【課題】本発明は、優れた耐熱性を有し、高屈折率を示す硬化膜を形成しうる有機系の膜形成用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】硬化後に４００℃以上の熱分解温度を有する有機化合物と、アルミニウム化合物粒子、スズ化合物粒子、チタン化合物粒子およびジルコニウム化合物粒子からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属化合物粒子とを含む膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】 耐衝撃性、耐熱性、耐候性、低吸水性、耐擦傷性に優れた熱可塑性樹脂積層体、および該熱可塑性樹脂積層体を用いた透明性基板材料および透明性保護材料を提供する。
【解決手段】 特定の（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ）の少なくとも１種と、特定の脂肪族ビニル構成単位（ｂ）の少なくとも１種を含み、前記（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ）と前記脂肪族ビニル構成単位（ｂ）とのモル構成比が１５：８５〜８５：１５であるビニル共重合樹脂（Ａ）が、熱可塑性樹脂（Ｂ）の片面または両面に積層された熱可塑性樹脂積層体、ならびに該積層体からなる透明性基板材料および透明性保護材料。 （もっと読む）

【課題】汚防性、非粘着性、離型性、滑り性、耐磨耗性、耐蝕性、電気絶縁性、反射防止特性、難燃性、帯電防止特性、耐薬品性、耐候性などに優れ、さらに両親媒性、クリーニング性も有する、皮膜などとして有用な新たな重合体を提供する。
【解決手段】分子内に一つの付加重合性官能基を有するフルオロシルセスキオキサンに由来する構成単位Ａ、親水性基を含む付加重合性単量体に由来する構成単位Ｂ、付加重合性単量体由来の構成単位であって側鎖に重合性不飽和結合を有する基を有する構成単位Ｃおよび任意に、前記分子内に一つの付加重合性官能基を有するフルオロシルセスキオキサン、親水性基を含む付加重合性単量体および重合性不飽和結合を有する基を導入できる官能基を有する付加重合性単量体以外の付加重合性単量体に由来する構成単位Ｅを含む重合体。もしくは、分子内に一つの付加重合性官能基を有するフルオロルシルセスキオキサンに由来する構成単位Ａ、親水性基を含む付加重合性単量体に由来する構成単位Ｂ、付加重合性単量体由来の構成単位であって側鎖に重合性不飽和結合を有する基を有する構成単位Ｃ、付加重合性官能基を有するオルガノポリシロキサンに由来する構成単位Ｄ，および任意に、前記分子内に一つの付加重合性官能基を有するフルオロルシルセスキオキサン、親水性基を含む付加重合性単量体、重合性不飽和結合を有する基を導入できる官能基を有する付加重合性単量体、および付加重合性官能基を有するオルガノポリシロキサン以外の付加重合性単量体に由来する構成単位Ｅ’を含む重合体。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、散乱光強度差が小さく、液晶表示装置に用いた際に湿熱サイクル試験による正面コントラストの低下の少ない位相差フィルムを提供することにある。更に、該位相差フィルムの製造方法、該位相差フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供することにある。
【解決手段】（メタ）アクリル系樹脂を含む層と、正の複屈折性樹脂を含む層とをそれぞれ少なくとも一層以上積層してなる位相差フィルムであって、ゴニオフォトメーターの散乱光プロファイルの入射光９０°のフィルムの散乱光強度測定において、光源から１３０°の位置における散乱光強度を検出する場合に、フィルム遅相軸を水平に試料台へ設置した場合と垂直に設置した場合の散乱光強度差が、０．０５以下であることを特徴とする位相差フィルム。 （もっと読む）

【課題】酸に対する反応性および熱安定性に優れ、かつ、現像時の膨潤が小さいフォトレジスト組成物を構成する高分子化合物およびその材料として有用である、新規なアクリル酸エステル誘導体とその効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１２は水素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を表す。Ｗは直鎖状、分岐状、または環状のアルキレン基を表す。ＡおよびＢは酸素原子、または硫黄原子を表す。ｎは０または１を表す。ｍは０または１を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、塗布欠陥、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供することである。
【解決手段】表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジスト組成物に添加する樹脂であって、ゲルパーミッションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量３万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して０．１％以下であることを特徴とする樹脂その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】
１）酸に対する反応性および熱安定性に優れ、かつ、現像時の膨潤が小さいフォトレジスト組成物用高分子化合物の原料となる化合物を提供すること。
【解決手段】
下記一般式
【化１】



（式中、Ｒ^１は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、およびＲ^１０は、水素原子、直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を表す。Ｒ^２とＲ^３およびＲ^３とＲ^４は連結してアルキレン基を表してもよい。ｎは０から２を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体および該アクリル酸エステルを原料の一つとして重合することにより得られる高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】加硫処理を施して加硫ゴムとした時に、従来の高ビニル共役ジエン系重合体を含むゴム組成物と比較して、転がり抵抗とウェットスキッド抵抗のバランスに優れ、さらに剛性と耐摩耗性にも優れた油展高ビニル共役ジエン系ゴム組成物の提供。
【解決手段】分子中にグリシジルアミノ基を含む低分子化合物７５質量％〜９５質量％と該低分子化合物の２量体以上のオリゴマー２５質量％〜５質量％からなる変性剤が結合した変性共役ジエン系重合体であり、該共役ジエン系重合体の共役ジエン部のビニル量が５０％〜７５％であるゴムプロセス油で伸展された油展変性共役ジエン系重合体と他のゴムの組成物。 （もっと読む）

【課題】現像時の膨潤が小さいフォトレジスト組成物用高分子化合物、その材料として有用な重合性化合物およびその効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、ｎは０〜２を表す。Ｒ^１は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８，Ｒ^９，Ｒ^１０は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^２，Ｒ^３、Ｒ^３，Ｒ^４は連結して炭素数３〜６のアルキレン基を表してもよい。Ｗは、炭素数１〜１０のアルキレン基を表す。Ｙ^１とＹ^２は、それぞれ独立して、酸素原子または硫黄原子を表す。）で示される（メタ）アクリル酸エステル誘導体、及び該（メタ）アクリル酸エステル誘導体を少なくとも原料の１つとして重合することにより得られる高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】高度に分岐したパーフルオロアルケニル基を主鎖にもつ、新規な含フッ素オリゴマー付加アルコキシシランを提供する。
【解決手段】 下記の一般式（１）で示される含フッ素オリゴマー付加アルコキシシラン。


（式中、Ｒｆ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７、ｎ、ｐ，ｍ、ｑは、明細書に定義されたとおりである。） （もっと読む）

【課題】現像処理後の残色率を高め、パターニング後の熱処理に伴なう熱ダレによる形状変化を抑制する。
【解決手段】（Ａ）有機溶剤可溶性染料と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）アミン構造を含む光重合性化合物と、（Ｄ）前記（Ｃ）アミン構造を含む光重合性化合物と異なる光重合性化合物と、（Ｅ）有機溶剤とを含む染料含有ネガ型硬化性組成物である。光重合性化合物のアミン構造は、３級アミン構造が好ましい。 （もっと読む）

【課題】汚防性、非粘着性、離型性、滑り性、耐磨耗性、耐蝕性、電気絶縁性、反射防止特性、難燃性、帯電防止特性、耐薬品性、耐候性などに優れ、さらに両親媒性、クリーニング性も有する、皮膜などとして有用な新たな重合体を提供する。
【解決手段】分子内に一つの付加重合性官能基を有するフルオロルシルセスキオキサンに由来する構成単位Ａ、親水性基を含む付加重合性単量体に由来する構成単位Ｂ、活性水素を有する基を含む付加重合性単量体に由来する構成単位Ｃ、および任意に、前記分子内に一つの付加重合性官能基を有するフルオロルシルセスキオキサン、親水性基を含む付加重合性単量体、および活性水素を有する基を含む付加重合性単量体以外の付加重合性単量体に由来する構成単位Ｅを含む重合体。もしくは、分子内に一つの付加重合性官能基を有するフルオロルシルセスキオキサンに由来する構成単位Ａ、親水性基を含む付加重合性単量体に由来する構成単位Ｂ、活性水素を有する基を含む付加重合性単量体に由来する構成単位Ｃ、付加重合性官能基を有するオルガノポリシロキサンに由来する構成単位Ｄ，および任意に、前記分子内に一つの付加重合性官能基を有するフルオロルシルセスキオキサン、親水性基を含む付加重合性単量体、活性水素を有する基を含む付加重合性単量体、および付加重合性官能基を有するオルガノポリシロキサン以外の付加重合性単量体に由来する構成単位Ｅ’を含む重合体。 （もっと読む）

【課題】強化繊維との接着性に優れ、取扱い性および射出成形時の繊維分散性が良好な強化繊維を提供すること。
【解決手段】強化繊維（Ａ）１００重量部に、（ａ）芳香族ビニル系単量体単位１０〜５０重量％、（ｂ）（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位５０〜９０重量％、（ｃ）（ａ）および（ｂ）と共重合可能な他のビニル系単量体単位０〜３０重量％からなる共重合体（Ｂ）０．０１〜３０重量部が付着されてなる強化繊維、また、該強化繊維とマトリックス樹脂からなる繊維強化複合材料。 （もっと読む）

【課題】現像時の膨潤が小さいフォトレジスト組成物を構成する高分子化合物および、その材料として有用である新規なアクリル酸エステル誘導体の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を表すか、または、Ｒ^１とＲ^２が一緒になって、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基を表す。Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ水素原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、または直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を表すか、または、Ｒ^３とＲ^４が、一緒になって、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、酸素原子、または硫黄原子を表す。Ｒ^５は水素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を表す。Ｗは直鎖状、分岐状、または環状のアルキレン基を表す。ｎは０または１を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、耐水性に優れたレジスト膜を形成可能な液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物及び液浸露光用フォトレジスト用樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、微細なパターンを鮮明且つ精度よく形成できる液浸露光用フォトレジスト用樹脂組成物、並びに半導体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、高分子の主鎖の炭素原子から直鎖状に結合している原子が６から１５であり、その直鎖状原子の末端の原子にフッ素原子を有してもよい炭素数５〜２０の脂環式骨格を有する少なくとも１種類のモノマー単位をモル比として０．１〜１０％有する液浸用フォトレジスト高分子化合物を提供する。 （もっと読む）

【課題】ジルコニア成形体に対してレジン系材料を接着させる際に用いることで、これら両者を強固に接着し、その高い接着強度を長期に維持可能なジルコニア成形体用接着材料を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイルオキシ基または（メタ）アクリロイルアミノ基に、炭素数が７〜２０個の鎖長の脂肪族炭化水素基を介してカルボン酸基が結合されてなるカルボン酸基含有重合性単量体、好適には、一般式（１）


で示される化合物を、重合性単量体成分の少なくとも一部として含んでなるジルコニア成形体用接着材料。 （もっと読む）

【課題】 アクチュエータを構成した場合に、比較的小さな印加電圧でも大きな変位量を得ることのできる液晶エラストマーを提供する。また、この液晶エラストマーを用いたアクチュエータを提供する。
【解決手段】 液晶エラストマーは、所定の液晶性アクリレートモノマー（Ａ）と、アクリレートモノマー（Ｂ）と、架橋基を有するモノマー（Ｃ）と、を共重合させた共重合体を架橋させてなる。この液晶エラストマーから誘電膜２０を作製し、誘電膜２０を挟んで複数の電極２１ａ、２１ｂを配置してアクチュエータ１を構成する。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においても、高解像性、大きなブリッジマージンを示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のジカルボニルメチレン構造を有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】基材密着性、モールド剥離性およびエッチング耐性に優れたパターンを形成可能なナノインプリント用硬化性組成物およびこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】シアノ基を有する重合性化合物（Ａｘ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、を含むことを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物およびこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】側鎖が短いフルオロアルキル基が4以下であっても、優れた撥水性、撥油性、防汚性を有する含フッ素アクリレート系ポリマーを提供する。
【解決手段】（Ａ）式：


Ｙは、炭素数１〜１０の脂肪族基、炭素数６〜１０の芳香族基または環状脂肪族基、−ＣＨ2ＣＨ2Ｎ(Ｒ1)ＳＯ2−基（但し、Ｒ1は炭素数１〜４のアルキル基である。）または−ＣＨ2ＣＨ(ＯＹ1)ＣＨ2−基（但し、Ｙ1は水素原子またはアセチル基である。）で示される含フッ素単量体から誘導された繰り返し単位、（Ｂ）フッ素原子を含まない単量体から誘導された構成単位、および（Ｃ）必要により存在する、架橋性単量体から誘導された構成単位を有して成る含フッ素重合体を含んでなる表面処理剤。 （もっと読む）