することができ、硬化性に優れ、かつ、各種基材の表面に、帯電防止性、硬度、及び耐擦傷性に優れ、透明性と表面抵抗値を両立させた硬化膜を形成し得る液状硬化性組成物を提供する。
【解決手段】組成物中の（Ｄ）溶剤以外の合計量を１００質量％として、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）を含有する放射線硬化性組成物。
（Ａ）平均一次粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍである、リン含有酸化錫を主成分とする粒子（以下、「ＰＴＯ粒子」という。）：１質量％以上２５質量％未満
（Ｂ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物：７４〜９８質量％
（Ｃ）３１３ｎｍにおけるモル吸光係数が５０００Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以下である光重合開始剤：０．１〜１５質量％
（Ｄ）溶剤：組成物中の（Ｄ）溶剤以外の合計量を１００質量部として、５０〜１０，０００質量部 （もっと読む）

【課題】大型の液晶表示装置に好適に用いうる偏光板であって、製造効率が良く、低コストで、耐熱性に優れ、複屈折が小さい偏光板を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系樹脂からなる透明な基板と、基板上に互いに平行かつ等間隔で配設された複数の金属細線と、基板との屈折率の差が０．０１以下である透明な被覆層とを備えている偏光板。基板を形成するノルボルネン系樹脂は、一般式（１）：


で表される１種の化合物を含む単量体を（共）重合して得られた樹脂である。 （もっと読む）