【課題】低い屈折率と耐擦傷性とを両立した硬化性樹脂組成物およびこれを用いた硬化物、反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置の提供。
【解決手段】ヘキサフルオロプロピレンと、式ＣＨ(ＯＲ―ＯＨ)＝ＣＨ₂（式中、Ｒは炭素数１〜２０のアルキレン基）で表される水酸基含有ビニルエーテルとを単量体成分として有し、ヘキサフルオロプロピレンを上記水酸基含有ビニルエーテルに対して１．６当量以上５．０当量以下の範囲で反応させて得られるフルオロオレフィン共重合体中を含む硬化性樹脂組成物。該硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物を低屈折率層５に用いた反射防止フィルム１ａまたは１ｂ。該反射防止フィルムを保護フィルムとして有する偏光板。該偏光板を画像表示部に有する画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】光硬化性、密着性、離型性、残膜性、パターン形状、塗布性（Ｉ）、塗布性（ＩＩ）、エッチング適性のいずれにも優れた組成物を提供する。
【解決手段】重合性不飽和単量体を８８〜９９質量％と、光重合開始剤０．１〜１１質量％と、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも１種０．００１〜５質量％とを含み、前記重合性不飽和単量体として、分子内にエチレン性不飽和結合を有する部位とヘテロ原子の少なくとも１種を有する部位を含有する１官能重合性不飽和単量体の１種を前記重合性不飽和単量体中１０質量％以上含むことを特徴とする光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を採用した。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、露光ラチチュード性能が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、（Ｂ）成分が、特定構造で表される、酸分解性基を有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

Ａ）ラジカル重合可能な化合物を重合させることによって得られたポリマーおよびＢ）ラジカル重合可能なエチレン系不飽和基（略して重合性基）および５０００ｇ/ｍｏｌ未満の質量平均分子量Ｍ_wを有する化合物を含有する混合物において、化合物Ｂの少なくとも１０質量％が少なくとも１つの非芳香族環系を有する化合物Ｂ１であることを特徴とする、前記混合物。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも３つの異なる構造単位を有する疎水変性カチオン性コポリマーに関する。殊にアニオン性界面活性剤との組み合わせにおいて、高い塩負荷の場合ですら、水硬性結合剤、例えばセメントをベースとする水性建築材料系における保水性が著しく改善されうる。 （もっと読む）

【課題】 光学的品位ならびに機械特性に優れたアクリル系フィルムを提供する。
【解決手段】
（ｉ）〜（ｉｉｉ）を満足するアクリル系フィルムとする。
（ｉ）フィルムの長手方向、幅方向の破断点伸度がいずれも５％以上１５０％以下
（ｉｉ）面内の位相差Ｒｅｔが１ｎｍ以下でありかつ、厚み方向の位相差Ｒｔｈが−１０ｎｍ以上１０ｎｍ以下
（ｉｉｉ）ナノインデンテーション法で測定したフィルム表面の硬度が０．２ＧＰａ以上０．３５ＧＰａ以下 （もっと読む）

【課題】表示ムラの少ない（高分子／液晶）複合膜表示素子を提供する。
【解決手段】光重合性モノマー（Ａ）、光重合性モノマー（Ａ）とは相溶性のない有機化合物（Ｂ）、光重合性モノマー（Ａ）と光重合性モノマー（Ａ）とは相溶性のない有機化合物（Ｂ）とに共通して相溶性のある共溶媒（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）を必須成分とする光硬化型液状樹脂組成物を、透明電極を形成した第１の透明基板に滴下する工程、滴下された前記樹脂組成物を薄膜状に形成する工程、前記樹脂組成物を紫外線照射して硬化した樹脂組成物に空隙を形成する工程、硬化樹脂組成物から有機化合物（Ｂ）および共溶媒（Ｃ）を除去する工程、前記樹脂組成物内に形成された空隙に液晶を含浸する工程、樹脂組成物内の空隙に液晶が含浸された前記第１の透明基板に、透明電極を形成した第２の透明基板を重ね合わせる工程、とからなることを特徴とする（高分子／液晶）複合膜表示素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高度な透明性、耐熱性、耐傷性を有し、とりわけ低複屈折性に優れた導光板を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸アルキルエステル単位、下記一般式


（上記式中、Ｒ^１、Ｒ^２は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）で表されるグルタル酸無水物単位を有する共重合体若しくは上記単位に不飽和カルボン酸単位を有する共重合体またはさらにその他のビニル系単量体単位を有する共重合体であって、かつ複屈折率の絶対値が１．０×１０^−４以下の共重合体からなる導光板。 （もっと読む）

【課題】室温を中心とした液晶相の広い温度範囲および良好な混和性等の性質を有する化合物、該化合物を含む組成物、ならびに該組成物の重合によって得られる光学異方性等に優れる重合体を提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。


［Ｒ^aは（メタ）アクリロイルオキシ、オキシラン環、オキセタン環等の重合性基；Ａは
１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン等；Ｚは単結合、炭素数１〜２０のアルキレン等；Ｙは単結合、炭素数１〜２０のアルキレン等；ｍ、ｎは０〜５の整数である。］ （もっと読む）

【課題】長期にわたる撥水撥油性、繰り返しの汚染除去性に優れ、一液型で光及び／または熱の作用下に硬化可能な新規な不飽和二重結合含有含フッ素共重合体を主成分とするフッ素系ワニスを提供する。
【解決手段】フルオロオレフィンが１５〜８５モル％、特定の有機珪素化合物が０．００１〜３０モル％、及び特定のヒドロキシル基含有不飽和エーテルが１〜５０モル％を重合単位として含み構成されるヒドロキシル基含有含フッ素共重合体〔Ａ〕と、不飽和イソシアネート〔Ｂ〕との反応により生成されることを特徴とする二重結合含有含フッ素共重合体を主成分とするフッ素系ワニス。 （もっと読む）

【課題】耐候性、耐凍害性等に優れかつハードケーキの形成のない水性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）（メタ）アクリル酸エステル、（ｂ）多官能架橋性単量体および（ｃ）紫外線安定基および／または紫外線吸収基を有する不飽和単量体を含有する単量体成分を懸濁重合してなる平均粒子径が１〜１００μｍの樹脂粒子を含有する水性樹脂分散体。 （もっと読む）

【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度性を有し、現像後のレジストパターンの基板（たとえばマスクブランクス）上面内サイズ均一性が良好であり、さらに高いエッチング耐性を有する高分子化合物、レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）および（２）で示される繰り返し単位を有し、質量平均分子量が１，０００〜５００，０００であることを特徴とする高分子化合物。
【化２８】
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【課題】反射防止能、防汚性、耐擦傷性に優れ、且つ大量生産に適した塗布型の光学フィルム、代表的には反射防止フィルムなどを製造するための塗布組成物を提供すること、このような塗布組成物を用いて優れた光学フィルムを提供すること、並びにこのような光学フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】主鎖にポリシロキサンセグメントを有する構成成分、及び側鎖に反応性有機官能基を含有する構成成分を含み、且つフッ素原子を含む特定構造の共重合体（Ｐｓ）と、主鎖が炭素原子のみからなる含フッ素共重合体（Ｐｆ）とを含有する塗布組成物。 （もっと読む）

【課題】光ナノインプリントに適した液膜形成能、およびパターン形成能のすぐれたレジスト前駆体組成物ならびにこれを用いた微細なパターンの形成法を提供する。
【解決手段】ナノメートルレベルの微細構造物は含フッ素有機化合物の重合体を含む材料である樹脂成形体。特に、メタクリレートやアクリレートなどからなる単量前駆体組成物に、これらと相溶するフッ素原子含有光重合性単量前駆体組成物を添加する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率であって透明性に優れ、紫外線等の活性エネルギー線を照射して速やかに硬化することが可能であり、さらにはその硬化物が高屈折率であって透明性に優れ、プラスチック基材との密着性、金型との離型性に優れ、フィルム状に成型した後でもある程度の高温下で反りが小さい光学材料用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンとアクリル酸との反応生成物である二官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）および一般式（２）


（ここで式中、Ｒ₃は水素原子またはメチル基であり、ｍは１〜４の整数を表す。）で表される単官能（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を含有する光学材料用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体製造等の微細なパターン形成に用いられる、従来品よりも高感度で、パターン倒れが改良された高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造の連鎖移動剤と重合開始剤とを使用してエチレン性二重結合を有する重合性化合物を重合させる高分子化合物の製造方法において、特定構造の連鎖移動剤（Ｓ）と重合開始剤（Ｉ）との添加モル比（Ｉ／Ｓ）が、１．０以下であることを特徴とする高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】現像後の表面接触角を低く抑えることができると共に、液浸露光時の水の浸透が抑えられるレジスト材料の提供。
【解決手段】下記一般式（１ａ）、（１ｂ）、及び（１ｃ）又は（２ａ）、（２ｂ）、及び（２ｃ）で表される繰り返し単位の組み合わせの高分子化合物を含むレジスト材料。


（Ｒ^1a、Ｒ^1b、及びＲ^1cはＨ、Ｆ、アルキル基又はフッ素化アルキル基。Ｒ^2aはＨ、−Ｒ³−ＣＯ₂Ｈ又は−Ｒ³−ＯＨ。Ｒ^2cはフッ素化アルキル基。Ｒ³はフッ素を含んでもよい２価の有機基。Ｒ⁴はメチレン基又は酸素原子。Ｒ⁵はＨ又は−ＣＯ₂Ｒ⁷。Ｒ⁶はＨ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ⁷はＨ又はアルキル基。Ｒ^8a、Ｒ^8bは単結合又はアルキレン基。Ｒ⁹はフッ素化アルキル基。） （もっと読む）

【課題】ガラスなどの酸化ケイ素系基板上へ無電解めっき法を用いて導電性パターンを形成するのに好適な新規疎水性ポリマー、それを用いた、基材上に密着性に優れた導電膜を有する積層体、その形成方法、該導電膜を配線として有するプリント配線基板、薄層トランジスタ及びこれらを備えた装置を提供する。
【解決手段】ラジカル重合可能な不飽和性部位と、無電解めっきの触媒を吸着する部位とを有する疎水性ポリマーであって、該ラジカル重合可能な不飽和性部位と該無電解めっきの触媒を吸着する部位の構成比が、６０：４０〜３０：７０である疎水性ポリマー。このポリマーを重合開始層に結合させてグラフトポリマー層を形成し、そこに無電解めっき触媒を付与し、無電解めっきを行うことで、表面に導電性膜が形成された積層体を得る。 （もっと読む）

【課題】発光素子の光取り出し効率を高めるフロスト処理に用いられ、十分な耐酸性を有するとともに、アルカリ可溶性を有する酸エッチング耐性材料を提供する。
【解決手段】 式（１）で表わされる繰り返し単位を有する酸エッチング耐性材料である。


（上記一般式（１）中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基であり、Ｒ³は脂肪族環式基および芳香族基から選択される環式基であり、Ｒ⁴はカルボキシル基および水酸基から選択される極性基である。Ｒ²はエステル基を含有し、ｎは０または１である。） （もっと読む）

【課題】基板との密着性、現像残渣の改善、顔料分散性、耐熱性のバランスのとれた感光性樹脂を提供する。
【解決手段】長鎖のモノ（メタ）アクリレート（ａ）５〜３０モル％と、トリシクロデカン骨格およびジシクロペンタジエン骨格から選択される少なくとも１つの骨格を有するモノ（メタ）アクリレート（ｂ）５〜６５モル％と、エポキシ基を含有するラジカル重合性化合物（ｃ）３０〜８０モル％と、前記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）と共重合し得る他のラジカル重合性化合物（ｄ）１〜３０モル％とをその合計が１００モル％となる量で共重合させ、得られた共重合物に含まれるエポキシ基の５〜１００％に不飽和一塩基酸（ｅ）を付加させ、前記（ｅ）成分を付加させたときに生成した水酸基の５〜１００％に多塩基酸無水物（ｆ）を付加させて得られる感光性樹脂。 （もっと読む）