【課題】極めて高感度で硬化し、保存安定性も良好な硬化性組成物と、未露光部の現像残渣が少なく、露光部の基板との密着性に優れ、所望の断面形状の着色パターンを備えたカラーフィルタ及び該カラーフィルタの生産性に優れた製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物と光重合開始剤とを含有する硬化性組成物である。前記硬化性組成物は、さらに着色剤を含有することことが好ましい。〔一般式（Ｉ）中、Ｒ^１はｎ価の有機基を表す。Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^３及びＲ^５は各々独立に、水素原子またはメチル基を表す。Ｘは−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^４−、または−Ｓ−を表し、Ｒ^４は水素原子または一価の有機基を表す。ｎは１〜１２の整数を表す。〕
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【課題】高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物、さらに、ＥＵＶ光による露光下で、コントラストが良く、さらに露光時のアウトガスの問題がないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の置換基を有するスチレン系繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のトリアリールスルフォニウム化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造等の微細なパターン形成に用いられる、従来品よりも高感度で、パターン倒れが改良された高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造の連鎖移動剤と重合開始剤とを使用してエチレン性二重結合を有する重合性化合物を重合させる高分子化合物の製造方法において、特定構造の連鎖移動剤（Ｓ）と重合開始剤（Ｉ）との添加モル比（Ｉ／Ｓ）が、１．０以下であることを特徴とする高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の一般式で表される酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の一般式で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れた硬化性を有し、かつ、密着性と分散安定性とを両立し得る複合微粒子およびその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の複合微粒子は、無機コア粒子と、コア粒子表面の少なくとも一部に結合した有機ポリマーとを有する。有機ポリマーは、その側鎖にエチレン性不飽和基を有する。好ましくは、エチレン性不飽和基は、ウレタン結合を介して有機ポリマー主鎖に結合されている。好ましくは、有機ポリマーはアクリル系ポリマーである。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、光学特性に優れ、機械強度が高い環状オレフィン／スチレン類共重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 環状オレフィンとスチレン類とを、ハロゲン系有機溶剤中、周期表第４族遷移金属化合物の共存下で共重合する環状オレフィン／スチレン類共重合体の製造方法。好ましくは、前記周期表第４族遷移金属化合物が、下記式（１）で示されるものである。
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【課題】ラインウィズスラフネス、ＰＥＢ温度依存性及び現像欠陥について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記繰り返し単位（１）〜（４）のすべてを含有する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。（１）ラクトン構造を有する第一の繰り返し単位、（２）ラクトン構造を有し、かつ第一の繰り返し単位とは異なる第二の繰り返し単位、（３）下記一般式（ｐ−Ｉ）〜（ｐ−Ｖ）から選ばれる構造を有する第三の酸分解性繰り返し単位、（４）下記一般式（ｐ−Ｉ）〜（ｐ−Ｖ）から選ばれから選ばれる構造を有し、かつ第三の酸分解性繰り返し単位とは異なる、第四の酸分解性繰り返し単位。 （もっと読む）

【課題】偏光子保護用途に適したリターデーションが小さく、製造工程の簡便なアクリル系フィルムおよび偏光板を提供すること。
【解決手段】下記（ｉ）、（ｉｉ）を同時に満足するフィルムとする。 （ｉ）フィルム面内において最大の屈折率を示す方向をｘ方向、フィルム面内においてｘ方向と直交する方向をｙ方向、フィルム厚み方向をｚ方向としたとき、下記式（１）で表されるＮ１が０．０００１以下であり、かつ、下記式（２）で表されるＮ２が０．０００１以下である。 Ｎ１＝｜ｎｘ−ｎｙ｜ ・・・ （１） Ｎ２＝｜（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｜ ・・・ （２） （ｉｉ）下記式（３）で表されるＮ３が０．００１０以下であり、かつ、下記式（４）で表されるＮ４が０．００１０以下である。ｎｘ’、ｎｙ’、ｎｚ’は延伸後の屈折率である。 Ｎ３＝｜ｎｘ’−ｎｙ’｜ ・・・ （３） Ｎ４＝｜（ｎｘ’＋ｎｙ’）／２−ｎｚ’｜ ・・・ （４） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示される繰り返し単位からなる高分子化合物。


（Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異種の水素原子、又は炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基で、Ｒ¹とＲ²が結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ³⁰は水素原子又はメチル基である。）
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を用いたパターン形成方法によれば、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液（アルカリ現像液）に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】熱硬化工程を必要とせず、活性エネルギー線照射のみで、従来の熱硬化衝撃吸収性プライマーと同等の耐衝撃性を有し、さらには、樹脂組成物及びその硬化物の屈折率が高く、光学用基材との密着性に優れる高屈折率の光学部材用衝撃吸収性樹脂組成物の提供。
【解決手段】フルオレン骨格を有する化合物（A）と、ゴム変性樹脂（B）と、前記（A）、（B）以外のカチオン硬化性化合物（C）と、光酸発生剤（D）とを含有してなる光学部材用衝撃吸収性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ温度依存性、ラインエッジラフネス（ＬＷＲ）、ダーク／ブライトパターン形状差、及び現像欠陥について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有する繰り返し単位（Ａ１）、及びラクトン構造を有し、且つシアノ基を有さない繰り返し単位（Ａ２）を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜用のアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含みデカリンに対する後退角が４０°以上であるレジスト保護膜用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、感光性レジストを基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜上に前記レジスト保護膜用材料を含むレジスト保護膜形成組成物を塗布してレジスト膜上にレジスト保護膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度、露光ラチチュードおよびパターン倒れ性能に優れたポジ型感光性組成物、それに用いる化合物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、それに用いる化合物、およびそれを用いたパターン形成方法。一般式（Ｉ）中、Ｘは酸分解性基と脂環基を含む二価の連結基を表す。Ｒ₁、Ｒ₂、Ａ、Ｂ、Ｐ、Ｑは各々所定の置換基等を表す。ａ、ｂは所定の数を表す。
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【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】耐光性、耐熱性及び実装信頼性の点で優れた光学部材を形成することが可能な、アクリル系重合体を含む硬化性の樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）（ａ）エポキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）重合性不飽和結合を１個有する非シリコーン系の重合性単量体、（ｃ）シロキサン構造含有（メタ）アクリレート及び（ｄ）水酸基含有（メタ）アクリレートを含む単量体が共重合した共重合体中のエポキシ基の少なくとも一部に対して不飽和カルボン酸を反応させて得られるアクリル系重合体と、（Ｂ）重合性不飽和結合を有する重合性単量体と、（Ｃ）ラジカル重合開始剤と、を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

マレイミド−α−アルキルスチレン系耐熱塊状四元重合体、およびこれを製造する方法を開示する。より詳しくは、Ｎ−置換マレイミド単量体５〜６０重量％、α−アルキルスチレン単量体１０〜７０重量％、不飽和ニトリル単量体５〜５０重量％、および芳香族ビニル単量体３〜５０重量％からなる塊状四元共重合体、並びにこれを製造するための連続塊状重合工程を開示する。本発明の塊状四元共重合体は、７０，０００〜３００，０００の重量平均分子量（Ｍｗ）および１５０〜２５０℃のガラス転移温度を有する耐熱塊状四元共重合体であって、高温における熱安定性および耐熱性に優れるうえ、溶融粘度が著しく低いため、自体加工性だけでなく、他の樹脂との配合時の生産性、加工性、成形性および混練性にも優れる。また、本発明の連続塊状重合工程では、脱揮発装置が装備されている連続塊状重合工程であって、低コストおよび高効率で塊状四元共重合体の生産が可能である。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、ＬＷＲ（ラインウィイズスラフネス）、疎密依存性の低減を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】酸分解性アセタール基を有する芳香族基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位を含有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物とそのパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、オキシム基を含むフォトレジストモノマー、ポリマー及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記フォトレジストモノマーは、下記化学式で表される。


式中、Ｒ^＊は各々独立的に水素又はメチル基であり、Ｒはエーテル基を含むか又は含まない置換又は非置換の炭素数１〜２５のアルキル基であるか、あるいは、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基又はマルチシクロアルキル基を含み、エーテル基、ケトン基又は硫黄を含むか又は含まない置換又は非置換の炭素数４〜２５の炭化水素基である。 （もっと読む）

【課題】新規熱硬化性重合液及びそれを用いた熱硬化性樹脂の提供。
【解決手段】本発明は、（メタ）アリル基と脂環式エポキシ基を1個ずつ持つ化合物（ａ）を主成分とする化合物群を重合することにより、２５℃における粘度を10 mPa・sから2,000,000mPa・sとしたことを特徴とする液状硬化性重合液を提供する。 （もっと読む）