【課題】活性光線又は放射線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン
倒れが改良され、現像欠陥の少なく、解像力、孤立ＤＯＦ、ＰＥＢ温度依存性など諸性能に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】特定の酸分解性繰り返し単位及び特定の非酸分解性繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、ポリマー溶液から遷移金属を除去する沈殿方法に関する。詳細には、原子移動ラジカル重合の終結後にポリマー溶液から、多くの場合に銅を含有する遷移金属錯体を除去することが重要である。 （もっと読む）

【課題】外殻内に疎水性塗料用添加剤を高濃度で含有するエマルションを提供すること。
【解決手段】本発明のエマルションは、水性媒体中に樹脂粒子が分散されている。樹脂粒子は、樹脂で構成された外殻と外殻に内包された塗料用添加剤とを含み、その平均粒子径が１００ｎｍ〜５００ｎｍである。塗料用添加剤の水に対する溶解度は１ｇ／１００ｇ未満である。好ましくは、塗料用添加剤は、硬化触媒、消泡剤、表面調整剤、レベリング剤、紫外線吸収剤および酸化防止剤からなる群から選択される少なくとも１つである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光重合性が高い光重合性モノマーを見出すことを課題とし、また画像形成時の強度が十分でかつ現像時の溶出性が良好で、長期間保存した場合でも溶出不良等の劣化が起こらない感光性組成物を見出すことを課題とする。特に可視光から赤外光のレーザーによる走査露光に於いても十分な感度で、画像部の強度に優れたネガ型感光性組成物、及びこれを利用した平版印刷版を提供することを課題とする。
【解決手段】分子内に下記一般式１で表される単位構造を２つ以上有する光重合性モノマー、分子内に下記一般式３で表される単位構造を２つ以上有する光重合性モノマー、一般式５で表される光重合性モノマー及び一般式７で表される光重合性モノマーから選ばれる重合性モノマーであって、該光重合性モノマーの−ＳＨの残存率が５〜４５％である事を特徴とする光重合性モノマー。 （もっと読む）

【課題】艶消し外観を得ることができ、巻き取り性、転写箔との耐ブロッキング性、成型時の離型層との接着性にも優れたインモールド用転写箔の基材フィルムとして有用なインモールド転写用フィルムを提供する。
【解決手段】中心線平均表面粗さＲａが２０〜５０ｎｍのポリエステルフィルムおよびそのうえに設けられカチオンポリマーを含有する帯電防止層からなり、カチオンポリマーが特定の式で表されるモノマー成分（ａ）をポリマーの構成成分として含有することを特徴とする、インモールド転写用フィルム。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１ａ）及び（１ｂ）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物をベース樹脂とし、有機溶剤及び酸発生剤を含有する化学増幅型のレジスト材料。


（ｎは１〜３、ａ１、ｂ１は０＜ａ１＜１．０、０＜ｂ１≦０．８。） （もっと読む）

【課題】各高分子鎖ごとの組成分布が均一で、レジスト組成物用として好適な重合体およびその製造方法、その重合体を含むレジスト組成物、並びにパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【解決手段】構成単位α_１〜α_ｎ（ｎは２〜１０の整数）からなる重合体（Ｐ）であって、前記構成単位α_１〜α_ｎのうちの少なくとも１つの構成単位α_ｉ（ｉは１〜ｎの任意の整数）の臨界吸着条件で実施される臨界吸着クロマトグラフィー法により求められる共重合組成分布曲線Ｃα_ｉが下記式（Ｉ）［Ｓ（Ｔα_ｉ＋１５）／Ｓ（ｔｏｔａｌ）≦０．０５ （Ｉ）］を満足する重合体（Ｐ）。 （もっと読む）

【課題】光学的透明性や高い屈折率を含め、良好な光学的特性を示し、かつ前記したような従来技術の材料の欠点を示さずに粘着性が低下した構造材料からなる眼用レンズを提供する。
【解決手段】分岐鎖アルキル基を有するアクリレート、分岐鎖アルキル基を有するメタクリレートおよびそれらの混合物からなる群から選ばれる第１モノマー成分から誘導される第一成分と、架橋ポリマー材料の架橋剤として有効な量の第２モノマー成分から誘導される第二成分と、第１モノマー成分の分岐鎖アルキル基の炭素数、第３モノマー成分から誘導される第三成分を含んでなる組成物。 （もっと読む）

【課題】複屈折率が低く、且つ異物の少ないアクリル系樹脂などの熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法を実現する。
【解決手段】本発明の熱可塑性樹脂組成物の製造方法は、主鎖が脂肪族化合物からなる熱可塑性樹脂を、濾過精度が１０μｍ以下であるポリマーフィルタ４を備えた押出し機２を用い、剪断速度が１００／ｓｅｃにおける樹脂溶融粘度が８００Ｐａ・ｓｅｃ以下となる条件で濾過精製する工程を包含する。 （もっと読む）

【課題】ガラス転移温度高、低制御、透明、接着性を少なくとも一つ付与する懸垂部分を含み、シロキサンと反応して新規共有結合を形成し得る反応性部分を含む材料の提供。
【解決手段】炭素−炭素二重結合とシロキサン部分とを含むモノマーと、炭素−炭素二重結合と、得られたポリマーに反応性を与える部分を含むモノマーとからポリマーを製造する。シロキサン部分は、透過性を与え；反応性は、エポキシ、オキセタン、等を含むモノマーから得られる。
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【課題】 光の刺激によって構造が可逆的に変形し、かつ応答速度が実用的な光応答性、柔軟性、および軽量性を有するとともに無音で駆動する光駆動型アクチュエータ、その光駆動型高分子アクチュエータの簡便な製造方法、および光駆動型高分子アクチュエータの製造に用いられる良好な材料を提供する。
【解決手段】 光駆動型高分子アクチュエータは、光の刺激を受けて変形する高分子を備え、該高分子の変形をアクチュエータとして利用する光駆動型高分子アクチュエータにおいて、重合性を有する単官能性モノマーと重合性を有するとともに光の刺激を受けて構造変化を引き起こす光応答性基を複数含む多官能性モノマーとが重合してなる共重合体を備え、前記共重合体は、光の刺激に応じて変形しアクチュエータとしての機能を有する。 （もっと読む）

【解決手段】繰り返し単位ａと、置換可ヒドロキシビニルナフタレンの繰り返し単位ｂを有する下記一般式（１）で示される、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物。


（式中、Ｒ¹、Ｒ³は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ²は酸不安定基、Ｒ⁴は水素原子、アセチル基、アルキル基、又は酸不安定基である。ｍ、ｎは１又は２である。０＜ａ／（ａ＋ｂ）≦０．７、０＜ｂ／（ａ＋ｂ）＜１．０の範囲である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高解像力かつ矩形形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥が少なく、ＰＥＢ温度依存性が小さいポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸分解性基で置換されたベンジル基を有する、アルカリ現像液に不溶又は難溶であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 高い重合安定性および貯蔵安定性を有しつつ、幅広い種類の水性塗料に対して適用可能であって、被添加水性塗料の耐候性能を飛躍的に向上させる水性塗料用耐候性向上材を提供すること。
【解決手段】 エチレン性不飽和単量体の多段乳化重合により得られる共重合体粒子（α）の水性分散体であって、以下の条件を満足する水性塗料用耐候性向上材。（１）最終段階で重合せしめる単量体混合物（Ａ）が分子内にピペリジル基を持つ特定のエチレン性不飽和単量体（ａ）を含有、（２）カルボキシル基含有エチレン性単量体（ｃ）を含有する単量体混合物（Ｂ）を最終段階以前の段階で重合、（３）共重合体粒子（α）に使用する全単量体中単量体混合物（Ａ）の含有率が１０〜９０質量％、（４）共重合体粒子（α）に使用する全単量体中単量体（ａ）の含有率が４．５〜５０質量％、（５）連鎖移動剤０．１〜１０質量部の共存下で最終段階の重合を行う。 （もっと読む）

【課題】耐熱性や機械的特性に優れ、且つ、硬化反応に用いる架橋樹脂原液のハンドリング性に優れた硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ビス（２−オキサゾリン）化合物と、（Ｂ）オキサゾリン環と反応する官能基とアクリロイル基の両方を分子内に有する化合物とを予め反応させてなる硬化性化合物、該硬化性化合物に不飽和基を有するモノマーを含有した硬化性樹脂組成物、及び該硬化性樹脂組成物を硬化させてなる成形品である。 （もっと読む）

【課題】青紫色レーザ露光システムを使用したときに高感度であり、長期保存時の現像性の劣化やロール端面からの感光層のしみ出しがなく、保護フィルムや支持体の離型性に優れ、基板へのラミネーション時の基板表面凹凸への埋め込み性に優れ、現像後に優れた絶縁性、耐熱性、耐薬品性、耐湿性、表面硬度、などを有する硬化膜が得られる感光性フィルム、該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有してなり、該感光層が特定の成分を含む感光性組成物からなり、青紫色レーザ（波長＝４０５±５ｎｍ）に１〜１００ｍＪ／ｃｍ^２の感度を有し、３０℃における溶融粘度が１×１０^５〜１×１０^７Ｐａ・ｓであり、８０℃における溶融粘度が１×１０^２〜１×１０^３Ｐａ・ｓであることを特徴とする感光性フィルム等である。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有するビニルナフタレンを重合してなる置換可ヒドロキシスチレンの繰り返し単位ａと、置換可ヒドロキシビニルナフタレンの繰り返し単位ｂを有する下記一般式（１）で示される、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物。


（Ｒ¹、Ｒ³はＨ又はＣＨ₃、Ｒ²は酸不安定基、Ｒ⁴はＨ、アセチル基、アルキル基、又は酸不安定基、ｍ、ｎは１又は２、０＜ａ／（ａ＋ｂ）≦０．７、０≦ｂ／（ａ＋ｂ）＜１．０。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であり、またラフネス及び疎密依存性が軽減され、さらにはＥＵＶ光による露光においても、感度、溶解コントラストにも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の芳香環含有の置換基を有するスチレン繰り返し単位を含有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
レジスト材料の機能向上のための原料として求められている重合性官能基と複数の水酸基を有する多環式の新規な化合物の及びその製造方法を開発することである。
【解決手段】
一般式（１）又は（２）で表されるグリセリンエステル誘導体により解決される。



（式（１）中上式において、Ａは脂環式構造を有する２価の基をR¹は、水素原子又はメチル基を表す。） （もっと読む）

【課題】 芳香族ビニル化合物−（メタ）アクリレート共重合体中の芳香環を水素化する工程を含む長期間また繰り返し安定的かつ速やかに透明度の高い水素化ポリマーを製造する方法を提供する。
【解決手段】 Ａ／Ｂ（Ａは（メタ）アクリレートモノマー由来の構成単位のモル数、および、Ｂは芳香族ビニルモノマー由来の構成単位のモル数）が０．２５〜４．０である芳香族ビニル化合物−（メタ）アクリレート共重合体を溶媒中、パラジウムが酸化ジルコニウム上に担持された触媒の存在下で水素化する。 （もっと読む）