感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板

【課題】所定の高分子化合物を含むことにより、感度、保存安定性、及び無電解金めっき耐性に優れ、かつタック性が良好で感光層を傷付けることなく、高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及びアルカリ不溶性の熱架橋剤を含む感光性組成物を含み、前記バインダーが、側鎖に、炭素原子数７〜２０の置換基を有していてもよい鎖状及び環状のいずれかの炭化水素基、並びにエチレン性不飽和結合を有する高分子化合物を含むことを特徴とする感光性組成物等である。前記高分子化合物が側鎖にカルボキシル基を有する態様、などが好ましい。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及びアルカリ不溶性の熱架橋剤を含む感光性組成物を含み、前記バインダーが、側鎖に、炭素原子数７〜２０の置換基を有してもよい鎖状及び環状のいずれかの炭化水素基、並びにエチレン性不飽和結合を有する高分子化合物を含むことを特徴とする感光性組成物。
【請求項２】
高分子化合物が、側鎖にカルボキシル基を有する請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
高分子化合物が、下記構造式（Ｉ）で表される構造単位を含む請求項１から２のいずれかに記載の感光性組成物。
【化１】

ただし、前記構造式（Ｉ）中、Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３は、水素原子及び１価の有機基のいずれかを表す。Ｘは炭素原子数７〜２０の置換基を有してもよい鎖状及び環状のいずれかの炭化水素基を表す。
【請求項４】
高分子化合物が、下記構造式（II）で表される単量体少なくとも１つと、構造式（III）で表される単量体少なくとも１つとを共重合させた共重合体のカルボキシル基に、構造式（IV）で表される化合物を付加させてなる請求項１から３のいずれかに記載の感光性組成物。
【化２】

ただし、前記構造式（II）中、Ｒ_４は水素原子及びメチル基のいずれかを表す。Ａは炭素原子数７以上の置換基を有してもよい鎖状及び環状のいずれかの炭化水素基を表す。
【化３】

ただし、前記構造式(III)中、Ｒ_５は水素原子及びメチル基のいずれかを表す。
【化４】

前記構造式(IV)中、Ｒ_６は水素原子及びメチル基のいずれかを表す。Ｌは有機基を表す。
【請求項５】
重合性化合物が、エチレン性不飽和結合を１つ以上有する化合物を含む請求項１から４のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項６】
アルカリ不溶性の熱架橋剤が、エポキシ化合物を含む請求項１から５のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項７】
支持体と、該支持体上に請求項１から６のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層を有することを特徴とする感光性フィルム。
【請求項８】
長尺状であり、ロール状に巻かれてなる請求項７に記載の感光性フィルム。
【請求項９】
請求項１から６のいずれかに記載の感光性組成物により形成された感光層に対して露光を行うことを含むことを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板。

【図２５】