【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なエッチングレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ２）とを有する重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含むことを特徴とするエッチングレジスト用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスおよび感度の両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される酸分解性の繰り返し単位を含有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。Ｒ_２はアルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ_３は１価の置換基を表す。Ｗはアルキレン基又はシクロアルキレン基を表す。Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘを含む環はエーテル結合又はチオエーテル結合を含む環構造を表す。ｌ及びｎは各々独立に０以上の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数のＲ_３は各々独立であり、また、互いに結合して環を形成してもよい。）
（もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射で発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン類単位、（４）インデン類単位の繰り返し単位を含有する。
【効果】本発明によれば、酸発生能化合物のレジスト膜中の微細な分布及び拡散をより均一にすることができ、有効な感度を有利に確保できると共に、ＬＥＲの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とする。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性（ＣＤＵ）に優れ、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断される１価の基；ｎ^aa１は１又は２；Ａ^aa１は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ａ^ab1は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ｒ^ab2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射により発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン単位、（４）インデン単位の繰り返し単位を含有し、（１）の繰り返し単位は０．５〜１０モル％、かつ、他の繰り返し単位を合計した量の割合は５０〜９９．５モル％を占める。
【効果】本発明によれば、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の改善に加え、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とし、かつ高解像性を与える。 （もっと読む）

【課題】分子量が小さなポリマーやオリゴマーの混入が極めて低いフォトレジスト用樹脂を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明のフォトレジスト用樹脂の製造方法は、少なくとも単量体を含有する溶液を滴下重合する工程を有するフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、Ｔ₁（℃）に保持した反応容器に前記溶液を滴下し、前記溶液中に含有する全単量体の１５重量％以上、１００重量％以下が滴下終了した時点で、反応容器の温度を下記Ｔ₂（℃）まで降温する工程を有することを特徴とする。
Ｔ₂（℃）：（Ｔ₁−５０）（℃）以上、（Ｔ₁−５）（℃）以下 （もっと読む）

【課題】長寿命な有機発光素子を低コストで製造すること。
【解決手段】陽極と陰極間に、第１の発光層と第２の発光層を含む積層された複数の有機化合物層を有し、前記第１の発光層が、第１の電荷輸送性化合物および第１の発光性化合物を含み、前記第２の発光層が、第２の電荷輸送性化合物および第２の発光性化合物を含み、前記第１の発光性化合物は発光スペクトルにおいて４４０〜５００ｎｍの波長範囲に発光極大波長を有し、前記第２の発光性化合物は発光スペクトルにおいて５１０〜６５０ｎｍの波長範囲に発光極大波長を有し、前記第１の電荷輸送性化合物中に含まれる、特定の不純物に由来する塩素原子等の濃度が５０ｐｐｍ未満であり、前記第２の電荷輸送性化合物中に含まれる、特定の不純物に由来する塩素原子等の濃度が５０〜５００ｐｐｍである有機発光素子。 （もっと読む）

【課題】 低添加量で、より強固なフロックを形成し、脱水後のケーキ含水率を低減することができる高分子凝集剤を提供すること。
【解決手段】 下記の関係式を満足する水溶性重合体（Ａ）を含有してなる高分子凝集剤。
０．１≦ＣＥ２／ＣＥ１≦０．９

［式中、ＣＥ１は純水中でのコロイド当量（カチオンコロイド当量および／またはアニオンコロイド当量）測定値、ＣＥ２は０．０５重量％のＮａ₂ＳＯ₄水溶液中のコロイド当量測定値を表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）が、式（ｂ１）で表される化合物を含有し、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物の１つ以上を含むレジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
（もっと読む）

【課題】含水率が低いセルロースアシレートフィルムの提供。
【解決手段】セルロースアシレートと、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマーと、を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム（式中、Ｒ¹は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、前記脂肪族基、芳香族基または複素環基は置換基を有していてもよい。Ｒ²は置換基を有していてもよい芳香族基を表す。）。
（もっと読む）

【課題】従来よりも低い温度で懸濁液の固形分を凝集させることができる固形分の分離方法の提供。
【解決手段】転移温度を境に親水性から疎水性に変化するカチオン性感温性ポリマー及びアニオン性感温性ポリマーを、懸濁液に添加及び混合して、固形分を凝集させて分離する懸濁液の固形分分離方法であって、全構成単位に占める疎水性基を有する構成単位の比率が、カチオン性感温性ポリマーよりも、アニオン性感温性ポリマーの方が高く、且つカチオン性感温性ポリマーにおいて、全構成単位に占める疎水性基を有する構成単位の比率が３モル％以下であり、カチオン性感温性ポリマー及びアニオン性感温性ポリマーを、これらの混合前の転移温度よりも低い親水性温度域で懸濁液に添加及び混合した後、懸濁液の温度を、カチオン性感温性ポリマー及びアニオン性感温性ポリマーの混合後の転移温度以上の疎水性温度域として、固形分を分離する固形分分離方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー性能を改善させると同時に、高い後退接触角を示し、更に、保護膜を用いる液浸露光及び保護膜を用いない液浸露光の両用においてブロッブ欠陥の発生を抑えることが可能なレジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物（Ａ）、高エネルギー線に感応して下記一般式（１）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤（Ｂ）、下記一般式（２）で示される高分子添加剤（Ｃ）とを含むことを特徴とするレジスト組成物。Ｒ^２００−ＣＦ_２ＳＯ_３Ｈ（１）
（もっと読む）

【課題】レジスト組成物、パターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、側鎖にＯＨ基を含む基を有する環状の飽和炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有し、且つ特定の酸不安定性基を側鎖に有する（メタ）アクリレート単位の少なくとも１種を有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、樹脂成分（Ａ１）の全構成単位の合計に対し構成単位（ａ１１）の割合が３５モル％を超える。 （もっと読む）

【課題】 トルエン不溶分の抑制及び従来の解膠同時重合法では達成できないスコーチタイムの調整を行なうことのできる硫黄変性クロロプレン重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 クロロプレン、又はクロロプレン及びこれと共重合可能な単量体との混合物を、硫黄及びジチオカルバミン酸塩の存在下で乳化重合を行ない、クロロプレン重合体の製造と併行してこれの解膠を行なうことにより得られる重合体に対し、テトラアルキルチウラムジスルフィド及び下記一般式（１）で表されるジチオカルバミン酸塩を重合後に加えてさらに解膠を行なうことを特徴とする硫黄変性クロロプレン重合体の製造方法。
【化１】


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は炭素数４以下のアルキル鎖を表す） （もっと読む）

【課題】ポジ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて安定に形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜を露光する工程、及び該レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたポジ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、（Ａ）成分として、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位を有する樹脂成分を用い、現像液として極性有機溶剤を含み、実質的にアルカリ成分を含まない現像液を用いる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及び密着性に優れ、スカムが低減されたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、１９３ｎｍ以下の波長領域の光を露光光源とするリソグラフィーに用いられる基材成分、露光により酸を発生する酸発生剤成分、及び一般式（ｃ０）で表される構成単位を有する高分子化合物を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分１００質量部に対して、前記高分子化合物の含有割合が２５質量部未満であることを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^１は１つ以上の１級もしくは２級のアルコール性水酸基、または鎖状の３級アルコール性水酸基を有する有機基である］。
（もっと読む）

【課題】露光ラチチュードが大きく優れ、良好な矩形のパターン形状を形成することができ、且つ液浸露光時には液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】耐熱性に優れたアニオン交換膜を提供することにある。
【解決手段】熱可塑性重合体マトリックス中に、１μｍ未満の粒径の架橋アニオン交換体粒子が分散している複合均質アニオン交換膜であって、該架橋アニオン交換体が、下記一般式（１）；


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は同一または異なって、炭素数１〜８の炭化水素基を示す。Ｘはアニオンを示す。ｎは４〜１２の整数を示す。）で表される構成単位と、一分子中に少なくとも二つのビニル基を有する架橋性モノマーから誘導される構成単位とを有するものであることを特徴とする複合均質アニオン交換膜。 （もっと読む）

【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】分子内に、（メタ）アクリロイル基及び、２個以上の第１の官能基を含み、該第１の官能基が電磁波の照射もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第２の官能基を生成する官能基である高分子化合物（Ａ）を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）