【課題】軟化点が高く、感度が高いレジスト膜を作製できる高分子化合物の提供。
【解決手段】基材成分が、酸の作用により極性が増大するアクリル酸エステルからなる構成単位と、露光により酸を発生する構成単位（ａ３−０）とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。
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【課題】低温焼成と保存安定性とを両立し、かつ高い放射線感度を有する感放射線性樹脂組成物、及びフレキシブルディスプレイ用として好適な、表面硬度、耐溶媒性及び比誘電率に優れる層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜の提供。
【解決手段】［Ａ］（Ａ１）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも１種の単量体と、（Ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物とを共重合してなるアルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］キノンジアジド化合物、並びに［Ｃ］電子吸引性基およびアミノ基を有するベンゼン化合物、電子吸引性基およびアミノ基を有するベンゼン環を２個有する化合物、３級アミン化合物、アミン塩、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物、ケチミン化合物、ブロックイソシアネート化合物、イミダゾール環含有化合物及び包接化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の硬化剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】一の層で、防汚機能、低屈折率、高屈折率を有する層を備えた積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】積層体１は、透明な基材１０と；基材１０上側に、入射する光を屈折させる屈折層１１を備える。屈折層１１は、少なくとも、フルオロシルセスキオキサンおよびフルオロシルセスキオキサン重合体からなる群から選ばれる１種以上のフッ素化合物（ｓｓ）と、前記フッ素化合物（ｓｓ）よりも高い屈折率を有する樹脂（ｐｌ）を含む。屈折層１１内のフッ素化合物（ｓｓ）の濃度は、基材１０側（裏面ｓ２側）とその反対側（表面ｓ１側）では反対側（表面ｓ１側）が高く、屈折層１１は、層内に低屈折率と高屈折率の傾斜構造層を形成する。 （もっと読む）

【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、［Ａ］塩基解離性基を含む構造単位（ｆ）を有する含フッ素重合体を含有し、分子量１，０００以下の［Ａ］含フッ素重合体の含有量が０．０２質量％以下である感放射線性樹脂組成物である。上記構造単位（ｆ）の塩基解離性基がフッ素原子を有することが好ましく、上記塩基解離性基がフッ素原子を有する芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】パターン形成後の他のレジスト組成物からの影響を低減できるポジ型レジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、アミド基と、水酸基又はアミノ基と置換して脱離しうる保護基を含み、その構造中に環骨格を有さないアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０−１）、第一級若しくは第二級の水酸基又は第一級若しくは第二級のアミノ基を含み、その構造中に環骨格を有さないアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０−２）、及びアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分を含有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、穏和な条件下で効率的にハロゲン化を効率よく進めるための高活性の触媒を開発し、かつ反応後に容易に回収でき、反応にリサイクルできる触媒を開発することを目的としている。
【解決手段】一般式（１）
Ａ_xＭＯ_(2+0.5x) （１）
（式中、Ａはアルカリ金属を示し、Ｍはクロム、マンガン、コバルト、ニッケルおよび鉄からなる群から選ばれた少なくとも１種の遷移金属元素を示し、ｘは０＜ｘ≦２の数字を示す。）で表される酸化遷移金属複合体（ａ）を含有するハロゲン化触媒。若しくは前記酸化遷移金属複合体（ａ）と酸素（ｂ）から形成されるハロゲン化触媒。 （もっと読む）

【課題】剛性ならびに発泡状態が良好で、表面の外観性、断熱性に優れた発泡フィルムを提供する。
【解決手段】密度が９３０〜９６０ｋｇ／ｍ^３、１９０℃、２．１６ｋｇ荷重におけるメルトフローレートが０．１〜２０ｇ／１０分、１９０℃におけるダイスウェルが１．３０〜２．００であるポリエチレン系樹脂組成物を含んでなることを特徴とする発泡フィルム。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び（ｂ２−１〜３）で表されるカチオン部を有する式（ｂ１−１）で表され、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】射出発泡成形加工性、剛性ならびに発泡状態が良好で、表面の外観性に優れた射出発泡成形体を提供する。
【解決手段】密度が９３０〜９６０ｋｇ／ｍ^３、１９０℃、２．１６ｋｇ荷重におけるメルトフローレートが０．１〜２０ｇ／１０分、１９０℃におけるダイスウェルが１．３０〜２．００であるポリエチレン系樹脂組成物を含んでなることを特徴とする射出発泡成形体。 （もっと読む）

【課題】得られるパターンのラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）が良好なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位及び酸に不安定な基を有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する重合体（ＩＩ）と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^３は、置換基を有してもよい炭素数１〜１２の炭化水素基又はシアノ基を表し、該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。Ａ¹は、単結合又は−（ＣＨ_２）_ｍ１−ＣＯ−Ｏ−＊、−（ＣＨ_２）_ｍ２−ＯＣＯ−（ＣＨ_２）_ｍ３−ＣＯ−Ｏ−＊を表す。ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ１〜６の整数を表す。＊は、Ｎとの結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】水性塗料用組成物に含有させることによって塗膜表面の自己浄化機能を向上させることができるとともに、塗料の貯蔵安定性を損ないにくい水性塗料用低汚染化剤を提供する。
【解決手段】炭素数１〜２４のペルフルオロアルキル基を有する重合単位（ａ’）の３０〜７０質量％と、アルキレンオキシド鎖を有する重合単位（ｂ’）の２０〜６９質量％と、アミノ基を有する重合単位（ｃ’）の１〜１０質量％を含む含フッ素共重合体を含有する水性塗料用低汚染化剤。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は炭素数４〜３６の脂肪族環；環Ｗ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基；Ｙは置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が良好で、レジストパターン形状も良好なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、一般式（ｄ１）で表される含窒素有機化合物（Ｄ１）とを含有するレジスト組成物。
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【課題】感度、解像性といった基本特性だけではなく、ＭＥＥＦ性能をも十分に満足する感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される酸発生剤及び［Ｂ］（ｂ１）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。


（式（１）中、Ｒ^１は１価の有機基である。Ｙは炭素数１〜１５の２価の有機基である。但し、炭素数１〜１５の２価の有機基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ａ^＋は有機カチオンである。） （もっと読む）

【課題】ビニルエステル系樹脂を原料として中間体を取り出すことなくビニルアセタール樹脂を製造する方法であって、着色が少なくアセタール化度が高いビニルアセタール樹脂を短時間で得ることができるビニルアセタール樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】ビニルエステル系樹脂を原料として中間体を取り出すことなくビニルアセタール樹脂を製造する方法であって、カルボキシル基を有する化合物を含む１００〜４００℃、０．２〜１００ＭＰａの高温高圧流体中で、ビニルエステル系樹脂のエステル側鎖を変性して前記流体に溶解させる工程１と、前記工程１においてビニルエステル系樹脂のエステル側鎖の一部もしくは全てが変性されてからアルデヒドを投入する工程２と、前記高温高圧流体中でアセタール化反応を進める工程３とを有するビニルアセタール樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、１級又は２級の水酸基を備えた繰り返し単位（Ｃ）とを含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、塩基解離性基を有する構成単位（ｆ１）を含む含フッ素重合体（Ａ）、放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｃ）、放射線の照射により特定のｐＫａを有する化合物を発生する塩（Ｄ）を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】硬化前の粘度が低く、更に透明性が良好である硬化物を与え、かつ耐熱性が高く、１８０℃以上の無機材料層を形成する過程に耐え得る硬化物を与える硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物は、下記式（１）で表されるトリアジン骨格を有する（メタ）アクリレート化合物と、屈折率調整剤とを含む。硬化性組成物の硬化後の硬化物の５８９ｎｍにおける屈折率は１．５５７以上、１．５７１以下であり、かつ該硬化物のガラス転移温度は１８０℃以上である。
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【課題】焼結性を損なうことなく、機械的強度及び耐溶剤性に優れたセラミックグリーンシートを得ることのできるエポキシ変性ポリビニルアセタール樹脂を提供する。また、該エポキシ変性ポリビニルアセタール樹脂を用いて製造されるセラミックスラリー及びセラミックグリーンシートを提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコールで表される構成単位を１７〜４９．４モル％、アセチル基を有する構成単位を０．１〜１５モル％、下記式（３）で表されるアセタール基を有する構成単位を４８〜８０モル％、及び、エポキシ基を有する構成単位を０．５〜２０モル％の割合で有し、かつ、平均重合度が３００〜２５００であることを特徴とするエポキシ変性ポリビニルアセタール樹脂。


式（３）中、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】感度、、解像力、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）、ドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを含有する樹脂の間を酸分解性の架橋有機基で架橋してなり、酸の作用により該架橋が切断される高分子化合物（Ｐ）を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）