【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】置換マレイミド基を有する繰り返し単位と、第１の官能基を含有する繰り返し単位とを有し、該第１の官能基が、電磁波の照射もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第２の官能基を生成する官能基である高分子化合物（Ａ）を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れたアニオン交換膜を提供することにある。
【解決手段】熱可塑性重合体マトリックス中に、１μｍ未満の粒径の架橋アニオン交換体粒子が分散している複合均質アニオン交換膜であって、該架橋アニオン交換体が、下記一般式（１）；


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は同一または異なって、炭素数１〜８の炭化水素基を示す。Ｘはアニオンを示す。ｎは４〜１２の整数を示す。）で表される構成単位と、一分子中に少なくとも二つのビニル基を有する架橋性モノマーから誘導される構成単位とを有するものであることを特徴とする複合均質アニオン交換膜。 （もっと読む）

【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】分子内に、（メタ）アクリロイル基及び、２個以上の第１の官能基を含み、該第１の官能基が電磁波の照射もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第２の官能基を生成する官能基である高分子化合物（Ａ）を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）

【課題】スカムの発生を低減でき、かつ、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。
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【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂並びに該樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物。式中、Ｔ^１は置換基を有してもよいスルトン環であり、Ｚ^１は置換基を有してもよいアルカンジイル基又は式（ａ−１）である。
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【課題】インクジェット法を用いて製造された耐溶剤性および耐候性に優れたカラーフィルターを提供する。また、該カラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供する。
【解決手段】カラーフィルター１は、カラーフィルターを平面視した場合において、着色部１２における、着色部と相似形であり、着色部に対する相似比が０．９０であり、かつ重心が着色部と同一の点にある領域を有効領域とし、基板１１と略平行な面であって、基板からの距離が、着色膜１２１の平均厚さと同等である面を基準面としたとき、下記式（Ｉ）の関係を満足する着色部が設けられていることを特徴とするカラーフィルター。１．１≦Ｔ_Ｘ／Ｔ_Ｙ≦１．７・・・（Ｉ）（ただし、Ｔ_Ｘ［μｍ］は、有効領域の境界線上における基準面から樹脂層表面までの距離であり、Ｔ_Ｙ［μｍ］は、有効領域内における基準面から樹脂層表面までの最短距離である。） （もっと読む）

【課題】解像性および耐久性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）を含む着色感光性樹脂組成物。
（Ａ）着色剤
（Ｂ）下記（ａ）と（ｂ）を共重合させて得られる共重合体に、（ｃ）を反応させて得られる樹脂
（ａ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種
（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体
（ｃ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体
（Ｃ）重合性化合物
（Ｄ）重合開始剤
（Ｅ）多官能チオール化合物
（Ｆ）溶剤 （もっと読む）

【課題】極性基を有するノルボルネン系モノマーの高分子量付加共重合体を製造可能な高活性のノルボルネン系モノマー重合用触媒、及びノルボルネン系（共）重合体の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるパラジウム錯体（Ａ）を含有するノルボルネン系重合用触媒、及び前記触媒の存在下に一般式（３）及び一般式（４）で示されるモノマーユニットを有するノルボルネン系共重合体を製造する方法。パラジウム錯体（Ａ）としては、一般式（２）で示される錯体が好ましい。


（式中の記号は、明細書に記載の通り） （もっと読む）

【課題】本発明は、水洗等の特別な作業を伴うことなく、繰返し使用に適した粘着性を示し、かつ特に皮膚に対する刺激の少ない粘着性ハイドロゲル用組成物とその用途（例えば、粘着性ハイドロゲル、ゲルシート及び電極パッド）を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、少なくとも、高分子マトリックス形成材と、水と、多価アルコールとからなる粘着性ハイドロゲル用組成物であって、前記高分子マトリックス形成材は、少なくとも、（ａ）（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸誘導体、クロトン酸及び／又はカルボキシル基を２つ有する炭素数が４〜５のビニル誘導体、（ｂ）（メタ）アクリルアミド及び／又は（メタ）アクリルアミド誘導体、（ｃ）Ｎ−ビニル−２−カプロラクタム、及び／又は、Ｎ−ビニル−２−バレロラクタム並びに（ｄ）架橋性単量体からなり、該粘着性ハイドロゲル組成物における前記（ｂ）の含有率が２〜２０重量％である。 （もっと読む）

【課題】特定の構造単位を有する樹脂を含有する新規なポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するポジ型レジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ脂肪族炭化水素基を表すか、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに環を形成する；Ｒ^３は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；Ｔ^１は、２価の脂肪族飽和炭化水素基等；ｍは０又は１の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として好適な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）として、一般式（ａ５−１）で表される構成単位（ａ５）を有する高分子化合物（Ａ１）を含むレジスト組成物。
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【課題】太陽電池として実際に使用される環境だけでなく、太陽電池モジュールを評価する際に検討される高温多湿の雰囲気中における促進試験を行なった場合であっても、太陽電池に用いられる充填材に対する接着性および耐候性に優れ、電気出力特性を維持し、バックシートの外観不良が生じがたい太陽電池モジュール用接着剤、太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池を提供すること。
【解決手段】太陽電池モジュールに用いられるバックシートと充填材と貼り合わすために用いられる接着剤であって、ヘテロ原子を含む１，５−ジエン構造含有単量体およびヘテロ原子を含む１，６−ジエン構造含有単量体からなる群より選ばれた少なくとも１種のジエン構造含有単量体を含有する単量体成分を環化重合させてなるヘテロ原子を含む環構造を主鎖に有する重合体を含有することを特徴とする太陽電池モジュール用接着剤。 （もっと読む）

【課題】低発熱性、耐摩耗性及びウェットグリップ性の性能に優れるゴム架橋物を得るための変性共役ジエン系ゴム組成物を提供する。
【解決手段】本発明の変性共役ジエン系ゴム組成物は、エポキシ基及びアルコキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を１分子中に３以上有している変性剤にて、活性末端を有する共役ジエン系重合体鎖の少なくとも一部を変性させて得られるものであり、Ｔｇが−６０℃〜−１０℃である変性共役ジエン系ゴム（Ａ）と、変性剤にて、活性末端を有する共役ジエン系重合体鎖の少なくとも一部を変性させて得られるものであり、Ｔｇが−１２０℃〜−５０℃であり、変性共役ジエン系ゴム（Ａ）よりＴｇが２０℃〜１００℃低い変性共役ジエン系ゴム（Ｂ）と、の混合物を含み、変性共役ジエン系ゴム（Ａ）と変性共役ジエン系ゴム（Ｂ）との重量混合比が、ゴム（Ａ）：ゴム（Ｂ）にて、（５０：５０）〜（９５：５）である。 （もっと読む）

【課題】 ｐＨが３〜８であるラテックスおよび重合中に発生するスケールが少ないラテックスの製造方法を提供する。
【解決手段】 塩化ビニル−カルボン酸ビニルエステル共重合体１００重量部に対して、スルホン酸塩又は硫酸エステル塩を有する有機化合物０．２０〜１０．０重量部及び高級脂肪酸塩０．０５〜３．０重量部を含有し、ｐＨ３〜８であることを特徴とする塩化ビニル系共重合体ラテックス、並びにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】リチウム二次電池の高温保存時のガス発生及び電池容量の低下を抑制する。
【解決手段】電解質は、重合性化合物又は重合体を含み、重合性化合物は、芳香族官能基と重合性官能基とを有するもの、及び金属イオンと錯体を形成する錯体形成官能基と重合性官能基とを有するものを含み、重合体は、錯体形成官能基と芳香族官能基と重合性官能基の残基とを有する。 （もっと読む）

【課題】高解像性を有し、プロセス適応性に優れ、露光後のパターン形状が良好で、ラインエッジラフネスが小いポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される単量体。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ²はＨ又は一価又は二価の炭化水素基、Ｒ³は特定の酸不安定基、Ａ¹は二価の炭化水素基、Ａ²は二価又は三価の炭化水素基、Ａ²とＲ²は互いに結合して隣接する窒素原子と共に環を形成してもよい。ｋ¹は０又は１。） （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩を有効成分として含有する酸発生剤と、式（ａ３−２）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｌ^２は単結合又は２価の飽和炭化水素基；Ｒ^１は脂肪族炭化水素基；Ｒ^２は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基等；Ｚ^＋は有機対イオン；Ｌ^a5は、酸素原子又は＊−Ｏ−（ＣＨ₂）_k3−ＣＯ−Ｏ−、ｋ３は１〜７の整数、＊は−ＣＯ−との結合手；Ｒ^a22はカルボキシ基、シアノ基又は脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】材料選択の自由度が非常に高い光反応性化合物を含む光配向膜用又は光学異方性フィルム用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


〔式中，Ｍはホモポリマー又はコポリマーの主鎖を形成するモノマー単位であり，ＳＰＣＲはスぺーサー単位であり，環Ａは非置換若しくは置換脂環式炭化水素又は非置換若しくは置換芳香環であり，環Ｂは非置換若しくは置換芳香環であり，Ｚはアルキル基，アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，ハロゲン原子，−ＣＨ＝ＣＨＺ^１，−Ｃ≡ＣＺ^１（但し，Ｚ^１はアルキル基，アルコキシ基，アルコキシカルボニル基，アルコキシスルホニル基，シアノ基，ニトロ基又はハロゲン原子である。），−ＣＯＯＺ^２，又は−ＳＯ_３Ｚ^２（但し，Ｚ^２はアルキル基である。）である。〕で示される繰り返し単位を有する光反応性ポリマーを含んでなる，光配向膜用組成物又は光学異方性フィルム用組成物。 （もっと読む）

【課題】マスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される化合物。


［式中、Ａ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式（ａ−１）


（式中、ｓは０又は１；Ａ¹⁰及びＡ¹²は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ａ¹¹は、単結合又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ｘ¹⁰及びＸ¹¹は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基；ただしＡ¹⁰、Ａ¹¹、Ａ¹²、Ｘ¹⁰及びＸ¹¹の炭素数の合計は６以下である）で表される基；Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】 優れた耐寒性及び誘電特性を有するとともに外径変動及び表面肌荒れが十分に抑制された電線被覆を形成することが可能な電線被覆形成用材料を提供すること。
【解決手段】電線において導体を被覆する電線被覆の形成に用いられる電線被覆形成用材料であって、エチレン系樹脂を含み、エチレン系樹脂が、エチレンと、４〜２０個の炭素原子を有するオレフィンとの共重合体である電線被覆形成用材料。 （もっと読む）