【課題】本発明の課題は、スチレン系共重合体とノルボルネン系重合体からなる組成物であって、優れた相溶性を有して相分離せず、かつフィルム化が容易な樹脂組成物を提供することにある。また、この樹脂組成物を主成分とし、優れた透明性を有する光学フィルム、優れた透明性と逆波長分散性とを示す延伸フィルム、およびその用途を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、（Ａ）下記式（１）で表される構造単位（１）、下記式（２）で表される構造単位（２）および下記式（３）で表される構造単位（３）を有するスチレン系共重合体と、（Ｂ）ノルボルネン系重合体とを含有することを特徴としている。
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【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、ＰＥＢ温度依存性が小さく、パターン倒れも少なく、良好なプロファイルを示し、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）疎水樹脂（Ｃ）が重合開始剤とチオール化合物誘導体とを使用して重合することにより得られる疎水性樹脂、および、（Ｄ）溶剤、を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、露光ラチチュード、パターン倒れが良好である、ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上あるいは低下するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤として一般式（１）の（ａ）、（ｂ）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物とを含むレジスト材料。


【効果】レジスト材料を用いて形成したレジスト膜は、水に対する良好なバリアー性能を有するため、レジスト膜の水への溶出を抑制でき、このため溶出物によるパターン形状変化を低減できる。 （もっと読む）

【課題】重合工程等における安定性に優れ、金属含有量の少ないゴム状重合体を高収率で製造することが可能なゴム状重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】ＨＬＢ１３．５〜１７．０、１．０質量％水溶液の曇点７０℃以上の一般式（１）で表される界面活性剤を乳化剤として用いて乳化重合を行い、得られた共重合体ラテックスを、電解質の存在下、加熱するゴム状重合体の製造方法。尚、一般式（１）において、Ｒは、炭素数が８〜１２の脂肪族炭化水素基を表し、ｎは、５〜２０のエチレンオキサイド平均縮合数を表す。
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【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、現像欠陥が少なく、対膜減り性能を持ち、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子のを有さない分子量分散度が１．３以下、かつ重量平均分子量が１.０×１０^４以下である樹脂、および（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

硬化部位を備えた少なくとも１種のフルオロポリマーを有するヨウ素含有非晶質フルオロポリマー（フルオロポリマーはＡＳＴＭ Ｄ１６４６に従って１００℃で２以下（ＭＬ １＋１０）のムーニー粘度、及び１０ｄＮ／ｃｍ以下のロールミルに対する剥離強度を有する）、並びにかかるヨウ素含有非晶質フルオロポリマーの製造方法が記載されている。かかるヨウ素含有非晶質フルオロポリマーの硬化生成物に由来する物品もまた記載されている。かかるヨウ素含有非晶質フルオロポリマーに由来する溶液、分散体及びコーティング材もまた記載されている。 （もっと読む）

本発明は、特定の色素ポリマー複合体を含んでなるホームケアまたはファブリックケア組成物に関する。さらに、前記色素ポリマー複合体を用いてホームケアまたはファブリックケア組成物を着色するための方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】次世代の微細加工用のホトレジスト組成物に用いることのできる高い透明性を有する高分子化合物を提供する。
【解決手段】耐エッチング性を確保するために側鎖部分に脂環式基を持たせるとともに、この脂環式基の環上の水素原子を高度にフッ素化することによって、波長１５７ｎｍの光に対して吸収係数３．０μｍ^−１以下の透明性を確保する。脂環式基として、好ましくは多環式とし、フッ素による高度な置換は、望ましくは環上の水素原子のすべての置換、すなわちパーフルオロ脂環式基とする。この高分子化合物をベースポリマーとしてレジスト組成物を構成し、さらには該高分子化合物から溶解制御剤を構成する。 （もっと読む）

【課題】含フッ素ポリマーの乳化重合における乳化剤として好適に使用することができる含窒素カルボン酸誘導体、及び、その製造方法を提供し、また、上記含窒素カルボン酸誘導体からなる界面活性剤、水性分散体、及び、含フッ素ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】
下記一般式（Ｉ）
Ｒｆ^１ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＮＨ（ＣＨ_２）ｎＣＯＯＭ （Ｉ）
（式中Ｍは、Ｈ、ＮＨ_４、Ｌｉ、Ｎａ又はＫを示し、Ｒｆ^１は、炭素数が３〜６のフルオロアルキル基を示し、ｎは、１または２を示す。）で表される含窒素カルボン酸誘導体。 （もっと読む）

【課題】通常の攪拌槽等の比較的安価な設備で製造可能であり、乾燥負荷が低く、取り扱い性に優れた多段重合体の製造方法を提供することである。
【解決手段】乳化重合法で多段重合体を含むラテックスを調製し、このラテックスを塩析して前記多段重合体の凝集物を含む塩析スラリーを得、ついでこの塩析スラリーを脱水乾燥して多段重合体を得る方法であって、前記塩析スラリーは、所定温度に加温した塩析剤水溶液中に攪拌条件下で固形分濃度４０重量％以上の前記ラテックスを連続的に添加して得たものであり、この塩析スラリーを、該塩析スラリーの固形分濃度が２０重量％以上となる状態を経た後、脱水乾燥するようにした。 （もっと読む）

フルオロポリマー類の調製によって生じる水相からフッ素化合物類を除去する方法であって、ポリカチオン性ポリマー類の使用を含む、前記方法。 （もっと読む）

本発明は、優れた加硫速度に寄与し、結果として加硫製品に有利な性質を与える特定のイオン指数を特徴とする、特殊なニトリルゴムを重合および再加工させる改良された方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、特定のカルシウムおよび塩化物含量を特徴とし、特に良好な貯蔵安定性を有する、特定のニトリルゴムの重合および再加工の改良された方法に関する。 （もっと読む）

フルオロエラストマーの製造のための方法において、ポリエチレンイミンまたはそのコポリマーの水溶液である水溶性ポリマー凝固剤が用いられる。 （もっと読む）

本発明は、優れた加硫速度に寄与し、結果として加硫製品に有利な性質を与える特定のイオン指数および特定のマグネシウム含量を特徴とする、特殊なニトリルゴムを重合および再加工させる改良された方法に関する。 （もっと読む）

【解決手段】フォトレジスト材料を基板上に塗布する工程と、加熱処理後、炭素数４〜１０の高級アルコールを含む溶液でフォトレジスト膜表面を濡らした後に、保護膜を塗布し、加熱処理後、高エネルギー線で露光する工程と、現像液を用いて現像する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、フォトレジスト膜は、保護膜を適用する液浸リソグラフィープロセスにおいて、保護膜を塗布する前にレジスト膜表面を炭素数４〜１０の高級アルコールで濡らしておいてから保護膜を塗布することによって、レジスト添加物の保護膜層への移動を防ぐことによってパターン形状の変化を最小限に抑えることができる。また、アルコール処理によってレジスト膜表面を親水性化することによってブロッブ欠陥の発生を防ぎ、保護膜を塗布するときのディスペンス量を削減することができる。 （もっと読む）

【課題】 溶液重合によって得られる重合体を含有する溶液から樹脂粉粒体を得るにあたって、設備コストおよび用役コストを低減しながら樹脂粉粒体を工業的に生産する方法を提供する。
【解決手段】 界面活性剤、及び水を加え、液−液撹拌により分散させながら、加熱により溶媒を除去する工程（１）により樹脂粉粒体を得るにあたって、撹拌開始から溶媒除去温度到達までの単位体積あたりの撹拌所要動力を０．５ｋＷ／ｍ^３以上、２．５ｋＷ／ｍ^３以下とする、かつ溶媒除去温度到達後の単位体積あたりの撹拌所要動力を２．０ｋＷ／ｍ^３以上とすることによって達成される。 （もっと読む）

本発明は、光反応性官能基を含むノルボルネンモノマーを含み、前記光反応性官能基を含むノルボルネンモノマーのうちのエキソ異性体を少なくとも５０モル％以上含有するノルボルネン重合体およびその製造方法に関するものである。本発明に係るノルボルネン重合体は、光反応性官能基を含むノルボルネンモノマーのうちのエキソ異性体を少なくとも５０モル％以上含有しており、重合体の製造時に収率の損失がなく分子量を顕著に改善させることができ、３次元構造から見る時に分子間の光反応基が近くに配列している平面構造を有するものが安定であり、よって、光反応基間の距離が近接して光反応速度が速くなる長所を持つ。
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【課題】 耐寒性を損なわずに、長期熱老化後の伸び変化率の小さいアクリルゴム架橋物を与えるアクリルゴム及びアクリルゴム組成物を提供すること。
【解決手段】 メタクリル酸アルキルエステル単位（Ａ）２〜８重量％、アクリル酸アルキルエステル単位（Ｂ）及び／又はアクリル酸アルコキシアルキルエステル単位（Ｃ）８７〜９７．５重量％、並びに、カルボキシ基含有α、β−エチレン性不飽和単量体単位（Ｄ）０．５〜５重量％からなるアクリルゴムが提供される。また、前記アクリルゴムに架橋剤を含有してなるアクリルゴム組成物、およびそれを架橋してなるアクリルゴム架橋物が提供される。 （もっと読む）