【課題】ポリエステル系樹脂の成形性を向上できるポリエステル系樹脂組成物用加工助剤及びポリエステル系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】質量平均分子量５１万以上５００万以下のアクリル系共重合体であって、反応性基を含有する単量体成分を、該アクリル系共重合体を構成する全単量体成分に対して０．１質量％以上１０質量％以下含有するアクリル系共重合体からなるポリエステル系樹脂組成物用加工助剤、およびこれを含有するポリエステル系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ハードコートを行ってもカールや割れの問題がなく、可撓性と表面硬度の両方を満足できるラジカル硬化性フィルム用樹脂組成物およびそれから得られるフィルムの提供。
【解決手段】（１）（Ａ）ビス（２−オキサゾリン）化合物と、（Ｂ）オキサゾリン基と反応する官能基と不飽和基の両方を分子内に有する化合物とを予め反応させてなる硬化性化合物、（２）前記（１）と共重合性を有し且つ複素環基、アミド基、アミノ基、ヒドロキシル基、及びカルボキシル基の内少なくともいずれか１つを有する重合性モノマー、および（３）前記（１）と共重合性を有し且つホモポリマーのＴｇが−２０℃以下である重合性モノマーを、（１）が１００質量部に対して、（２）を２０〜１２０質量部、（３）を５〜１５質量部の比率で、かつ前記（１）〜（３）の合計で９５質量％以上含むことを特徴とするラジカル硬化性フィルム用樹脂組成物、及びそれから得られるフィルムである。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線ある
いはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であり、またラフネス及び疎密依存性が軽減され、さらにはＥＵＶ光による露光においても、感度、溶解コントラストにも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】酸分解性基を有するベンゼン環に脂環が縮環した構造を有するエステル基をを含有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する樹脂を含むレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】電子部材の動作不良を引き起こす原因となるガスの発生量、特に高温高湿雰囲気下におけるガスの発生量が少ないことはもとより、精密電子部材を腐食し外観不良を生じさせることがなく、金属に対する密着性に優れた樹脂組成物及び粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分からなる共重合体を主成分とする樹脂組成物であって、上記共重合体中の（Ｃ）成分から導かれる構造単位が（Ａ）〜（Ｃ）成分からなる共重合体の５〜３０重量％であることを特徴とする樹脂組成物。
（Ａ）（メタ）アクリル酸アルキルエステル。
（Ｂ）官能基含有不飽和単量体。
（Ｃ）開環しない２個以上の窒素原子含有複素環構造を有するエチレン性不飽和単量体。 （もっと読む）

【課題】後退角が高く、かつ解像性能が良好な液浸用フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と樹脂（Ｂ）をそれぞれ１種以上ずつ含み、また酸発生剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
樹脂（Ａ）：（ア）酸に不安定な基を側鎖に有するユニット、を１種以上含有し、（エ）’フッ素を含む構造を側鎖に有するユニット、を含有しない樹脂。
樹脂（Ｂ）：（ア）’酸に不安定な基を側鎖に有するユニット、（イ）’水酸基を側鎖に有するユニット、および（ウ）’ラクトン構造を側鎖に有するユニット、からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有することに加え、（エ）フッ素を含む構造を側鎖に有するユニット、を含有する樹脂。 （もっと読む）

【課題】高感度かつ高解像度で、１，２００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なパターン形状が得られ、現像液に対する溶解性に優れ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等にも優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、１分子内に１つ以上の水酸基を有する不飽和化合物と、ラクトン構造を有する不飽和化合物と、これらの不飽和化合物以外の他の不飽和化合物の共重合体に、（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体および重合性不飽和化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。
【解決手段】表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシートＷに凹凸型を密着させ、この凹凸型表面の凹凸形状をシートの表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される放射線硬化性組成物である。この放射線硬化性組成物は、所定の構造をもつアクリレート又はメタアクリレート、及び光重合開始剤を含む。 （もっと読む）

【課題】含フッ素３，５−オキソ−１，６−ヘプタジエン誘導体の安全かつ効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物をフッ素化し、得られる化合物を熱分解又は／及び加水分解し、さらに、得られる化合物を熱分解する、下記一般式（IV）で表される化合物の製造方法。


（一般式（Ｉ）中、Ｒ¹及びＲ²は各々独立に水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表し、Ｘ¹は水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｙはアルコキシカルボニル基又は−ＣＨ₂ＯＣＯＲ³（Ｒ³は置換基を表す）を表す。一般式（IV）中、Ｒ^1F及びＲ^2Fは各々独立にハロゲン原子、含フッ素置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】所定の高分子化合物を含むことにより、感度、保存安定性、及び無電解金めっき耐性に優れ、かつタック性が良好で感光層を傷付けることなく、高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及びアルカリ不溶性の熱架橋剤を含む感光性組成物を含み、前記バインダーが、側鎖に、炭素原子数７〜２０の置換基を有していてもよい鎖状及び環状のいずれかの炭化水素基、並びにエチレン性不飽和結合を有する高分子化合物を含むことを特徴とする感光性組成物等である。前記高分子化合物が側鎖にカルボキシル基を有する態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 重合性液晶組成物を基板に塗布した場合、空気界面におけるチルト角を減じる効果を有し、かつ、重合性液晶組成物の硬化物である光学異方体が液晶セル内に組み込まれた場合において液晶ディスプレイの電圧保持率を悪化させることが無い重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（I）
【化１】


で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１００以上である化合物を含有することを特徴とする重合性液晶組成物を提供する。本願発明の重合性液晶組成物は、空気界面におけるチルト角を減じる効果を有することから空気界面において水平配向となる光学異方体の材料として有用であり、界面活性剤等の極性物質を含有しないため液晶ディスプレイの電圧保持率を悪化させることがなく、積層膜の形成が容易であるといった特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】造膜助剤を全く含まないか，含んでもごく微量であるにもかかわらず，５℃程度でも成膜し得ると共に、高温ブロッキング性、長期耐候性及び耐水性に優れた塗膜を形成し得るエマルジョンを提供すること
【解決手段】エチレン性不飽和モノマーを含む重合性組成物を水性媒体中で３段階の乳化重合してなるポリマーエマルジョンであって、各段階で得られるポリマー、および全体のポリマーのガラス転移温度がそれぞれ特定の温度範囲にあり、かつ、
シクロアルキル基を有するシランカップリング剤の存在下に、特定の構造を有する重合性紫外線安定剤を必須成分とする重合性組成物を第３工程で重合せしめてなることを特徴とする多段重合ポリマーエマルジョン。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適で、かつリソグラフィー特性も良好な液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、フッ素原子を含有し、かつ酸解離性基を有さない樹脂（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ’）を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂（Ａ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、１，２００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、柔軟性と高回復率、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れ、さらにスペーサーパターニング時の現像特性にも優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、水酸基含有不飽和化合物、ヒドロキシフェニル基含有不飽和化合物、およびこれらの上記不飽和化合物以外の他の不飽和化合物の共重合体に、（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体、重合性不飽和化合物および感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、バインダー樹脂の色故障を抑制し、高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び触媒を含み、前記バインダーが、側鎖にカルボキシル基を有する高分子化合物のカルボキシル基にエポキシ基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物を付加させた特定の構造単位を少なくとも１つ有する高分子化合物を含み、かつ、前記触媒の残存量が、０．４質量％以下である感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】（メタ）アクリル酸系重合体を経済的に効率良く提供する。
【解決手段】(メタ)アクリル酸系重合体を製造する際に、反応溶液中および滴下溶液中の溶存酸素濃度を２０ｐｐｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】 良好な液浸リソグラフィーを可能とし、しかもフォトレジスト層の現像時に同時に除去することができて、優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効な保護膜材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）に示される化合物を溶媒として含有する、アルカリ現像液に可溶なレジスト保護膜材料。
【化１】


（上式中、Ｒ¹は炭素数１〜９の直鎖状又は分岐状のフッ素原子を１個以上有するアルキル基であり、Ｒ²とＲ³は同一又は異種で水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基でフッ素原子を１個以上有していても良く、Ｒ⁴は炭素数１〜９の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であり、Ｒ¹＋Ｒ²＋Ｒ³＋Ｒ⁴の炭素数の合計が６〜１０の範囲である。） （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する特定構造の樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｉｔｙ及び解像性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］


［式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を示し；ｎ’は１または２の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】フィルム表面に傷が付きにくく、付着異物が少ないことに加え、当該フィルムを使用して偏光板を製造する過程で新たに付着する異物を防ぐことができる光学フィルムロールおよびそれを用いた偏光板の製造方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系樹脂からなる光学フィルムとポリエステル系フィルムとを重ね合わせ、巻回することにより得られる光学フィルムロール、この光学フィルムロールにおける光学フィルム長手方向と、偏光子の長手方向とを揃え、両者を連続的に貼付する工程と、ポリエステル系フィルムを除去する工程とを含む偏光板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）