【構成】
両性ポリアクリルアミドを含有するポリアクリルアミド系内添紙力剤であって、両性ポリアクリルアミドが、（ａ）（メタ）アクリルアミド ７０〜９９．８ｍｏｌ％、（ｂ）カチオン性ビニルモノマー ０．１〜１５ｍｏｌ％および（ｃ）アニオン性ビニルモノマー ０．１〜１５ｍｏｌ％を重合成分とし、ポリアクリルアミド系内添紙力剤の重量平均分子量（Ａ）が２００万〜１０００万であり、ポリアクリルアミド系内添紙力剤の重量平均分子量（Ａ）とポリアクリルアミド系内添紙力剤の２０％水溶液の粘度（Ｂ）の比（Ａ）／（Ｂ）が５００以上であり、ポリアクリルアミド系内添紙力剤の２０％水溶液の曳糸性が５〜６０ｍｍであることを特徴とするポリアクリルアミド系内添紙力剤である。
【効果】
本発明は、紙の地合いが良く、また、紙力増強効果、濾水性に優れるポリアクリルアミド系内添紙力剤およびその内添紙力剤を用いた紙の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、特定のＣＳＭの添加時期を制限することで、圧縮永久歪み、耐熱性、応力緩和などの物性が優れる含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーおよび成形品を提供する。
【解決手段】該製造方法は、少なくとも１種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物と、一般式（１）：
ＣＹ^１_２＝ＣＹ^２Ｒ_ｆ^１Ｘ^１ （１）
（式中、Ｙ^１、Ｙ^２はフッ素原子、水素原子または−ＣＨ_３；Ｒ_ｆ^１はエーテル結合性酸素原子を有していてもよく水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換された直鎖状または分岐状の含フッ素アルキレン基；Ｘ^１はヨウ素原子または臭素原子）
で示される化合物とを共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法であって、
一般式（１）で示される化合物の添加を、重合開始剤添加後に重合系内に添加する前記エチレン性不飽和化合物の全添加量の０〜１０重量％を添加した時期に開始することを特徴とする含フッ素エラストマーの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】顔料の微粒分散が可能であり、得られる顔料分散液の粘度も低く、且つ長期間に渡り安定な顔料の分散性を維持することができる、２−（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）エチル＝アクリラートを含む重合体、前記重合体を含む分散剤及び前記分散剤を含む顔料分散液を提供する。
【解決手段】単量体成分として、２−（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）エチル＝アクリラートを含み、水及び／又は有機溶剤を媒体とした溶液重合により製造される重合体。 （もっと読む）

【課題】
種々の脱水機に対応でき、脱水ケーキ含水率低下の要求を満足し、同時に架橋あるいは分岐した水性高分子の難点とされる薬剤添加量の増加にも対応でき汚泥脱水方法を、ポリアミジン系水性高分子を用いず、市販品として汎用されている（メタ）アクリル系単量体を使用したカチオン性あるいは両性水性高分子を用いた汚泥脱水方法を開発する。
【解決手段】
特定の構造単位のうち一種を７０〜１００モル％有するカチオン性あるいは両性水性高分子（Ａ）を添加した後、前記カチオン性あるいは両性水性高分子（Ａ）のうち、共重合率あるいは前記カチオン性あるいは両性水性高分子（Ａ）に使用した単量体とは異なる単量体を使用した構造単位７０〜１００モルを有するカチオン性あるいは両性水性高分子（Ｂ）あるいは他の構造単位７０〜１００モルを有するカチオン性あるいは両性水性高分子（Ｂ）を添加することによって達成できる。
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【課題】プラスチック基材、特にＡＢＳ基材及びポリプロピレン基材のいずれに対しても密着性が良好であり、かつ耐水性に優れた塗膜が得られる、プラスチック基材用の水性被覆材を提供する。
【解決手段】シアノ基含有ビニル系単量体（ａ１）と、炭素数が４以上の水酸基含有ビニル系単量体（ａ２）と、その他共重合可能なビニル系単量体（ａ３）とを含む単量体混合物（Ａ）を乳化重合して得られたエマルションに、シアノ基含有ビニル系単量体（ｂ１）と、炭素数が４以上の水酸基含有ビニル系単量体（ｂ２）と、酸基含有ビニル系単量体（ｂ３）、その他共重合可能なビニル系単量体（ｂ４）とを含む単量体混合物（Ｂ）をさらに加え乳化重合して得られ、重量平均分子量が８００００以下の水性エマルション（Ｉ）と、塩素化ポリオレフィン樹脂（ＩＩ）と、を含むことよりなる。 （もっと読む）

【課題】重合後の未反応モノマーの含有量が低減し、バインダー性能が向上し、遊離ホルムアルデヒドが低減し、更に、低臭気である水性樹脂分散体及びその水性樹脂分散体を含む不織布及び／又は繊維加工用バインダー組成物を提供する。
【解決手段】水性樹脂分散体の製造方法であって、
（１）エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む単量体、並びにＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド及び／又はＮ−アルコキシメチル（メタ）アクリルアミドを含む単量体混合物を、反応系のｐＨを４〜７の範囲に制御しながら、過酸化物、又は過酸化物及び有機酸若しくはそれらの塩の存在下で重合する第１重合工程、並びに
（２）未反応の前記単量体を更に過酸化物及び有機酸若しくはそれらの塩の存在下で重合する第２重合工程を
順次、含むことを特徴とする水性樹脂分散体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用結合剤として好適なスルホン酸（塩）基含有ビニル系ポリマーを容易に得るための手段を提供すること。
【解決手段】タウリン、Ｎ−メチルタウリン、およびメタアミノベンゼンスルホン酸からなる群から選択されるスルホン酸基含有化合物とアルカリ金属水酸化物とをメタノール中で反応させて得られた第一液と、分子内にエポキシ基を有するビニル系ポリマーをケトン系溶媒中に含む第二液とを混合することにより、前記ビニル系ポリマーの側鎖にスルホン酸アルカリ金属塩基を導入する付加反応を行うことを特徴とするビニル系ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト組成物上に適用される液浸リソグラフィ用トップコート層組成物の提供。
【解決手段】水性アルカリ可溶性であるマトリックスポリマーと、水性アルカリ可溶性であって、かつ、側鎖にフルオロアルキルスルホンアミド構造を有するα位に置換基を有してもよいアクリル酸エステルモノマーの重合単位を含む第１の追加のポリマーとを含み、第１の追加のポリマーがマトリックスポリマーよりも少ない量で組成物中に存在し、第１の追加のポリマーがマトリックスポリマーの表面エネルギーよりも低い表面エネルギーを有し、乾燥状態でのトップコート組成物の層が７５〜８５°の水後退接触角を有する、組成物。 （もっと読む）

【課題】従来の紫外線吸収剤を用いた場合に比して、非ブリードアウト性、相溶性、耐水性、及び耐熱性に優れ、単独又は種々の樹脂との配合で、光劣化が抑制されるとともに、耐久性の向上した塗料、コーティング剤、インキ、フィルム、及びシートなどの高分子製品を製造することが可能なポリマー組成物を提供する。
【解決手段】紫外線吸収型ポリマー（Ａ）と、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンと、を含み、紫外線吸収型ポリマー（Ａ）は、二重結合及び紫外線吸収基を有する化合物（ａ）と、二重結合含有成分と、を含む重合成分を重合させて得られるものであり、ポリウレタン（Ｂ）は、活性水素含有基及びアニオン性親水性基（水酸基を除く）を有する化合物（ｂ）と、ポリオール（ｃ）及び／又はポリアミン（ｄ）と、ポリイソシアネート（ｅ）と、を含む反応成分を反応させて得られるものであるポリマー組成物である。 （もっと読む）

【課題】 露光時の重合硬化性に優れ、露光感度が高く、短い加熱処理時間でもプロファイル特性に優れる着色パターン、断面形状の均一性および高さ均一性に優れるフォトスペーサー、均一性や硬度に優れる保護膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも側鎖に、酸性基を有する基および２種以上の互いに異なる重合性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、ならびに、光重合開始剤（Ｃ）を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される酸不安定基によって、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物を含有する、ポジ型レジスト組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｒは一価の有機基を表す。Ａは多環炭化水素環構造を有する基又は多環ヘテロ環構造を有する基を表す。＊は前記フェノール性水酸基の酸素原子との結合位置を表す。） （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを得ることができる樹脂及びレジスト組成物などを提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基、ここでｓは０〜２の整数、Ａ^１０及びＡ^１１は、それぞれ脂肪族炭化水素基を表し、Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す；Ａ^２は、フッ素原子を有する２価の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】 更なる高屈折率化を目指し、且つ、低収縮性、光硬化性、無色透明性、作業に適した粘度といった光学用接着剤としての性能も兼ね備えた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 ポリチオールと硫黄を反応させて得られるポリチオールオリゴマー（Ａ成分）と、ポリエン化合物（Ｂ成分）を含有する硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー技術を用いたレジストパターン製造では、設計寸法がますます微細化していくことに従い、優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物が求められるようになってきた。
【解決手段】以下の（Ａ）及び式（Ｉ）で表される塩を含有するレジスト組成物。
（Ａ）酸不安定基を含む第１の構造単位と、ラクトン環を含む第２の構造単位とを有する樹脂；


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、ｎが０の場合、Ｌ^１は単結合ではない。Ｒ^１は、保護基により保護されたヒドロキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】耐熱性が高く、かつ透明性、耐湿熱性、成型加工性にも優れたメタクリル系樹脂を含む計器カバーを提供する。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位（Ａ）：７０〜９５質量％及びマレイミド系単量体単位（Ｂ）：５〜３０質量％を含有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量が６万〜３０万であるメタクリル系樹脂を含む計器カバーを提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、導電性インクとインク受容層との密着性、及び、前記インク受容層と前記した様々な種類の支持体との密着性に優れたインク受容層を形成でき、導電性インクのにじみを引き起こすことなく、細線性を備えたインク受容層を形成可能な導電性インク受容層形成用樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、導電性インクの受容層を形成する樹脂組成物であって、前記樹脂組成物が、メタクリル酸メチル（ａ１）を３０質量％〜７０質量％、ならびに、カルボキシル基含有ビニル単量体（ａ２）及びアミド基含有ビニル単量体（ａ３）からなる群より選ばれる１種以上を合計０．２質量％〜５．０質量％含むビニル単量体混合物を重合して得られる１０℃〜７０℃のガラス転移温度を有するビニル重合体（Ａ）と、水性媒体（Ｂ）とを含有するものであることを特徴とする導電性インク受容層形成用樹脂組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は、ヒドロキシ基又はアルキル基；Ａ¹は、単結合等；ｌは０〜３の整数；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は２価の飽和炭化水素基；Ｙは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１−５、Ｌ^１−ＣＨ_２−、Ｙは特定の基。］ （もっと読む）

【課題】形成されるパターン上において異物の発生が少ない着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、樹脂、光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、着色剤が、キサンテン染料を含む着色剤であり、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種に由来する構造単位と、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドに由来する構造単位とを有する共重合体である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 離型性に優れ、さらには、低ソリ性、低反射率、優れた耐傷性を有する硬化性樹脂組成物、その硬化物、このような硬化性樹脂組成物の硬化物を有してなる微細凹凸構造物品、および反射防止板を提供する。
【解決手段】
下記式（１）：
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子またはメチル基、ｍは正の整数である）で示される繰り返し単位を有するビニル系重合体を含有するナノインプリント用硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）