【課題】直接描画法で露光した場合に、高感度、優れたテント信頼性及び良好な剥離性を有する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有し、前記（Ｃ）光重合開始剤が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含む。上記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数３〜２０のシクロアルキル基を含む有機基を示し、Ｒ^２及びＲ^３は、各々独立にアルキル基又はアリール基を示し、Ｒ^４は、アルキル基を示す。
【化１】
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【課題】 本発明のナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜の剥がれが生じ難い形状転写層を形成することができるという効果を奏するものである。
【解決手段】 （Ａ）重合性化合物と、（Ｂ）２５℃、１ａｔｍの条件下においてＡＳＴＭ−Ｄ３５３９に準拠して測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき１〜１５の範囲内にある有機溶媒とを含有し、（Ａ）成分１００重量部に対して（Ｂ）成分を０．０１〜１０重量部含有する、ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）樹脂と、（Ｂ）酸発生剤と、（Ｘ）それぞれ式（Ｉ−ａ）及び式（Ｉ−ｂ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物とを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターンの製造方法の提供。


［式中、
Ｚ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
Ｒ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
ｎは０又は１を表す。］ （もっと読む）

【課題】基板との密着性（ハガレ耐性）に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位（ａ）を有する重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物である。具体的には、複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位が下記式（ａ１）である液浸上層膜形成用組成物である。
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【課題】微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］γ−ブチロラクトン環を含む構造単位を有するアダマンチル基及びアダマンタン環を含む酸解離性基含有重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物であって、上記構造単位の含有割合が６０モル％を超えることを特徴とするフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法を用いて光硬化組成物の適用を行っても超微細パターンが良好に形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】重合性化合物および重合開始剤を含有する光硬化性組成物を基材上または微細パターンを有するモールド上に適用し、該光硬化性組成物をモールドまたは基材で挟んだ状態で光照射することを含むパターン形成方法であって、光硬化性組成物の２５℃における粘度が１２〜１００ｍＰａ・ｓであり、光硬化性組成物は、液滴を吐出により、基材上または微細パターンを有するモールド上に適用し、前記光硬化性組成物の吐出時の温度が２８℃以上である、パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、それを用いた感光性フィルム、パターン形成方法、中空構造の形成方法、及び電子部品を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有し、（Ｂ）光重合開始剤として、オキシムエステル系化合物及び／又はアシルホスフィンオキサイド系化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、基材や下地などとの密着性が良好であり、表面硬度、耐熱性および耐酸性が高く、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物と、それを用いたタッチパネル用絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、多官能単量体（Ｃ）と、を含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が一般式（１）で表される化合物（ａ１）と、化合物（ａ１）と共重合可能な他の化合物（ａ２）とを共重合してなる樹脂（Ａ１）を含み、多官能単量体（Ｃ）が、１分子中に７個以上のエチレン性不飽和二重結合を有することを特徴とする感光性樹脂組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、レジストパターンを形成した際に生じるＢｌｏｂ欠陥を抑制することができ、かつ保存安定性に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供することである。
【手段】 重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物であって、 重合体成分（Ａ）が有する全繰り返し単位のうちの少なくとも一部として、カルボキシル基を有する繰り返し単位（ｃ）と、スルホ基を有する繰り返し単位（ｓ）とを有し、 溶剤（Ｂ）として、炭素数が２以上８以下のエーテル系溶剤（Ｂ１）を含む、液浸上層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される酸によって分解しカルボキシル基を生じる繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ２）と、アミノ基、アミド基、イミド基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、イミノ基、ウレタン結合及びウレイド結合よりなる群から選ばれた構造を有するモノマー単位（ａ３）と、を有する重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含むことを特徴とする
ポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高収率でレジスト組成物用樹脂を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】溶剤（１）及び溶剤（２）の混合溶剤中で、モノマーを重合させることを特徴とするレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。
溶剤（１）：溶解度パラメーターが１１．４〜１３．０[ｃａｌ／ｍｏｌ]^１／２の範囲内である溶剤；
溶剤（２）：テトラヒドロフラン。
当該製造方法は、重合開始剤の作用によりモノマーを重合することが好ましく、モノマー、重合開始剤及び溶剤（２）を含む混合液を、溶剤（１）中に滴下して、モノマーを重合させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有し、かつ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、酸発生剤、式（ＩＩ）で表される化合物及び溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−；ｍ１〜ｍ５は、それぞれ独立に、１〜６の整数；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｗ^１は飽和複素環を表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明は、カラーフィルタを製造する際に生ずる、ブラックマトリクスや先に形成された画素上の重なり部分の角段差が小さい着色組成物を提供することを課題とする。また、本発明は、所望の色目が得られ、また輝線などを生じにくい画素を含むカラーフィルタ、及び高品質の液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）バインダー樹脂及び（Ｄ）溶剤を含有する着色樹脂組成物において、
分子量６０００以下の化合物を、全固形分中５７重量％以上含有することを特徴とする、着色樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高収率で、分子量分布が狭い樹脂を製造することができるレジスト組成物用樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】溶解度パラメーターが１１．８〜１３．０[ｃａｌ／ｍｏｌ]^１／２の範囲内である溶剤（１）中に、アセチル基含有溶剤である溶剤（２）［ただし溶剤（１）とは異なる。］、モノマー及び重合開始剤を添加する工程、好ましくは、溶剤（２）、モノマー及び重合開始剤を混合してなる混合物を滴下する工程を有するレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）または下記一般式（ａ０−２）で表される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ０−１）または（ｂ０−２）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】感度等基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲに優れる感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及びトリフェニルスルホニウム塩系の感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクスを提供することにある。
【解決手段】非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物（Ａ）、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）、及び、酸の作用により前記高分子化合物（Ａ）を架橋する架橋剤（Ｃ）を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程（１）、該膜を露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程（４）をこの順番で有する、レジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時には大きい動的接触角により、レジスト膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制される液浸露光用感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］フッ素原子及びアルカリ解離性基を有し、主鎖に脂環式基を有する重合体、及び［Ｃ］酸発生体を含有する液浸露光用感放射線性樹脂組成物。［Ａ］は、下記式（１）の構造単位（Ｉ）を含むことが好ましい。
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