本発明の目的は、上記現状に鑑み、耐薬品性、耐溶剤性、耐候性、防汚性、薬液低透過性、非粘着性等のフッ素樹脂本来の特性を損なうことなく、成形性、生産性、層間接着性と耐ストレスクラック性、特に各種薬液と接触する場合における耐ストレスクラック性に優れた含フッ素成形体及び積層体を与えることができるフルオロポリマーを提供することにある。本発明は、オリゴマーを含有するか又はオリゴマーを含有していないフルオロポリマーであって、上記オリゴマーは、分子量が１００００以下であり、上記フルオロポリマーの質量の０．０５質量％以下であることを特徴とするフルオロポリマーである。 （もっと読む）

（ａ）２以上の官能基を有する１種以上の多官能性アクリレート、（ｂ）１種以上のモノアクリレートモノマー、（ｃ）１種以上のヘテロ原子含有ジアクリレート（ここで、ヘテロ原子はイオウ又はセレンである）及び（ｄ）硬化剤からなる硬化性組成物が発見された。この硬化性組成物は、調光装置及びその他の光学装置に使用するのに適切な高屈折率材料の前駆体として見込みがある。加えて、新規な硬化性組成物は、ディスプレイフィルム、特に輝度向上ディスプレイフィルムを形成する際に有用となり得るコーティングを製造するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路素子、集積回路製造用マスク等の製造に用いるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さい、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、以下の
Ａ）式（Ｉ）及び（ＩＩ）［式中、Ｒ^１はそれぞれ互いに無関係に水素又はメチル基であり、Ｒ^２はそれぞれ互いに無関係に直鎖状又は分枝鎖状の脂肪族又は脂環式の基又は置換又は非置換の芳香族又は複素芳香族の基であり、かつｍ及びｎはそれぞれ互いに無関係に０以上の整数であるが、ｍ＋ｎ＞０を意味する］の化合物並びにＢ）式（Ｉ）及び（ＩＩ）の化合物とは異なる少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマー（Ａ）を含有する混合物に関する。また本発明は前記混合物の重合法法、こうして得られる高透明ポリマー並びにその使用に関する。
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テトラゾール環の５−位置で置換された、ビニル化テトラゾールが、水性の方法によって形成される。ビニル化されたテトラゾールを含んでいるガス発生組成物１２は、例示的なガス生成装置１０内に含まれている。ガス生成システム２００はビニル化されたテトラゾールをその内部に含む。乗り物乗員保護システム１８０はガス生成システム２００を組込む。
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２つの工程におけるポリメタクリルイミドの製造方法：１）水含有希釈剤の存在での（メタ）アクリルアミド（Ａ、（Ｍｅ，Ｈ）ＨＣ＝ＣＨＣＯＮＨＲ^２）及びアルキル（メタ）アクリルエステル（Ｂ）並びに場合により別のエチレン系不飽和モノマーのラジカル共重合。モノマー（Ａ）は、アクリルアミド及びメタクリルアミドに加えて窒素上で置換されている（メタ）アクリルアミド（Ｒ^２＜＞Ｈ）も含む。モノマー（Ｂ）は、第二アルコール又は第三アルコールの（メタ）アクリルエステル、好ましくはｔ−ブチルメタクリレートである。２）アルケンの脱離下での１）からのコポリマーのポリメタクリルイミドもしくはＲ^２＜＞ＨについてはＮ−置換ポリメタクリルイミドへの熱的な又は触媒による反応。 （もっと読む）