【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−；ｍ１〜ｍ５はそれぞれ１〜６の整数；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｒ^５は環状エーテル構造を含む基；Ｚ１^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】従来から知られる酸発生剤を含有するレジスト組成物では、得られるレジストパターンのマスクエラーファクター（ＭＥＦ）が必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該飽和炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン倒れが少ないレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１はスルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好で、レジストパターンを形成した場合に欠陥の発生数を低減することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−等ｍ１〜ｍ３はそれぞれ１〜６の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】アントラセン特有の特性と共に、高い重合性を兼ね備えたアントラセン誘導体、及びこのアントラセン誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）にて表されるアントラセン誘導体。


（式（１）中、Ｘは、（ｎ_１＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。Ｙは、（ｎ_２＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。ｎ_１及びｎ_２は、それぞれ独立して、１〜３の整数。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基。Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、−Ｏ−（Ｒ−Ｏ）_ｍ−で表される基。Ｒは、ヒドロキシル基を有していてもよい２価の炭化水素基。ｍが２以上の場合、複数のＲは同一でも異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】パターン倒れが少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、環Ｔ^１は置換基を有していてもよいスルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有し、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−を表す。ｍ１〜ｍ５は、それぞれ独立に、１〜６の整数を表す。Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、スルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】
塗布後及び現像後の樹脂膜の濁りを充分に抑制することが可能であり、かつ低温での硬化が可能で、アルカリ水溶液で現像可能であるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、かかる方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び該半導体装置を備える電子デバイスを提供すること。
【解決手段】
（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）光により酸を生成する化合物と、（Ｃ）熱架橋剤と、（Ｄ）所定の構造単位を有するアクリル樹脂と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】直接描画法で露光した場合に、高感度、優れたテント信頼性及び良好な剥離性を有する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有し、前記（Ｃ）光重合開始剤が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含む。上記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数３〜２０のシクロアルキル基を含む有機基を示し、Ｒ^２及びＲ^３は、各々独立にアルキル基又はアリール基を示し、Ｒ^４は、アルキル基を示す。
【化１】
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【課題】高解像性及び高密着性でかつエッチング耐性に優れるネガ型の感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性高分子２０〜９０質量％、（Ｂ）エチレン性不飽和付加重合性モノマー５〜７５質量％、及び（Ｃ）光重合開始剤０．０１〜３０質量％を含有する感光性樹脂組成物であって、該（Ａ）アルカリ可溶性高分子が、下記一般式（Ｉ）：


［式中、Ｒ₁は水素原子又はメチル基を表し、そしてＲ₂は炭素数が６〜２０のアルキル基を表す。］で表される単量体単位構造を含み、該（Ｂ）エチレン性不飽和付加重合性モノマーが、分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和基及び少なくとも１つのイソシアヌル環構造を有するイソシアヌル環含有不飽和化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】反射率が高く、しかも経時的に安定な反射率を有する白色反射膜を提供すると共に、そのような白色反射膜を有するＬＥＤ光源を提供すること。
【解決手段】配線パターンが形成された基板上に、アルカリ可溶感光性樹脂及び白色顔料を含有する白色反射膜形成材料から成る白色反射膜とＬＥＤチップ又はＬＥＤパッケージとを有するＬＥＤ光源に用いられるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法であって、カルボキシル基（ａ）を有する（メタ）アクリル系重合体（Ａ）と、グリシジル基（ｂ）及び（メタ）アクリル基を有する化合物（Ｂ）とを、四級ホスホニウム塩（Ｃ）の存在下にエステル化反応させる側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル系重合体（Ｄ）からなるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１１）〜（ａ０−１３）のいずれかの構成単位（ａ０−１）、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）及びアクリル酸エステルから誘導され、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する［式中、ＲはＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、Ｘ^１は単結合又は２価の連結基であり、Ｗ^１、Ｗ^２、Ｗ^３は環状の飽和炭化水素基である。ただしＷ^２はＯＨ基を有する。Ｒ^１はＯＨ基含有飽和炭化水素基であり、ｐは１〜３であり、Ｘ^２、Ｘ^３は２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^３はＨ、アルキル基、ＯＨ基又はＯＨ基を有するアルキル基である。］
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【課題】優れたラインウィドゥスラフネス（ＬＷＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物用の樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】以下の工程（１）〜工程（４）を含むレジスト組成物用低分散樹脂の製造方法。工程（１）：高分散樹脂と第１のケトン溶剤とを混合して、高分散樹脂及び第１のケトン溶剤からなる溶液を得る工程、工程（２）：工程（１）で得られた溶液と脂肪族エーテル溶剤とを混合後、不溶分を除去して濃縮して濃縮物を得る工程、工程（３）：工程（２）で得られた濃縮物を第２のケトン溶剤に溶解させる工程、工程（４）：工程（３）で得られた溶液と脂肪族炭化水素溶剤とを混合後、高分散樹脂よりも分散度が小さい低分散樹脂からなる不溶分を得る工程 （もっと読む）

【課題】感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。また、下記Ｘが、炭素数２〜４のアルカンジイル基であり、下記Ｚが、Ｘに結合する炭素原子と共に炭素数５〜８の２価の単環の脂環式基を形成する基であるとよい。
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【課題】高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する構成を有する（メタ）アクリル酸エステル単位と、−ＳＯ_２−含有環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル単位及び、一般式（ａ５−１）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位とを有する高分子化合物（Ａ１）、及び露光により酸を発生する成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー特性に優れたネガ型現像用レジスト組成物、及び該ネガ型現像用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、ｌｏｇＰ値が２．７以下であり、且つ、ｐＫａが−３．５以上である酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィドゥスラフネスを得ることができるレジスト組成物用の樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される構造単位を有する樹脂の製造方法であって、式（ＩＩＩ）で表されるモノマー及び式（ＩＶ）で表されるモノマーを重合させる第１工程と、第１工程で得られた生成物を加水分解して、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^７を−ＯＨにする第２工程と、を有する樹脂の製造方法。［Ｒ^１及びＲ^５はアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ^２〜Ｒ^４はアルキル基又は脂環式炭化水素基を表すか、Ｒ^２及びＲ^３は結合して２価の炭化水素基を形成する。Ｘ^１及びＸ^２は単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ^７及びＲ^８はアルキル基を表すか結合して２価の炭化水素基を形成する。］
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【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物によるパターン形成方法、及び該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液溶解性が変化する基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１）で表される構成単位と、アクリル酸エステルから誘導される構成単位と、酸分解性基を含む構成単位とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有する。［化１］
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