【課題】工程数が少ない製造方法でシリカ化合物を粒子の外郭に偏在させ、屈折率非連続的な変化のない微粒子を得ること、高い防眩性、防反射性、防ニュートンリング性等の光学特性を付与する際に、ベース樹脂との密着性に優れ、防眩性や視認性などの光学特性および鉛筆硬度や擦傷性などの機械特性に優れたハードコート剤およびハードコートフィルムを得ることである。
【解決手段】ウレタン結合を介して重合性不飽和基を有するシリカ化合物と重合性不飽和基含有単量体を懸濁重合により製造した微粒子をラジカル重合性熱硬化樹脂を含有すハードコート剤とし、これにより、フィルムを得ることである。 （もっと読む）

【課題】反射率が低く、耐傷性・防汚性に優れた反射防止フィルム、更に、該フィルムを用いた偏光版や画像表示装置を提供する。
【解決手段】透明支持体上に、含フッ素ポリマーの硬化皮膜からなる低屈折率層を最外層に有し、該フッ素ポリマーが、主鎖にポリシロキサン構造を含み、かつ、含フッ素ビニルモノマーからなる繰返し単位と、（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位と、水酸基を有する繰り返し単位と、を含んでなる共重合体であり、該 (メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位の共重合体における含有量がポリシロキサン部位以外の全繰返し単位の３０〜７０mol％、該水酸基を有する繰り返し単位の共重合体における含有量が、ポリシロキサン部位以外の全繰り返し単位の５〜４０mol％であり、かつ、該低屈折率層中に、平均粒径が該層厚の３０〜１００％の無機微粒子を含有する反射防止フィルム、及びそれを用いた偏光板並びに画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】低反射性でありながら、耐擦傷性、防汚性に優れた低屈折率層を形成できる塗布組成物を提供すること。また、該低屈折率層形成用塗布組成物を用い、外光の映り込みを防止し、耐擦傷性および防汚性が改善された反射防止フィルムを提供すること。更には該反射防止フィルムを用いた偏光板および液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】主鎖中にポリシロキサンセグメントを有し、フッ素含量が３０質量％以上であり、複数のエチレン性不飽和基を含有するフッ素含有オレフィン系重合体と、平均粒径が５〜２００ｎｍであり、且つ屈折率が１．１７〜１．４０である中空シリカ微粒子とを含有することを特徴とする低屈折率層形成塗布組成物。 （もっと読む）

【課題】 低屈折率層と高屈折率層を効率的に製造できる紫外線によって硬化しうる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 下記成分： （Ａ１）重合性不飽和基を有する有機化合物（Ａｂ）を結合させてなる数平均粒子径１ｎｍ以上４０ｎｍ未満の金属酸化物粒子、 （Ａ２）数平均粒子径４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子、及び （Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体 （Ｃ）速揮発溶剤 （Ｄ）速揮発溶剤と相溶性である遅揮発溶剤を含み、かつ、（Ｃ）速揮発溶剤の相対蒸発速度が、（Ｄ）遅揮発溶剤の相対蒸発速度よりも大きいことを特徴とする硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜の低屈折率層の特性を悪化させることなく、高速で均一な面状の低屈折率層を形成可能な塗布組成物の提供および該塗布組成物を用いた光学機能層、反射防止フィルム。
【解決手段】熱又は活性性エネルギー線放射により重合可能でかつ、ポリスチレン換算により重量平均分子量が１０万以上の化合物を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成、塗布組成物、および該塗布組成物から形成した光学機能層、反射防止フィルム。 （もっと読む）

【課題】粘度が低く塗布作業性が良好であり、かつ、透明性、密着性、耐湿性や耐熱性などの耐環境性に優れた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物からなる光学記録媒体用コーティング剤を提供する。
【解決手段】数平均分子量が３００〜２０００のポリオキシプロピレングリコール（ａ１）、及び／又は、特定の繰り返し単位を有する数平均分子量が３００〜２０００の脂肪族コポリカーボネートジオール（ａ２）と、カルボキシル基含有ポリオール（ａ３）とを含むポリオール成分（Ａ）、ポリイソシアネート成分（Ｂ）及び水酸基含有（メタ）アクリレート成分（Ｃ）を反応させてなるウレタン（メタ）アクリレート系化合物［Ｉ］と、エチレン性不飽和化合物［II］と、シリカ粒子［III］とを含有してなる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物からなる光学記録媒体用コーティング剤。 （もっと読む）

【課題】 優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度であるとともにカール性が小さく屈曲性に優れた塗膜（被膜）を形成し得る硬化性組成物、その硬化物からなる硬化膜を提供する。
【解決手段】 有機溶剤を除く組成物全量を１００質量％として、（Ａ）重合性不飽和基を有する有機化合物を結合させてなる金属酸化物粒子 ３０〜８０質量％、及び（Ｂ）分子中に芳香環構造を有し、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有するウレタン（メタ）アクリレート ５〜５０質量％を含有する硬化性組成物；これを硬化してなる硬化層及び積層体。 （もっと読む）

【課題】 優れた硬化性を有するとともに、各種基材の表面に、硬度、耐擦傷性、低カール性、密着性及び透明性、特に硬度及び低カール性に優れた被膜を形成し得る放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化膜を提供する。
【解決手段】 （Ａ）ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子と、重合性不飽和基及び下記式（１）に示す基を含む有機化合物とを結合させてなる粒子、


［式（１）中、Ｕは、ＮＨ、Ｏ（酸素原子）又はＳ（イオウ原子）を示し、Ｖは、Ｏ又はＳを示す。］（Ｂ）２以上の重合性不飽和基を含む化合物、（Ｃ）フッ素原子を有する界面活性剤、及び（Ｄ）メタノール、メチルイソブチルケトン及びｎ−ブタノールからなる群から選択される有機溶剤を含有することを特徴とする放射線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度であるとともにカール性が小さく屈曲性に優れた塗膜（被膜）を形成し得る硬化性組成物、その硬化物からなる硬化膜を提供する。
【解決手段】 溶剤を除く組成物全量に対して、下記成分（Ａ）重合性不飽和基を有する有機化合物を結合させてなる金属酸化物粒子５〜７０質量％、及び（Ｂ）下記式（１）
【化１１】


［式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、一価の有機基であって、Ｒ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも２つが、−Ｒ^４ＯＣＯＣＲ^５＝ＣＨ_２であり、Ｒ^４は、炭素数２〜８の２価の有機基であり、Ｒ^５は、水素原子又はメチル基である。］で示される化合物２０〜５０質量％を含有することを特徴とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像素子の平坦化層用の低屈折率硬化物を与え、かつスピンコート法による塗布性に優れた放射線硬化性樹脂組成物、及びこれを用いた、位置選択的に平坦化層が形成された、フレアの防止された固体撮像素子を提供する。
【解決手段】 エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体及び溶剤を含有することを特徴とする平坦化層用放射線硬化性樹脂組成物；それを硬化させてなる平坦化層；位置選択的に平坦化層を製造する方法及びその平坦化層を含む固体撮像素子。 （もっと読む）

【課題】 屈折率が低く、耐擦傷性に優れる硬化性樹脂組成物及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】 下記成分（Ａ）及び（Ｂ）：
（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、
（Ｂ）数平均粒径４０〜１００ｎｍのシリカを主成分とする粒子、
を含有する硬化性樹脂組成物。この硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物は、低屈折率層１８として反射防止膜１０に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 屈折率が低く、耐擦傷性に優れる硬化性樹脂組成物及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】 下記成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）：
（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、
（Ｂ）（メタ）アクリレート化合物、
（Ｃ）数平均粒径１〜３０ｎｍのシリカを主成分とする粒子、
（Ｄ）数平均粒径４０〜１００ｎｍのシリカを主成分とする粒子、
を含有する硬化性樹脂組成物。この硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物は、低屈折率層１８として反射防止膜１０に用いることができる。 （もっと読む）

本発明は、放射線硬化性コーティング組成物、これらの組成物を硬化させて得られるコーティング膜、このようなコーティング膜の製造方法、このようなコーティング膜を含む物品、及び反射防止コーティング系に関する。本発明の一つの局面は、ハードコート又はディスプレイシステムへのこのようなコーティング膜の適用に関する。 （もっと読む）

硬化すると、薄膜であっても低屈折率で、表面硬度、耐擦傷性、耐摩耗性、及び良好な硬化性を有する膜を与えるコーティング組成物が提供される。一実施形態として、フッ素化基を含まない反応性ナノ粒子、少なくとも１つのフッ素化基を有する反応性ナノ粒子、及びエチレン性不飽和フッ素化ウレタン成分を含む組成物が提供される。 （もっと読む）

本発明の対象は、バインダーＢＭ並びに粒子Ｐを含有する硬化性組成物Ｚであって、前記バインダーＢＭが少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ前記粒子Ｐが、この表面上の少なくとも１つのエチレン性不飽和基を提供可能であり、かつ一般式（Ｉ）
≡Ｓｉ−（ＣＲ^３_２）−Ａ−Ｄ−Ｃ
［前記式中、
Ｒ^３は、水素又は１〜１２つの炭素原子を有する炭化水素残基を表し、この炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基、又はＮＲ^４基により中断されていてよく、
Ｒ^４は、水素又は１〜１２つの炭素原子を有する炭化水素残基を表し、
Ａは、酸素、硫黄、＝ＮＲ^４又は＝Ｎ−（Ｄ−Ｃ）を表し、
Ｄは、それぞれ１〜１２つの炭素原子を有するカルボニル基、アルキレン残基、シクロアルキレン残基又はアリーレン残基を表し、その際この炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基、又はＮＲ^４基により中断されていてよく、かつ
Ｃは、末端の不飽和基を表す］の残基を有する、バインダーＢＭ並びに粒子Ｐを含有する硬化性組成物Ｚである。 （もっと読む）