【課題】リソグラフィ工程における微細化の要求、特に、ラフネスを改善するための重合性化合物を安定した品質で製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）（Ｒ^１は炭素数５〜２０の環状飽和炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）の化合物とアクリル酸誘導体とを反応させる一般式（３）（Ｒ^１は上記に同じ。Ｒ^２は水素原子、メチル基又はＣＦ_３基を示す。）の重合性化合物の製造方法。


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【解決手段】ウエハーに形成したフォトレジスト層上にレジスト保護膜材料による保護膜を形成し、露光を行った後、現像を行うリソグラフィーによるパターン形成方法において用いる前記レジスト保護膜材料であって、カルボキシル基及び／又はスルホ基を有する繰り返し単位と炭化水素からなる繰り返し単位とを共重合した高分子化合物をベースとするレジスト保護膜材料。
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を適用することによって、真空中の露光におけるレジスト膜からのアウトガスの発生を抑えることができる。本発明のレジスト保護膜材料は、アルカリ現像液に可溶なためにレジスト膜の現像と同時に剥離が可能である。更に、レジスト膜を溶解することが無く、ミキシング層を形成することも無いので、現像後のレジスト形状に変化を与えることがない。 （もっと読む）

【課題】光造形時の収縮が小さく、反りが発生せず、且つ硬化感度、寸法精度、力学的特性、外観に優れる立体造形物を生産性良く製造できる光学的立体造形用樹脂組成物の提供。
【解決手段】(Ｉａ)または(Ｉｂ)のジ（メタ）アクリレート化合物を５〜６０質量％含有する樹脂組成物。
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【課題】成膜性、耐候性と耐ブロッキング性に優れる塗膜の形成を可能とする水性樹脂分散体を提供すること。
【解決手段】高Ｔｇ樹脂成分と低Ｔｇ樹脂成分からなる水性樹脂分散体であって、水性樹脂分散体の最低成膜温度（ＭＦＴ）が水性樹脂分散体粒子を構成する全重合性単量体の計算Ｔｇより１０℃以上低い水性樹脂分散体。 （もっと読む）

本発明は、四級化窒素含有モノマーを基礎とし、アニオン生成基/アニオン基と比較してモル過剰のカチオン生成基/カチオン基を有する両性コポリマー、このような両性コポリマーの少なくとも1種を含んでいる化粧品または医薬組成物、さらに、これらのコポリマーの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての基本物性に優れており、特にアルカリ性現像液への溶解性及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、酸解離性基が解離した際にアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂と、（Ｂ）酸発生剤とを含有する。
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【課題】金属成分、前ロットの重合体等の不純物の少ない重合体を得ることができる重合体の製造方法、不純物の少ない重合体粉末およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液をフィルター４２を用いてろ過して重合体湿粉を製造する工程と、得られた重合体湿粉をフィルター４２上に載せたまま乾燥させる工程とを有する重合体粉末の製造方法、該製造方法によって得られた重合体粉末、および該製造方法によって得られた重合体粉末から得られるレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、基板との密着性に優れ、現像後に開口部に残渣を発生させず、メッキ後の樹脂膜のクラック発生を抑制することができ、メッキの樹脂膜への押し込みを抑制、露光量の変化に対してパターンの寸法変化が小さく、Ｔ−ｔｏｐを解消できるポジ型感放射線性樹脂組成物、転写フィルム、バンプや配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】上記ポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位とカルボキシル基を有する構造単位と架橋構造とを有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、および（Ｃ）有機溶媒を含有し、該重合体（Ａ）を構成する全構造単位のうち、架橋構造を含む構造単位以外の構造単位の合計１００モル％に対して、前記酸解離性官能基を有する構造単位が１〜３５モル％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 透明性、耐熱性、靱性に優れ、光学用部材の原料として好適に用いることのできるアクリル系ポリマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】 不飽和カルボン酸アルキルエステル単位と不飽和カルボン酸単位と環化構造単位ｃとを含有するアクリル系ポリマーＢと、粒子径が１０ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下である弾性体粒子Ｃとを含有するアクリル系ポリマー組成物の製造方法であって、下記工程（１）および工程（２）を経る方法とする。
工程（１） 不飽和カルボン酸アルキルエステル単位と不飽和カルボン酸単位からなる共重合体Ａに弾性体粒子Ｃを分散させ、組成物Ｄを得る（分散工程）。
工程（２）組成物Ｄに環化処理を施し、上記アクリル系ポリマーＢと弾性体粒子Ｃを含有するアクリル系ポリマー組成物を得る（環化工程）。 （もっと読む）

【課題】ポリアクリル酸エステルの重合度を測定する方法等を提供する。
【解決手段】多官能アクリル酸エステルを重合させてなるポリアクリル酸エステル（Ａ）に、流通式の反応系で、前記ポリアクリル酸エステル（Ａ）の主鎖が切断されない温度で、超臨界または亜臨界状態の一般式（２）で表される低級アルコールを反応させて、一般式（３）で表されるポリアクリル酸エステルを得る工程と、一般式（３）で表されるポリアクリル酸エステルの重合度を測定して該重合度から前記ポリアクリル酸エステル（Ａ）の重合度を測定する工程を含む、ポリアクリル酸エステルの重合度の測定方法。
一般式（２）
Ｒ³ＯＨ
（一般式（２）中、Ｒ³は置換もしくは無置換の炭素数１〜３のアルキル基である。）


（一般式（３）中、Ｒ¹は水素原子または置換もしくは無置換のメチル基であり、Ｒ³は置換もしくは無置換の炭素数１〜３のアルキル基である。ｎは重合度を示す。） （もっと読む）

【課題】溶媒への溶解性のよい重合体粉末、溶媒への溶解性のよい重合体湿粉およびその製造方法、並びにレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液をろ過して、重合体湿粉を製造する工程と、製造された重合体湿粉を保管する工程とを有する重合体湿粉の製造方法であって、気温が常に３５℃以下となるように管理された環境下で重合体湿粉を保管する、重合体湿粉の製造方法；該製造方法によって得られた重合体湿粉；該製造方法によって得られた重合体湿粉を乾燥して得られた重合体粉末；および、該重合体湿粉から得られるレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体レジストの保護膜用樹脂の耐水性、アルカリ現像時にはアルカリ現像液への溶解性、更にはレジスト膜上に均一な薄膜を形成できること、また、露光時において、使用される光、特に遠紫外線には透明性が高いこと、それによってレジスト膜への露光の妨げにならない保護膜樹脂の提供。
【解決手段】アルカリ現像液に可溶な基を有する単量体及び疎水性を示す基を有する単量体の溶液とラジカル重合開始剤の溶液をそれぞれ重合温度に昇温された溶媒中へ添加しながら重合することを特徴として製造された、液浸露光法によるリソグラフィに使用される半導体レジストの保護膜用樹脂であり、前記ラジカル重合開始剤が分子中にシアノ基及び芳香族環を含まないラジカル重合開始剤である前記記載の半導体レジストの保護膜用樹脂。 （もっと読む）

【課題】従来のヒドロキシスチレン系、ノボラック系のネガ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示されるヒドロキシビニルナフタレンの繰り返し単位を有する高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化４７】
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【課題】アクリル系粘着剤の特徴である優れた耐候性、透明性有し、且つ低エネルギー表面に対する接着性、固定性、耐熱性に優れたアクリル系粘着剤組成物を提供する。また上記アクリル系粘着剤組成物を塗布して得られる耐候性、透明性、低エネルギー表面に対する接着性、固定性、耐熱性に優れる粘着シートまたは粘着テープを提供する。
【解決手段】アクリル系ポリマーのモノマー成分として、式（１）を代表例とする少なくとも一種のテルペン系（メタ）アクリレート化合物を含有するアクリル系粘着剤組成物。


上記式中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】溶液重合法によって単量体成分を重合し、重合体溶液を得る工程と、該重合体溶液を冷却手段（ジャケット２６）を用いて４０℃以下に冷却する工程とを有する製造方法によって重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れたフィルムおよびシートの提供。
【解決手段】４−メチル−１−ペンテン系重合体セグメント（Ａ）５０〜９９．９重量％と、重合体セグメント（Ｂ）０．１〜５０重量％とを含み、下記要件（１）〜（３）を同時に満たすことを特徴とする重合体（Ｃ）。（１）重合体セグメント（Ａ）が、単独重合体の残基、あるいは炭素数２から２０個のα−オレフィンとのランダム共重合体の残基で、４−メチル−１−ペンテンの含有率が８０重量％以上である。（２）重合体セグメント（Ｂ）が、ラジカル重合性単量体から選ばれる１種以上のモノマーの単独重合体または共重合体の残基である。（３）重合体（Ｃ）中の重合体セグメント（Ｂ）の重量分率（Ｘ）と、重合体（Ｃ）の室温クロロホルム不溶成分中の重合体セグメント（Ｂ）の重量分率（Ｙ）との間に下記式（１）で示される関係式が成り立つ。 （Ｙ）／（Ｘ）≧０．５ ・・・（１） （もっと読む）

側鎖を有するモノマーから誘導されたフルオロケミカルであって、該側鎖が、１個〜６個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル基及び該ペルフルオロアルキル基に結合した炭化水素スペーサー基を含み、該スペーサー基が１５個〜５０個の炭素原子を有する、フルオロケミカル。ペルフルオロアルキル基は、室温で非結晶化性であり、スペーサー基は室温にて結晶化性である。 （もっと読む）

【課題】超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造用のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工に於いて、現像欠陥性能が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のフェニルアルキルアクリレート繰り返し単位とヒドロキシスチレン繰り返し単位とを有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｆ）特定のフッ素系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の分散液をろ過して重合体湿粉を製造する工程と、該重合体湿粉を容器５２に入れて乾燥させる工程とを有し、容器５２として、容器浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）と容器浸漬前の水の電気伝導度（Ｙ）との差（Ｘ−Ｙ）が、１．８μＳ／ｃｍ以下であるものを用いる重合体の製造方法。ただし、容器浸漬前の水としては、電気伝導度が０．５μＳ／ｃｍ以下である純水を用い、容器浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）は、容器の内面積１ｍ² あたり２０Ｌの純水に容器を浸漬し、浸漬開始から１５分後に容器を浸漬した状態で測定した水の電気伝導度とする。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および
（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）