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Fターム[4J100BC04]の内容

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【課題】安価且つ容易に、硬度などの機械強度、および基材密着性に優れた位相差層を形成することのできる液晶組成物、それを用いたカラーフィルタ、およびこのカラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】1種または2種以上の架橋性液晶分子と、分子構造中にメルカプト基を含有するシランカップリング剤と、分子構造中にアルコール性水酸基および多官能(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートと、イソシアネート化合物と、を含有することを特徴とする液晶組成物、およびこれを透明基板2に塗工して固定化した位相差層4を備えるカラーフィルタ1ならびに該カラーフィルタ1を表示側基板12とする液晶表示装置11。 (もっと読む)


【課題】安価且つ容易に、硬度などの機械強度、および基材密着性に優れた位相差層を形成することのできる液晶組成物、それを用いたカラーフィルタ、およびこのカラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】1種または2種以上の架橋性液晶分子と、分子構造中に(メタ)アクリロイル基を含有するシランカップリング剤と、分子構造中にアルコール性水酸基および多官能(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートと、イソシアネート化合物と、を含有することを特徴とする液晶組成物、およびこれを透明基板2に塗工して固定化した位相差層4を備えるカラーフィルタ1ならびに該カラーフィルタ1を表示側基板12とする液晶表示装置11。 (もっと読む)


【課題】DUVエキシマレーザーリソグラフィー等において、ラインエッジラフネスが小さく、ディフェクトの生成も少ないレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】下記式(3)で表される構造を有する酸分解性単位と、親水性基を有する単位とを構成単位として含有するレジスト用アクリル系重合体。


(式(3)中、K1およびK2はそれぞれ独立してアルキレン、シクロアルキレン、オキシアルキレン、およびアリーレンからなる群の少なくとも一種を表し、L1およびL2はそれぞれ独立して−C(O)−、および−OC(O)−からなる群の少なくとも一種を表し、M2はアルキレン、シクロアルキレン、オキシアルキレンからなる群の少なくとも一種を表し、Y1およびY2はそれぞれ独立して特定のエーテル構造を有する基又は特定の環状エーテルを有する基を含む酸分解性結合を表す。) (もっと読む)


【課題】現像欠陥が改善され、液浸露光時に於いて、水に対する追随性、およびラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物に好適に用いることができる樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フッ素原子及び珪素原子の内の少なくともいずれか一方と、−CONHSO2−基とを有する樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】電子線、X線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成する。また、本感放射線性樹脂組成物は、樹脂成分として、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生基を含有する繰り返し単位と、非酸解離性繰り返し単位とからなる酸発生基含有樹脂のみを含有する。 (もっと読む)


【課題】帯電性に優れた非真球の微粒子、さらには、該微粒子を用いて、電場応答性に優れたインクジェットインク組成物、該インクジェットインク組成物を用いた平版印刷版およびその製造方法、該微粒子を用いた電気泳動粒子組成物を提供すること。
【解決手段】非水溶媒中で分散安定用樹脂の存在下、(A)求核性基を有するラジカル重合性モノマーおよび(B)前記求核性基と反応して共有結合を形成する基を有するラジカル重合性モノマーをラジカル重合することにより得られた非真球高分子微粒子、その製造方法、該微粒子を含有する組成物、これを用いた平版印刷版およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】 空気界面のチルト角を減じることができ、かつ、高温下において位相差の変化が少ない光学異方体を作製することが可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 一般式(I)
【化1】


で表される分子量300以上でかつ、空気界面のチルト角を減じる効果を有する酸化防止剤を含有する重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物の硬化物である光学異方体を提供する。本願発明の重合性液晶組成物により構成される光学異方体は、高温下においても、オーダーパラメータの低下に伴う位相差の減少を低減できることから、液晶セル内部に組み込む光学異方体として好適に使用することが可能である。 (もっと読む)


【課題】液浸液に対して高い耐性を有することに加え、フッ素を含有しないため、泡かみによる欠陥が発生しにくく、適度なスキャン特性を有する保護膜を形成するための保護膜形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】空気より屈折率の高い液体(液浸液)を介在させた状態でフォトレジスト膜に放射線を照射し、そのフォトレジスト膜を露光させる液浸露光に際し、前記フォトレジスト膜を前記液浸液から保護する保護膜を形成するために用いられる樹脂組成物であって、炭素数4〜20の脂環式炭化水素基を有する繰り返し単位を含む重合体を含有し、前記脂環式炭化水素基は、その炭素含有量が85質量%以上のものである保護膜形成用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】リチウム塩の配合量を低減しても、優れた帯電防止性を有する硬化膜が得られる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)繰り返し単位としてアルキレンオキサイド単位及びジメチルシロキサン単位を含む重合体、又は繰り返し単位としてアルキレンオキサイド単位及びジフルオロメチン単位を含む重合体、(B)下記式(3a)又は(3b)で示される化合物、(C)分子内に2以上の重合性不飽和基を有する化合物、(D)光重合開始剤を含有することを特徴とする硬化性組成物。LiCn’2n’+1X (3a)Li(Cn’2n’+1Y)N (3b) (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、分散性、流動性、および保存安定性に優れた顔料分散体を製造することのできるビニル系共重合体とその製造方法を提供することにある。更に、およびそれを用いた顔料組成物を提供することにある。
【解決手段】
一分子あたり平均0.3個以上4.0個以下の量で酸基を含むビニル系共重合体であって、
水酸基を有するエチレン性不飽和単量体(a)と、その他のエチレン性不飽和単量体(b)とをリビング重合してなる水酸基含有ビニル系共重合体(c)中の水酸基と、
水酸基と反応しうる官能基および酸基を有する化合物(d)、カルボン酸無水物(e)、ポリリン酸類(f)、およびスルトン類(g)より選択される少なくとも1種の化合物中の、水酸基と反応しうる官能基、とを反応してなるビニル系共重合体。 (もっと読む)


【課題】硬化性のアクリル樹脂を用いて形成された光学部材において、透明性、耐熱性、硬化収縮といった特性に関して良好なレベルを維持しながら、実装信頼性の改善を図ること。
【解決手段】1又は2以上の(メタ)アクリル酸と炭素数6〜22の飽和脂肪族アルコールとのエステルである(メタ)アクリル酸エステル、及び熱又は光により重合する1又は2以上の不飽和二重結合を有するリン酸エステルを含む単量体混合物と、
ラジカル重合開始剤と、を含有する硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】プラスチックに添加することで、プラスチック成形品の表面部分のみを親水化させ、タンパク吸着性抑制等の生体適合性を改良することができ、更には、プラスチック成形品からの溶出が抑制された表面偏析型プラスチック用添加剤、該添加剤を用いた成形用プラスチック組成物及びプラスチック成形品を提供すること。
【解決手段】本発明の表面偏析型プラスチック用添加剤は、特定のホスホリルコリン類似基含有単量体10〜60mol%と、特定の含フッ素単量体0.5〜10mol%と、非含フッ素疎水性単量体10〜70mol%とを含む重合性単量体組成物を重合した、重量平均分子量が10000〜1000000のホスホリルコリン類似基含有含フッ素重合体を含み、本発明の成形用プラスチック組成物は、プラスチック用樹脂原料及び上記添加剤を含む。 (もっと読む)


【解決手段】下記一般式(1)で示されるスルホニウム塩を持つ繰り返し単位を有する高分子化合物を添加してなるレジスト材料。


(R1は水素原子又はメチル基、R2はフェニレン基、−O−R6−、又は−C(=O)−Y−R6−。Yは酸素原子又はNH、R6はアルキレン基又はアルケニレン基、又はフェニレン基であり、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。R3、R4はアルキル基であり、カルボニル基、エステル基又はエーテル基を含んでいてもよく、又はアリール基、アラルキル基又はチオフェニル基。X-は少なくとも1個のフッ素原子を有するイミド酸アニオン又はメチド酸アニオン。)
【効果】本発明のポリマー型スルホニウム塩の酸発生剤を添加したレジスト材料は、特に解像性に優れ、高感度でラインエッジラフネスが小さいという特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】化学増幅ポジ型リソグラフィーにおいて使用され、溶解コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた共重合体を提供する。
【解決手段】ポジ型リソグラフィー用共重合体は、式(A)


で表される繰り返し単位(A)と、式(B)


で表される、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した末端構造(B)を有する。 (もっと読む)


【課題】 エチレン−プロピレン共重合体などでアロイ化されたポリプロピレン(PP)に代表されるポリオレフィンなどの難付着性基材に対し、完璧で、強固な付着性を有する塗料用アクリル樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 20〜100重量%のアクリル酸シクロヘキシルが共重合されたアクリル樹脂(A)を含み、アクリル樹脂(A)が、チオグリコール酸、チオプロピオン酸、チオエタノールの群から選択される少なくとも1種の連鎖移動剤の存在下に重合されたものである塗料用アクリル樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】着色失敗が実質的にない重合体組成物を提供すること。
【解決手段】重合可能組成物が記載され、その組成物は、多量のポリオール(アリルカーボネート)モノマー(例えば、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)モノマー)、および以下の一般式によって表される、少量のラジカル重合可能な第2のモノマーから構成され、第2のモノマー中のRは、ウレタン結合のない多価の結合基(例えば、Rは、イソホロンジイソシアネートのようなポリイソシアネートの残基であり得る)であり;Rは、単一のヒドロキシ基および少なくとも1個のアリル基を有する。
(もっと読む)


【課題】アクリルポリマーを得た後に溶剤を揮発させて除去する余計な工程を行う必要がなく、さらに高圧反応容器などの特別な容器を用いずとも安全にアクリルモノマーを含むモノマーを重合することが可能なアクリルポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】アクリルモノマーを少なくとも含むモノマーに重合開始剤を段階的に添加し、モノマーを重合するアクリルポリマーの製造方法であって、重合開始剤として、モノマーの重合を開始する際の温度をXとしたときに、十時間半減期温度がX−5〜X+5℃の範囲にある重合開始剤Aを用いる、アクリルポリマーの製造方法。 (もっと読む)


【課題】官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、幅広い波長領域において高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法、ならびに該含フッ素ポリマーを含むレジスト組成物の提供。
【解決手段】下記式で表される含フッ素モノマーが環化重合してなるモノマー単位に由来する単位を有する含フッ素共重合体。
CF2=CFCF2C(CF3)(OR7)−(CH2nCR5=CHR6
(式中、R5およびR6は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子または炭素数12以下のアルキル基を表す。R7は、酸によって水素原子に置換される基であり、炭素数20以下のアルキル基、炭素数15以下のアルキルカルボニル基、炭素数15以下のアルコキシカルボニル基またはCH28(R8は炭素数15以下のアルコキシカルボニル基である。)。 (もっと読む)


【課題】塗布液の保存安定性と硬化活性を両立させながら耐擦傷性と防汚性に優れた反射防止フィルムを提供すること。更には、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供すること。
【解決手段】支持体上に、以下の成分を含む塗布組成物を塗設してなる低屈折率層を有する反射防止フイルム。(A)主鎖が炭素原子のみからなり、含フッ素ビニルモノマー重合単位及び水酸基含有ビニルモノマー重合単位を、それぞれ少なくとも1種含有し、かつ該水酸基含有ビニルモノマー重合単位の含有率が、20モル%を超える含フッ素ポリマー。但し、該ポリマーは主鎖にポリシロキサン構造を有さない、(B)水酸基と反応可能な架橋剤、(C)1分子内に2つ以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物。 (もっと読む)


【課題】官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、幅広い波長領域において高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法、ならびに該含フッ素ポリマーを含むレジスト組成物の提供。
【解決手段】下記式で表される含フッ素モノマーが環化重合してなるモノマー単位に由来する単位を有する含フッ素共重合体。
CF2=CFCF2C(CF3)(OR7)−(CH2nCR5=CHR6
(式中、R5およびR6は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子または炭素数12以下のアルキル基を表す。R7は、酸によって水素原子に置換されない基であり、炭素数20以下のアルキル基、炭素数15以下のアルキルカルボニル基、炭素数15以下のアルコキシカルボニル基またはCH28(R8は炭素数15以下のアルコキシカルボニル基である。) (もっと読む)


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