【課題】バインダーの種類及び触媒の残存量を規定することにより、保存安定性に優れ、かつ、バインダー樹脂の着色を低減し感材の色味が悪くなること（色故障）を抑制し、高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び触媒を含み、前記バインダーが、所定の構造単位を有する高分子化合物を含み、かつ前記触媒が、トリフェニルホスフィン、鎖状アルキル３級アミン化合物、芳香族３級アミン化合物、アルキル尿素、及びカルボン酸金属塩から選択されるいずれかであり、前記触媒の残存量が、０．０８質量％以下である感光性組成物である。 （もっと読む）

【課題】耐熱クラック性に優れたレジスト膜を形成できる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたプリント配線板を提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性組成物は、芳香環を有するカルボキシル基含有樹脂と、酸化チタンと、環状エーテル骨格を有する化合物と、光重合開始剤とを含む。本発明に係るプリント配線板は、回路を表面に有するプリント配線板本体と、上記プリント配線板本体の上記回路が設けられた表面に積層されたレジスト膜３とを備える。レジスト膜３は、上記感光性組成物により形成されている。 （もっと読む）

【課題】接着性が大きく、水に接触させるのみで部材を剥離できる（メタ）アクリル系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）疎水性多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）親水性多官能（メタ）アクリレート、（Ｃ）単官能（メタ）アクリレート及び（Ｄ）重合開始剤を含有する(メタ)アクリル系樹脂組成物。（Ｂ）親水性多官能（メタ）アクリレートが下記化学式（１）で表されるエチレングリコールユニットを含有する(メタ)アクリル系樹脂組成物。
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【課題】充分な光の反射性能を有し、かつ耐熱クラック性及び加工性に優れた硬化物を得ることができる感光性組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性組成物は、重合性炭化水素単量体及び重合性炭化水素重合体の内の少なくとも一方の成分と、中空粒子と、光重合開始剤とを含む。中空粒子の空隙率は３０体積％以上９９体積％以下であり、かつ中空粒子の平均粒子径は０．１μｍ以上２０μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】透明性や膜厚安定性等の諸物性を充分に発揮でき、かつ長期安定的に反りや永久的な変形が抑制された硬化物を与えることができ、より信頼性の高い記録・再生を実現できる光ディスク用硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び、このような樹脂組成物を硬化させてなる層を有する光ディスクを提供する。
【解決手段】（ａ）分子中にラジカル重合性不飽和基を２以上有する、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物、及び、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、（ｂ）該（ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物と、（ｃ）光重合開始剤とを含有し、該硬化性樹脂組成物の錫含有量が５ｐｐｍ以下である光ディスク用硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】硬化塗膜表面に優れた防汚性を付与することができ、フッ素系界面活性剤、フッ素系表面改質剤として用いることができる含フッ素硬化性樹脂を提供し、さらには、防汚性等の表面性能の安定性を向上することのできる活性エネルギー線硬化型塗料組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端にラジカル重合性不飽和基を有する構造部位を有する化合物（Ａ）と、反応性官能基（ｂ）を有するラジカル重合性不飽和単量体（Ｂ）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ）に、前記単量体（Ｂ）が有する反応性官能基（ｂ）を利用して、前記単量体（Ｂ）１分子当たり２以上のラジカル重合性不飽和基を導入したラジカル重合性樹脂（Ｉ）であることを特徴とする含フッ素硬化性樹脂。 （もっと読む）

【課題】量産性に優れ、また硬度、耐熱性、耐薬品性、白化耐性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性等の特性を充分に満足する優れた硬化皮膜が得られる光及び／又は熱硬化性樹脂、それを含有する組成物及び硬化物を提供する。
【解決手段】本発明のカルボキシル基含有樹脂は、１分子中に２個以上のエポキシ基を有する樹脂（ａ）のエポキシ基に、エポキシ基１当量に対してモノカルボン酸（ｂ）を０．３モル以上の割合で仕込んだ内の一部を付加反応させて、反応生成物（ｃ）を得、次いで未反応のモノカルボン酸（ｂ）の存在下で、多塩基酸（ｄ）を仕込み、反応生成物（ｃ）のエポキシ基に、未反応のモノカルボン酸（ｂ）及び多塩基酸（ｄ）の混合物を付加反応させて、アルコール性水酸基を有する反応生成物（ｅ）を得、さらに反応生成物（ｅ）のアルコール性水酸基に、アルコール性水酸基１当量に対して多塩基酸無水物（ｆ）を０．０〜１．０モルの割合で付加反応させて得られる。 （もっと読む）

【課題】ハロゲンフリーであると共に、高感度ではんだ耐熱性、無電解金めっき耐性、耐湿性、耐電極腐食性に優れ、環境問題に配慮した光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにそれらによりソルダーレジスト等の硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】光硬化性樹脂組成物は、ポリエステルをポリオール成分で解重合し、それと同時もしくはその後に多塩基酸もしくはその無水物を反応させて得られるカルボン酸樹脂に、アルコールもしくはカルボン酸と反応するカルボキシル基以外の少なくとも１つの官能基と、１つ以上のエチレン性不飽和基とを有する化合物を反応させて得られる感光性化合物、及び光重合開始剤を含有する。好適な態様においては、上記組成物はさらに熱硬化性成分を含有する。 （もっと読む）

【課題】回路の外観不良などの隠蔽性に優れ、且つ高解像性のソルダーレジスト層を形成可能な着色力と解像性に優れる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ペリレン系着色剤、該ペリレン系着色剤と補色関係にある着色剤、カルボキシル基含有樹脂、分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、及び、光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性や膜厚安定性等の諸物性を充分に発揮でき、かつ長期安定的に反りや永久的な変形が抑制された硬化物を与えることができ、より信頼性の高い記録・再生を実現できる光ディスク用硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び、このような樹脂組成物を硬化させてなる層を有する光ディスクを提供する。
【解決手段】（ａ）分子中にラジカル重合性不飽和基を２以上有する、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物、及び、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、（ｂ）該（ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物と、（ｃ）光重合開始剤とを含有し、該硬化性樹脂組成物の錫含有量が５ｐｐｍ以下である光ディスク用硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】硬化塗膜表面に優れた防汚性を付与することができ、フッ素系界面活性剤、フッ素系表面改質剤として用いることができる含フッ素硬化性樹脂を提供し、さらには、防汚性等の表面性能の安定性を向上することのできる活性エネルギー線硬化型塗料組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端にメタクリロイルオキシ基とを有する化合物（Ａ）と、反応性官能基（ｂ）を有するラジカル重合性不飽和単量体（Ｂ）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ）に、前記官能基（ｂ）と反応性を有する官能基（ｃ）とラジカル重合性不飽和基とを有する化合物（Ｃ）を反応させて得られるラジカル重合性樹脂（Ｉ）であることを特徴とする含フッ素硬化性樹脂。 （もっと読む）

【課題】離型性、型再現性、基板との密着性及び耐光性に優れた、光学レンズに適した樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール類から選ばれる少なくとも一種の化合物（Ａ）、及び／又はヒドロキシフェニルトリアジン類から選ばれる少なくとも一種の化合物（Ｂ）、及び（メタ）アクリレートオリゴマー（Ｄ）を含み、プラスチック基材に塗布した状態での硬化物の透過率が、４１０ｎｍでは８５％以上、３８０ｎｍでは３０％以上、３６０ｎｍでは２０％以下、３５０ｎｍより短波長では１０％以下となるエネルギー線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体パッケージ用ソルダーレジストとして重要なＰＣＴ耐性、ＨＡＳＴ耐性、無電解金めっき耐性、冷熱衝撃耐性を有する硬化皮膜を形成できる感光性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにそれらによりソルダーレジスト等の硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、フェノール樹脂とアルキレンオキシド又はシクロカーボネート化合物とを反応させて得られる反応生成物に、１分子中に１つ以上のアクリルアミド基もしくはメタクリルアミド基を有するイソシアネート化合物を反応させ、得られた反応生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、及び光重合開始剤を含有する。好適な態様においては、上記組成物はさらに熱硬化性成分を含有する。 （もっと読む）

【課題】耐光性や耐熱性及び形状保持性にも優れた成形体を短時間で形成することができる樹脂組成物の提供。
【解決手段】該組成物は、脂肪族（メタ）アクリレート系オリゴマー（Ａ）と、（メタ）アクリレート系モノマー（Ｂ）及び／又はα−メチレンラクトン構造を有するモノマー（Ｃ）とを含み、モノマー（Ｃ）は、下記一般式（１）；[化１]


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一若しくは異なって、水素原子、炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ^５基、又は、−Ｃ−Ｏ−Ｒ^６基を表す。Ａｃ基はアセチル基を表す。）で表されるモノマーである成形用アクリル樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】長期の再充填可能な水和性を有するコンタクトレンズを提供する。
【解決手段】コンタクトレンズは、重合可能な組成物の反応生成物であるレンズ本体を含む。1,2-ジオール部分または1,3-ジオール部分を有する第1の多価アルコールは、レンズ本体のレンズ表面上に存在する。コンタクトレンズを含むコンタクトレンズパッケージ、ならびにコンタクトレンズの製造および使用方法も提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体パッケージ用ソルダーレジストとして重要なＰＣＴ耐性、ＨＡＳＴ耐性、無電解金めっき耐性、冷熱衝撃耐性を有する硬化皮膜を形成できる感光性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにそれらによりソルダーレジスト等の硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、フェノール樹脂とアルキレンオキシド又はシクロカーボネート化合物とを反応させて得られる反応生成物に、１分子中に１つ以上のアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させ、得られた反応生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、及び光重合開始剤を含有する。好適な態様においては、上記組成物はさらに熱硬化性成分を含有する。 （もっと読む）

【課題】光源に半導体レーザーを使用し、フォトマスクを介さないで直接露光描写してカラーフィルターが製造できる、半導体レーザーにより高感度で露光硬化する感光性着色組成物を提供すること。
【解決手段】少なくとも、活性エネルギー線硬化性ポリマー（ａ成分）と、半導体レーザー重合開始剤（ｂ成分）と、高分子顔料分散剤（ｃ成分）と、着色剤とを含有してなり、上記ａ成分が（メタ）アクリロイル基と、酸性官能基を含有するポリマーであり、上記ｂ成分が式（１）で示される化合物（ｗ）を含有しており、上記ｃ成分のアミン価が５〜３０、および重量平均分子量が４，０００〜８，０００であることを特徴とする半導体レーザーで硬化する感光性着色組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、特にダイレクト露光等に対する感度が高く、作業性良く表面硬化性、はんだ耐熱性、無電解金めっき耐性等に優れた硬化皮膜を形成できるアルカリ現像可能な感光性のソルダーレジスト組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びに該ドライフィルムや硬化物によりソルダーレジスト等の硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】アルカリ溶液により現像可能な感光性のソルダーレジスト組成物は、（Ａ）（ａ）スチレンもしくはスチレン誘導体と（ｂ）（メタ）アクリル酸を必須成分とした共重合体（ｃ）に、（メタ）アクリロイルオキシ基およびエポキシ基を有する化合物（ｄ）を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、（Ｂ）オキシムエステル系光重合開始剤、（Ｃ）分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、及び（Ｄ）熱硬化性化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】表面硬度、耐薬品・溶剤性、基材との密着性などの硬化塗膜に本来求められる性能に優れ、かつ抗菌性及び／または防黴性、更にはその長期的持続性にも優れた硬化塗膜の形成が可能な活性エネルギー線硬化性組成物の提供。
【解決手段】ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）と、抗菌剤（Ｂ１）及び／または防黴剤（Ｂ２）とを少なくとも含有してなり、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）が、ポリイソシアネート系化合物（ａ１）中のイソシアネート基と、下記一般式（１）で示されるアルキレングリコール誘導体（ａ２）及び水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ａ３）の各水酸基とからそれぞれ形成されたウレタン結合を有する活性エネルギー線硬化性組成物。


ここで、Ｘはアルキレン基、Ｙはアルキル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アシル基のいずれかであり、ｎは１以上の整数である。 （もっと読む）

【課題】低温下での光記録媒体の反りを抑制することができる光記録媒体および光記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】追記型記録媒体１０は、光の照射により情報信号の記録および再生が行われる、基板１上に形成された情報記録層４と、情報記録層４上に形成された上記光を透過する光透過層６とを備える。−５℃における光透過層６の貯蔵弾性率は、１５００ＭＰａ以下の範囲内である。 （もっと読む）