【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素共重合体、それを含有する液浸露光用レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ１−１）で表される構成単位を有する含フッ素共重合体（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】有機層、無機層の組が１組でも水蒸気透過率が十分に低い有機無機積層型の積層体を提供する。
【解決手段】有機層の上に無機層を積層した構造を含む積層体の製造方法であって、下記一般式（１）のｍが２であるモノマーと、下記一般式（１）のｍが３以上であるモノマーとを含む混合物を重合させることにより前記有機層を形成する工程を含むことを特徴とする、積層体の製造方法。


［一般式（１）において、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を表し、Ｌはｍ価の連結基を表
す。］ （もっと読む）

【課題】エチレン−ビニルエステル共重合体加溶媒分解物を２種類以上配合した共重合体加溶媒分解物組成物を提供する。
【解決手段】エチレン−ビニルエステル共重合（Ａ’）及び、一般式（２）に示される化合物に由来する構造単位を含有する変性エチレン−ビニルエステル共重合体（Ｂ’）を同一系内で加溶媒分解し製造する。


［一般式（２）において、Ｒ⁷とＲ⁸は結合して５員環を形成してもよい］ （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像度であり、焦点深度（ＤＯＦ）、ディフェクトに優れたレジスト膜を形成できるレジスト組成物に好適な重合体を提供する。
【解決手段】 酸脱離性基（Ａ）と親水性基を（Ｂ）を有する重合体（Ｐ）であって、下記（１）式および（２）式を満足するレジスト用重合体。
Ｐ［Ａ］／ＰＨ［Ａ］≦０．９９ ・・・（１）
Ｐ［Ｂ］／ＰＨ［Ｂ］≦０．９９ ・・・（２）
（Ｐ［Ａ］：重合体（Ｐ）中の酸脱離性基（Ａ）の含有量率。
ＰＨ［Ａ］：重合体（ＰＨ）中の酸脱離性基（Ａ）の含有量率。
Ｐ［Ｂ］：重合体（Ｐ）中の親水性基（Ｂ）の含有量率。
ＰＨ［Ｂ］：重合体（ＰＨ）中の親水性基（Ｂ）の含有量率。
重合体（ＰＨ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによって重合体（Ｐ）から分取した、重合体（Ｐ）の質量平均分子量（Ｍｗ（Ｐ））よりも分子量の大きい重合体。） （もっと読む）

【課題】高分子電解質膜に対して十分に高い初期接着強度を示すと共に、その後の使用環境においても高い接着強度が十分に維持される、そのような接着手段を具備した高分子電解質膜補強用のポリマーフィルムを提供する。
【解決手段】フルオロオレフィン、シクロヘキシル基含有アクリル酸エステルおよび水酸基含有ビニルエーテルを構成成分とする含フッ素共重合体（Ａ）と、イソシアネート基を２以上有する架橋剤（Ｂ）との反応生成物のコーティングを、ポリマーフィルムの少なくとも片面に形成してなる、高分子電解質膜補強用フッ素樹脂コートポリマーフィルム。 （もっと読む）

【課題】
高精細化したディスプレイに用いても優れた防眩性、シンチレーションの防止、画像鮮明性の向上に加えて、高い耐候性および表面硬度を有し、かつ、防眩フィルム製造時の作業性および安全性の向上させた防眩フィルムを提供すること。
【解決手段】
本発明の防眩フィルムは、基材フィルムにラクトン環含有樹脂フィルムを用い、基材フィルム上に防眩層を設けた防眩フィルムにおいて、防眩層が、特定の粒子径を有する微粒子、および塗料組成物の組成物配合比を調製することで、高精細化したディスプレイに用いても優れた防眩性、シンチレーションの防止、画像鮮明性の向上、高い耐候性、高表面硬度およびフィルム製造・加工時の作業性・安全性を向上させた防眩フィルムが得られる。 （もっと読む）

【課題】ラジカル重合性モノマーを真空蒸着してなる有機層を有するガスバリアフィルムであって、有機層が安定に形成されたガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム上に、少なくとも１つの有機層と、少なくとも１つの無機層とを有し、かつ、前記有機層が、ラジカル重合性モノマーと、１気圧３０℃で液状である重合開始剤とを含む組成物を真空蒸着し、硬化させてなることを特徴とする、ガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】 機械物性、透明性を損なうことなく、永久的な帯電防止性に優れた硬化物を与え、とくにコーティング剤として有用な活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物、該組成物を基材表面に塗布し、硬化させてなる硬化膜、該硬化膜を基材の少なくとも片面の少なくとも一部に有する被覆物を提供する。
【解決手段】 エチレン性不飽和結合を有するイオン性液体（Ａ）および（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有してなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】微細パターンを形成するに際し、熱処理によりレジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る樹脂組成物の樹脂成分として用いることができる重合体の精製方法およびこの精製方法により得られる重合体を提供する。
【解決手段】微細パターン形成用樹脂組成物に用いられる重合体の精製方法であって、該重合体は、（メタ）アクリルアミド誘導体を繰返し単位として含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定したポリスチレン換算質量平均分子量が１，０００〜５００，０００であり、アルコール性水酸基を有する第一の有機溶媒（Ａ）とエステル結合を分子内に有する第二の有機溶媒（Ｂ）との混合溶媒に上記重合体を溶解させる工程と、水（Ｃ）を加えて攪拌する工程と、溶液層より沈降した下層を分離する工程とを含む。 （もっと読む）

本発明は、30〜99重量％の少なくとも１種の非イオン水溶性モノマーa)および、少なくとも１種のa)とは異なるモノマーb)であって、i) 少なくとも１個のヒドロキシル基を有するモノマー、ii) アニオンモノマーおよびiii) i)とii)との混合物から選択されるモノマーb)、少なくとも１個のアミノ基を有する任意のモノマーc)、他の任意のモノマーを含むモノマー混合物を重合することによって得ることができ、a)、b)、c)およびd)の合計量が100重量％である沈殿ポリマーに関する。モノマー混合物は、0.1重量％未満の、１分子当たり少なくとも２個のフリーラジカル重合可能な二重結合を有するモノマーを含み、ここで百分率はa)、b)、c)およびd)の合計量に関する。本発明はさらに、該ポリマーを、水性組成物のためのレオロジー改変剤として使用すること、該ポリマーを含む水性組成物ならびに、化粧料および医薬調製物を増粘するためにポリマーを使用することに関する。 （もっと読む）

【課題】天然ゴムを原料として、ガス非透過性に優れた機能性高分子材料を提供する。
【解決手段】天然ゴムの各イソプレン単位に含まれる二重結合をエポキシ基に転化し、次いでエポキシ基を加水分解して水酸基に転化する。全ての二重結合に水酸基を確実に導入することができ、また多くの水酸基を導入できるので、ガス非透過性に優れた食品包装用フィルムなどに利用することができる。エポキシ基導入前に該天然ゴム中の蛋白質を除去する脱蛋白工程を行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
防眩フィルムの拡散・防眩性を低下させることなく、透過鮮明度を向上させ、ヘイズを高くしンチレーション（面のぎらつき）を低減させても、透過鮮明度を高く維持し、これらに加えて高い耐候性および表面硬度を有し、かつ、防眩フィルム製造時の作業性および安全性の向上させた防眩フィルムを提供すること。
【解決手段】
本発明の防眩フィルムは、基材フィルムにラクトン環含有樹脂フィルムを用い、基材フィルム上に防眩層を設けた防眩フィルムにおいて、防眩層が、バインダーと、これに含まれる微粒子の屈折率の差を０．０２〜０．２とすることによって、拡散・防眩性を低下させることなく、透過鮮明度を向上させている。又、曇価を高くしてシンチレーション（面のぎらつき）を低減させても、透過鮮明度を高く維持している。さらに、ラクトン環含有樹脂フィルムを基材フィルムとすることで高い耐候性、高表面硬度およびフィルム製造・加工時の作業性・安全性を向上させた防眩フィルムが得られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アルコール性ヒドロキシル基を有する化合物類とヒドロキシ安息香酸類を反応させて、ヒドロキシ安息香酸エステル類を製造するに際し、反応後の触媒除去を簡便に行うことが可能であり、着色もなく、高収率・高純度で目的化合物を得ることができる製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、アルコール性ヒドロキシル基を有する化合物類とヒドロキシ安息香酸類とを、固体酸触媒下で不活性溶媒中にて反応させて、反応液から前記固体酸触媒を除去して得てなるヒドロキシ安息香酸エステル類の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ耐薬品性が良好な硬化膜を得ることができるポジ型感光性組成物、および該ポジ型感光性組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、光導波路などの素子を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される構造単位を含むカルボキシル基含有アクリル樹脂、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を含有するポジ型感光性組成物。
【化１】


（Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｒ^２は炭素数２から１５の２価の有機基を表す。） （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性の向上とラインエッジラフネスの低減を両立したポジ型レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、（Ａ）が式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）の繰り返し単位を含む高分子化合物（１）、（Ｂ）が特定ののスルホニウム塩化合物であるポジ型レジスト材料。
（もっと読む）

【課題】パターン形成時の解像度に優れ、しかもエッチング性に優れる、エッチング用マスク材、特に金エッチング用マスク材として好適なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の構造単位（ａ）から（ｃ）を特定の割合で有する共重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、および（Ｃ）有機溶媒を含有する感放射線性樹脂を製造する。 （もっと読む）

【課題】高感度で高解像性を有する化学増幅機能と非化学増幅機能の両方を有し、超ＬＳＩ製造用又はフォトマスク作製用微細パターン形成材料に好適なポジ型レジスト材料の提供。
【解決手段】下記３式の繰り返し単位を有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料。
（もっと読む）

【解決手段】３種の特定構造を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、（Ｂ）が特定構造を有するスルホニウム塩化合物であるポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、良好なマスク忠実性、特にＬＥＲの小さいパターンを与える。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性の向上、及びマスク忠実性、特にＬＥＲを低減したパターンを与えることのできるポジ型レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、（Ａ）が式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）の繰り返し単位を含む高分子化合物（１）、（Ｂ）が特定のスルホニウム塩化合物であるポジ型レジスト材料。
（もっと読む）

【課題】側鎖にラジカル重合性の不飽和基を有し、製版特性に優れ、さらに保存安定性にも優れた、カラーフィルター用に好適に用いることができるアルカリ可溶性樹脂を提供する。
【解決手段】側鎖二重結合含有重合体を多塩基酸無水物変性して得られるアルカリ可溶性樹脂であって、該アルカリ可溶性樹脂は、酸価が２５以下である側鎖二重結合含有重合体が多塩基酸無水物変成され、二重結合当量が４００〜２０００のものであるアルカリ可溶性樹脂。 （もっと読む）