【課題】 透明性、色調および耐衝撃性と剛性との物性バランスなどに優れたゴム強化スチレン系透明樹脂組成物及びその効果的な製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂組成物中の単量体成分が、芳香族ビニル系単量体（ａ１）５〜７０重量％、不飽和カルボン酸アルキルエステル系単量体（ａ２）３０〜９５重量％、シアン化ビニル系単量体（ａ３）０〜５０重量％及びこれらと共重合可能な他の単量体（ａ４）０〜５０重量％（ただしａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４＝１００重量％である）を含有し、（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）、（ａ４）の合計を１００重量％としたとき、紫外線吸収性単量体（ａ５）を０．００１〜１重量％有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 良好な液浸リソグラフィーを可能とし、しかもフォトレジスト層の現像時に同時に除去することができて、優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効な保護膜材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）に示される化合物を溶媒として含有する、アルカリ現像液に可溶なレジスト保護膜材料。
【化１】


（上式中、Ｒ¹は炭素数１〜９の直鎖状又は分岐状のフッ素原子を１個以上有するアルキル基であり、Ｒ²とＲ³は同一又は異種で水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基でフッ素原子を１個以上有していても良く、Ｒ⁴は炭素数１〜９の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であり、Ｒ¹＋Ｒ²＋Ｒ³＋Ｒ⁴の炭素数の合計が６〜１０の範囲である。） （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する特定構造の樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｉｔｙ及び解像性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］


［式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を示し；ｎ’は１または２の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】フィルム表面に傷が付きにくく、付着異物が少ないことに加え、当該フィルムを使用して偏光板を製造する過程で新たに付着する異物を防ぐことができる光学フィルムロールおよびそれを用いた偏光板の製造方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系樹脂からなる光学フィルムとポリエステル系フィルムとを重ね合わせ、巻回することにより得られる光学フィルムロール、この光学フィルムロールにおける光学フィルム長手方向と、偏光子の長手方向とを揃え、両者を連続的に貼付する工程と、ポリエステル系フィルムを除去する工程とを含む偏光板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】特に弾性率が低く、応力緩和特性、接着性に優れる半導体用ダイアタッチペースト又は放熱部材接着用材料、及び特に耐リフロー性等の信頼性に優れた半導体装置を提供することである。
【解決手段】半導体素子又は放熱部材を支持体に接着する樹脂組成物であって、一般式（１）で示される化合物（Ａ）、重合開始剤（Ｂ）及び銀粉（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成物及び該樹脂組成物を使用して作製した半導体装置である。
【化１】


Ｒ¹は水素又はメチル基、
Ｒ²は炭素数３〜１０の炭化水素基で芳香族を含まない、
ｎは１〜５０ （もっと読む）

【課題】アルカリ性現像液への溶解性に優れ、エッチング耐性に優れる。
【解決手段】式（１）で表される繰り返し単位と酸解離性基を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ易溶性になる共重合体。
（もっと読む）

【課題】大型の液晶表示装置に好適に用いうる偏光板であって、製造効率が良く、低コストで、耐熱性に優れ、複屈折が小さい偏光板を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系樹脂からなる透明な基板と、基板上に互いに平行かつ等間隔で配設された複数の金属細線と、基板との屈折率の差が０．０１以下である透明な被覆層とを備えている偏光板。基板を形成するノルボルネン系樹脂は、一般式（１）：


で表される１種の化合物を含む単量体を（共）重合して得られた樹脂である。 （もっと読む）

【課題】 顔料などの分散質の分散性に優れ、且つ長期に亘って安定的に分散状態を維持し得るグラフト共重合体からなる水性分散剤、及び当該分散剤を用いた水性インキの提供。
【解決手段】 グラフト共重合体の側鎖が、下記一般式で示される構造を有し、主鎖はビニル芳香族単量体及び脂環式（メタ）アクリレートを必須成分とし、酸価が４０〜１５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇの範囲であるグラフト共重合体からなる水性分散剤、及び該水性分散剤を配合し、これに顔料などの着色剤及び水性媒体を含有させた水性インク。


〔Ｒ_１ 、Ｒ_２は水素原子またはアルキル基、Ｘは酸素原子、アルキレンジオキシ基もしくはウレタン基を含む置換基、ｍは１〜２０、ｎは１〜５。〕 （もっと読む）

【課題】高屈折率で透明性に優れ、かつ熱硬化反応時に酸化しにくく、着色の少ない安定な光学材料の提供。
【解決手段】
一般式（１）


（式中、Ｒ¹〜Ｒ³はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基を表す。）
で示される基およびラジカル重合性の二重結合を有することを特徴とするラジカル重合性化合物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性が強化された有機絶縁膜を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物またはこれらの混合物５乃至３５重量％、スチレン系化合物５乃至４０重量％、エポキシ系化合物５乃至４０重量％、イソボルニル系化合物０．１乃至１０重量％及びジシクロペンタジエン系化合物２０乃至４０重量％を重合して製造される有機絶縁膜用樹脂組成物及びその製造方法と前記樹脂組成物で形成された絶縁膜を含む表示板。 （もっと読む）

【課題】硬化性を低下させずに流動性、耐半田リフロー性に優れる封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）アクリル化合物を含有する封止用エポキシ樹脂成形材料において、（Ｃ）アクリル化合物が、下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される化合物を、（Ｉ）及び（ＩＩ）の質量比（Ｉ）／（ＩＩ）が０以上１０以下の比率で重合して得られるアクリル化合物である封止用エポキシ樹脂成形材料。
（化１）


（式（Ｉ）で、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２はケイ素原子を含まない一価の有機基を示し、式（ＩＩ）で、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^６は水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基を示し、Ｒ^７は炭素数１〜６の炭化水素基を示し、ｐは１〜３の整数を示す。） （もっと読む）

本発明は、少なくとも一つの有機（メタ）アクリレート、亜鉛（II）ジメタクリレート、並びに亜鉛及び主族金属からなる群より選択される二価もしくは三価の金属の、式MOまたはM₂O₃の少なくとも一つの金属酸化物を含む組成物に関する。前記組成物は貯蔵に際して安定であり、硬化して可撓性の物質をもたらし、この物質は高温下でさえも様々な基体に対して優れた接着性を有し、優れた機械特性を有する。 （もっと読む）

【課題】反応後のクリーニングステップにおいて、残留触媒またはその承継生成物（successor product）による触媒に起因する欠点により阻害されず、顔料の非常に良好な分散と、バインダーに対する幅広い相溶性とを組み合わせる、コポリマーを提供する。
【解決手段】異なるイオン密度の３つのセグメントを含むコポリマーに関し、各セグメント中のイオン性モノマー分率は１〜１００ｍｏｌ％であり、第２のセグメントおよび第３のセグメントはそれぞれ先行するセグメントのエチレン性不飽和モノマーを含有し、ＮＭＰまたはＲＡＦＴにより単官能性開始剤を用いて製造可能なコポリマーに関する。本発明はさらに、当該コポリマーを製造するプロセスと、分散剤としてのその使用とに関する。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好で、焦点深度にも優れ且つ液浸露光時に接触する水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、ラクトン環を有するノルボルネオールのメタアクリレート単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂と、感放射線性酸発生剤と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】ピペリジル基含有高分子量重合体又は共重合体と導電材との均一な混合組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構成単位により構成され、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒に不溶であるピペリジル基含有高分子量重合体又は共重合体を液相における重合反応によって合成した直後に、該液相において導電材を上記重合体又は共重合体に混合する。
（もっと読む）

【課題】浸漬露光時の物質溶出が抑制された液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、主鎖環状型重合体（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ）を主鎖に有する非主鎖環状型重合体（Ａ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好で、焦点深度にも優れ且つ液浸露光時に接触する水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、ラクトン環を有するノルボルネオールの（メタ）アクリレート単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂と、感放射線性酸発生剤と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】特に弾性率が低く、応力緩和特性に優れる半導体用ダイアタッチペースト又は放熱部材接着用材料、及び特に耐リフロー性等の信頼性に優れた半導体装置を提供することである。
【解決手段】少なくとも一つの重合可能な不飽和結合を有するダイマー酸誘導体（Ａ）、重合開始剤（Ｂ）、及び充填材（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成物及び該樹脂組成物をダイアタッチペースト又は放熱部材接着用材料として用いて製作されることを特徴とする半導体装置。 （もっと読む）

【課題】スチレン等の各種モノマーや溶剤に対して優れた耐性を有し、且つビニルエステル樹脂の硬化遅延を引き起こさないセメントモルタル用エマルジョンを提供すること。
【解決手段】ポリビニルアルコールを乳化安定剤として、（メタ）アクリル酸エステル単量体と、不飽和二重結合を有するカップリング剤とを重合させて得られることを特徴とするセメントモルタル用エマルジョン。不飽和二重結合を有するカップリング剤は、（メタ）アクリル酸エステル単量体１００質量部に対して、０．１〜２．５質量部重合させることが好ましい。 （もっと読む）