【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージンが良好であり、欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基；Ａ^１はアルカンジイル基；Ｒ^２はフッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^３は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；環Ｘ^１は、複素環を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が環構造を有する酸不安定基で置換されている（メタ）アクリレートの繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物と、ジヒドロキシナフタレンのノボラック樹脂と、光酸発生剤とを含有するポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、高反射の段差基板上での解像性と埋め込み特性と密着性に優れ、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】高速でパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、欠陥が少なく、基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性単量体（Ａ）を少なくとも１種と、光重合開始剤（Ｂ）とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記重合性単量体（Ａ）が、水素結合性官能基と含フッ素基を有する重合性単量体（Ａｘ）を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ＩＡ）で表されるアニオンを有するヨードニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［式（ＩＡ）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数７〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数７〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合してＮとともに炭素数４〜２０の環を形成してもよい。］
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【課題】本発明の目的は、基材や下地などとの密着性が良好であり、膜硬度、耐熱性および耐酸性が高く、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物と、それを用いたタッチパネル用絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、多官能単量体（Ｃ）と、を含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が一般式（１）で表される化合物（ａ１）と、化合物（ａ１）と共重合可能な他の化合物（ａ２）とを共重合してなる樹脂（Ａ１）を含み、多官能単量体（Ｃ）が、１分子中に７個以上のエチレン性不飽和結合を有することを特徴とする感光性樹脂組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントに使用可能であり、且つレジスト現像性、エッチング耐性に優れる、ナノインプリント用硬化性組成物、及びこれを使用したレジスト膜を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用硬化性組成物は、シラノール基及び／又は加水分解性シリル基、並びに重合性二重結合を有するポリシロキサンセグメントと、該ポリシロキサン以外の重合体セグメントとを有する複合樹脂を含有する。


（式中、炭素原子は前記ビニル系重合体セグメントの一部分を構成し、酸素原子のみに結合したケイ素原子は、前記ポリシロキサンセグメントの一部分を構成するものとする） （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び環状ケトン溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい；Ａ^aa1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルカンジイル基又は式（ａ−１）で表される基を表す。］ （もっと読む）

【課題】ＭＥＥＦ、ＬＷＲ、ＣＤＵ及び耐パターン倒れ性を十分に満足するレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）及び酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、［Ｂ］下記式（２）で表される光崩壊性を有する塩、並びに［Ｃ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。
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【課題】照明光反射が残る基板にも、良好なコンタクトホールパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｒ１−ａ）又は（Ｒ１−ｂ）の繰り返し単位（ａ）、下記一般式（Ｒ２）の繰り返し単位（ｂ）、下記一般式（Ｒ３）の繰り返し単位（ｃ）、（ｃ）と異なり且つ酸分解性基を備えた繰り返し単位（ｄ）による樹脂（Ａ）、活性光線又は放射線照射で酸を発生する化合物（Ｂ）、特定の化合物（Ｃ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】ネガティブトーン（ｎｅｇａｔｉｖｅ ｔｏｎｅ）現像プロセスを用いて微細パターンの形成に有用なフォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の単位を含む第１のポリマー；


下記一般式（ＩＶ）および（Ｖ）の単位を含む第２のポリマー；


並びに光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂、レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す；Ｌ^１は、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^１−^＊、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^３−^＊、−Ｂ^１−^＊又は−Ｂ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^４−^＊を表す；Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルカンジイル基、炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基、炭素数１〜８のアルカンジイル基と炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基とが組み合わさった基又はフェニレン基を表す；Ｂ^１及びＢ^２は、フェニレン基を表す；＊は−Ｏ−との結合手を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、ネガ型パターンを形成する工程を含む、ネガ型パターン形成方法。
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【課題】ラインエッジラフネスおよび感度の両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される酸分解性の繰り返し単位を含有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。Ｒ_２はアルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ_３は１価の置換基を表す。Ｗはアルキレン基又はシクロアルキレン基を表す。Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘを含む環はエーテル結合又はチオエーテル結合を含む環構造を表す。ｌ及びｎは各々独立に０以上の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数のＲ_３は各々独立であり、また、互いに結合して環を形成してもよい。）
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【課題】耐熱性及び耐溶剤性に優れ、かつコントラスト及び耐光性が低下しないカラーフィルタを形成し得る着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）重合性化合物および（Ｃ）バインダー樹脂を含有する着色硬化性組成物であって、（Ａ）着色剤が式フタロシアニン系色素とピリドンアゾ系染料とを含有する着色剤であり、（Ｃ）バインダー樹脂が、側鎖に二重結合を有する（メタ）アクリル樹脂であり、（メタ）アクリル酸から導かれる構成単位の含有量が、（Ｃ）バインダー樹脂を構成する全構成単位中、１０モル％以上４０モル％以下であることを特徴とする着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトスピード、限界寸法（ｃｒｉｔｉｃａｌ ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ；ＣＤ）均一性、ネガティブトーン現像剤（ＮＴＤ）中での溶解速度、及び、パターン忠実度に優れた、フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の層を含むコーティングされた基体及びフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）：


の単位を含む第１のポリマー；（Ｂ）（メタ）アクリル酸Ｃ３〜Ｃ７アルキルホモポリマーもしくはコポリマーである第２のポリマー；並びに（Ｂ）光酸発生剤；を含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト層の未露光領域が現像剤によって除去されて、フォトリソグラフィパターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物及び該レジスト組成物に含有される樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ａ^１は、単結合、^＊−Ａ^２−Ｏ−、^＊−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−、^＊−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^３−ＣＯ−Ｏ−又は^＊−Ａ^２−Ｏ−ＣＯ−Ａ^３−Ｏ−を表す。＊は−Ｏ−との結合手を表す。Ａ^２及びＡ^３は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキレン基を表す。］、当該樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
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【解決手段】環状構造を含む３級エステル型酸不安定基及び／又はアセタール型酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、酸によってアルカリ現像液に可溶になる高分子化合物と、酸発生剤及び／又は酸と、アミノ基を有する化合物を発生させる光塩基発生剤と、必要により添加され、酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶剤とを含むレジスト材料を基板上に塗布、露光、ベーク、アルカリ水現像によってネガパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。
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