【課題】異物の少ない重合体粉末を得ることができる重合体粉末の製造方法、異物の少ない重合体粉末およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液をろ過して重合体湿粉を製造する工程と、減圧乾燥装置５０を用いて重合体湿粉を乾燥させる工程とを有し、前記減圧乾燥装置５０内に気体を流入させる際、孔径が０．１〜１．０μｍのフィルター５２を通過した気体を流入させる重合体粉末の製造方法。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、密着性及び耐傷つき性に優れた反射防止板を提供する。
【解決手段】本発明のアリルエステル樹脂硬化物を基材として用いることにより、耐熱性、透明性に優れた反射防止透明板を提供することができる。また、密着性、耐傷つき性も優れているため、反射防止層形成時において、ハードコートや接着層を設けることなく反射防止板を製造することが可能となり、生産性も向上する。 （もっと読む）

【課題】極紫外線及び深紫外線に感応して優れた微細パターンを形成でき、現像後のＬＥＲを大きく減少させ、形成されたパターンの線幅安全性を改善できる感光性高分子及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】極紫外線及び深紫外線用感光性高分子は、下記化学式で表される繰返し単位を含む。


式中、Ｒ_１及びＲ_１’は各々独立に水素、メチル基又はトリフルオロメチル基であり、Ｒ_２は
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【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の製造に用いる各容器（調合槽１０、重合槽２０、または精製槽３０）として、容器充填後の水の電気伝導度（Ｘ）と容器充填前の水の電気伝導度（Ｙ）との差（Ｘ−Ｙ）が、１．８μＳ／ｃｍ以下であるものを用いる。ただし、容器充填前の水としては、電気伝導度が０．５μＳ／ｃｍ以下である純水を用い、容器充填後の水の電気伝導度（Ｘ）は、所定量の純水を容器に充填し、充填完了後１時間撹拌してから測定した容器内の水の電気伝導度とする。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の分散液をフィルター４２でろ過して重合体湿粉を製造する工程を有し、フィルター４２として、フィルター浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）とフィルター浸漬前の水の電気伝導度（Ｙ）との差（Ｘ−Ｙ）が、１．８μＳ／ｃｍ以下であるものを用いる重合体の製造方法。ただし、フィルター浸漬前の水としては、電気伝導度が０．５μＳ／ｃｍ以下である純水を用い、フィルター浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）は、フィルターの面積１ｍ² あたり２０Ｌの純水にフィルターを浸漬し、浸漬開始から１５分後にフィルターを浸漬した状態で測定した水の電気伝導度とする。 （もっと読む）

【課題】電圧保持率の低下を抑え、画像再現性が良好で安定した画像表示を可能とする。
【解決手段】平均粒子径が２００ｎｍ以下の着色剤と、一分子中にカルボキシル基及びリン酸基の少なくとも一つとスルホン酸基とを有するアルカリ可溶性樹脂とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】末端に官能基を有するビニル系重合体を、少ない触媒量で効果的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】原子移動ラジカル重合系に重合性の低いアルケニル基を有するオレフィン化合物（Ａ）を添加して、末端にオレフィン化合物（Ａ）が付加したビニル系重合体（Ｉ）を製造する際、還元剤（Ｂ）を併用することを特徴とする、ビニル系重合体（Ｉ）の製造方法。また、オレフィン化合物（Ａ）が官能基を有するものであり、末端にオレフィン化合物（Ａ）が付加したビニル系重合体（Ｉ）が、末端に前記官能基を有するものである、上記製造方法。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の製造に用いる各容器（重合槽２０、精製槽３０、溶解槽５０または、濃縮槽７０）として、前製造ロットの重合体の貧溶媒を容器の内面に接触させた際に前製造ロットの重合体が析出しないものを用いる。 （もっと読む）

【課題】金属および半金属含有量の少ない重合体を安定して製造できる製造方法、金属および半金属含有量の少ない重合体およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液を、フィルター４２を用いてろ過して重合体湿粉を製造する工程を有し、前記フィルター４２として、酸性水溶液で洗浄したものを用いる重合体の製造方法、該製造方法によって得られた重合体、および該製造方法によって得られた重合体を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、耐水性に優れ、フォトレジスト樹脂層に均一な塗膜形成が可能であり、さらにアルカリ現像液で溶解処理が可能であるレジスト保護膜用樹脂及びその保護膜を使用した半導体の製造方法を提供することにある。

【解決手段】
Ｆｅｄｏｒｓの方法による溶解度パラメーターの値がある特定の範囲である単量体を共重合に適用した保護膜用樹脂を半導体の製造に使用することで、超微細なパターンの形成が可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、アルカリ現像液に可溶である基を有する重合単位（Ａ）、疎水性を有する重合単位（Ｂ）及びＦｅｄｏｒｓの方法による溶解度パラメーターの値が２１．６（Ｊ／ｃｍ3）1/2〜２５．０（Ｊ／ｃｍ3）1/2の範囲である単量体に相当する重合単位（Ｃ）を少なくとも含む半導体レジスト保護膜用樹脂を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐ブロッキング性と成膜性とのバランスに優れ、また柔軟性にも優れる塗膜を得ることが可能なアクリル系水性エマルジョンを提供すること。
【解決手段】エチレン性不飽和単量体を多段乳化重合することにより得られる水性エマルジョンであって、ガラス転移温度（Ｔｇ）が異なる２種類以上の重合体が中心部分（コア）と外側部分（シェル）から成る異相構造粒子を形成し、コア部を構成する重合体のＴｇがシェル部を構成する重合体のＴｇよりも１０℃以上高く、コア部を構成する重合体が特定組成の単量体系［Ｉ］の乳化重合により得られ、シェルを構成する重合体のうちの最も外側に存在する重合体が、特定組成の単量体系［ＩＩ］の乳化重合により得られることを特徴とするアクリル系水性エマルジョン。 （もっと読む）

【課題】 柔軟性が高く、湿熱時においても密着性良好で、剥がれ、発泡が生じることなく、しかも近赤外線吸収剤を安定に含有することができる近赤外線吸収フィルム用バインダー樹脂を提供する。
【解決手段】 次のモノマー（Ａ）〜（Ｄ）
（Ａ）ラウリルメタクリレートおよび／または２−エチルヘキシル メタクリレート １０〜３０質量％ （Ｂ）メタクリル酸 １〜１０質量％ （Ｃ）メチルメタクリレート ５０〜８８質量％ （Ｄ）シクロオレフィン環含有モノマー １〜３０質量％を共重合して得られる、Ｔｇ−１０〜７０℃、重量平均分子量２０〜５０万の近赤外線吸収フィルム用バインダー樹脂。 （もっと読む）

【課題】光学用材料に対して優れた粘着力を有し、また、剥離時に粘着剤が凝集破壊せず、光学用部材に粘着剤の跡が残らないようにすることができる粘着剤用重合体を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸アルキルエステル、及び、モノホリノ基含有単量体成分を共重合して得られる粘着剤用重合体であって、
該粘着剤用重合体は、下記一般式（１）；
［化１］


（Ｒは、水素又は炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）
で表される化合物を含有する粘着剤用重合体である。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用により分解するアセタール保護基で保護されたカルボン酸部分を有する樹脂成分（Ａ）と活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）のアセタール保護基で保護されたカルボン酸部分の脱保護がβ−脱離反応に依らないことを特徴とする、ポジ型レジスト組成物。
【発明の効果】本発明のレジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有しており、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】 大気中の酸素により硬化反応が阻害されず優れた光硬化性を（表面硬化性、内部硬化性）有し、その光硬化物が樹脂、金属、ガラスといった様々な基材に対する良好な密着性を示す、且つ金属基材を腐食させることがないカチオン系感光性組成物を提供すること。
【解決手段】(a)カチオン重合性を有する化合物、(b)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤、(c) 熱アミン発生剤からなるカチオン重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】 透明性や耐熱性等に優れる皮膜を形成できるとともに、特にスリットコート法やインクジェット法により塗工する際に、部分的に塗膜の厚さが異なったり塗膜欠損の生じることのない硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 硬化性樹脂組成物は、アルカリ可溶性基を含むモノマー単位（Ａ）及び硬化性基含有重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位（Ｂ）を含む共重合体であって、前記モノマー単位（Ｂ）の割合が共重合体を構成する全モノマー単位に対して５〜９５重量％であり、且つ前記モノマー単位（Ｂ）のうち３０重量％以上が、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン環含有化合物から選択された少なくとも１種の化合物に対応するモノマー単位である共重合体と、常圧における沸点が１８０℃以上である有機溶剤を含む。 （もっと読む）

本発明は、a)60〜99モル%の少なくとも１種の1-ビニルイミダゾールモノマー、b)1〜40モル%の少なくとも１種のラジカル重合可能な４級化可能なモノマーb1)、もしくはメタクリル酸b2)、およびc)0〜30モル%の、a)およびb)とは異なる少なくとも１種の追加のラジカル共重合可能なモノマーの、ラジカル共重合によって得られるカチオン性ポリマーの頭髪用化粧品における使用に関する。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、かつ前記（Ｂ）成分は、一般式（ｂ−５）で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］


［式中、Ｒ^７”は置換基を有していてもよく有していなくてもよい炭化水素基である。］ （もっと読む）

【解決手段】式（１）で示されるラクトン含有化合物。


（Ｒ⁴はＨ又はＣＯ₂Ｒ⁵。Ｒ⁵はハロゲン原子又は酸素原子を有していてもよい１価炭化水素基。ＷはＣＨ₂、Ｏ又はＳ。）
【効果】機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用で、中でも波長５００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、かつ前記（Ｂ）成分は、一般式（ｂ−３）、（ｂ−４）および（ｂ−５）で表される群から選択される一種のアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を含むポジ型レジスト組成物。
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