【課題】ウエハを一括してモールド（ウエハモールド）することができ、特に、大口径、薄膜ウエハに対して良好なモールド性を有し、同時に、モールド後において低反り性及び良好なウエハ保護性能を与え、更に、モールド工程を良好に行うことができ、ウエハレベルパッケージに好適に用いることができる樹脂組成物及び樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分を含有する樹脂組成物。（Ａ）-Ｓｉ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ−Ｓｉ-Ｘ−で表される繰返し単位を含有し、テトラヒドロフランを溶出溶媒としてＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が３，０００〜５００，０００であるシリコーン樹脂。［ここでＸは２価の基である]（Ｂ）熱硬化性樹脂、（Ｃ）フィラー。
【効果】樹脂組成物は、フィルム状に加工することが可能であるため、大口径、薄膜ウエハに対して良好なモールド性能を有するものとなる。 （もっと読む）

【課題】紫外線吸収剤等を配合しなくとも長期に亘って良好な耐候性を発揮する塗膜を与え得る紫外線硬化型塗料組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ケイ素原子含量が１１質量％以上であり、ケイ素原子に直結する水酸基および／またはアルコキシ基を有する有機シラン化合物および／またはその縮合物、（Ｂ）ケイ素原子含量が２．７質量％以上であり、１分子中にアルコキシシリル基と（メタ）アクリレート基とをそれぞれ１個以上有する紫外線硬化性化合物、並びに（Ｃ）光重合開始剤を含み、（Ｂ）成分が、（ｉ）（メタ）アクリルモノマーと、アミノ基またはメルカプト基含有アルコキシシラン化合物および／またはその縮合物との付加反応物、並びに（ｉｉ）（メタ）アクリレート基含有アルコキシシラン化合物および／またはその縮合物から選ばれる少なくとも１種である紫外線硬化型塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、靭性、密着性に優れた硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の硬化性組成物は、（Ａ）分子中に少なくとも２つのビニル基を有する化合物、（Ｂ）分子中に少なくとも２つのＳｉ―Ｈ基を有する化合物、および（Ｃ）ヒドロシリル化触媒とを含有する硬化性組成物であって、（Ａ）成分の化合物および／又は（Ｂ）成分の化合物が、下記一般式（１）で表わされる基を有する化合物であることを特徴とする。
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【課題】屈折率が低く、更には、基板に対する密着性に優れ、かつ高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）中空又は多孔質粒子と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）アルカリ可溶性基及び重合性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、アルカリ可溶性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位と、重合性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、又はアルカリ可溶性基を含む１価の基と重合性基を含む１価の基とを有する珪素原子を含有する構造単位を少なくとも含有する化合物、とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。 （もっと読む）

【課題】転がり抵抗特性、ゴム強度及び加工性をバランス良く改善できるベーストレッド用ゴム組成物、及びそれを用いて作製したベーストレッドを有する空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分、シランカップリング剤及びシリカを含有し、上記ゴム成分が下記式（１）で表される化合物により変性されたブタジエンゴムを含み、上記シランカップリング剤が特定のチオエステル基を含む珪素含有結合単位Ａと特定のチオール基を有する珪素含有結合単位Ｂとの合計量に対して、結合単位Ｂを１〜７０モル％の割合で共重合したものであり、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカの含有量が１０〜１５０質量部であるベーストレッド用ゴム組成物。
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【課題】転がり抵抗特性、機械的強度及び加工性をバランス良く改善できるサイドウォール用ゴム組成物、及びそれを用いて作製したサイドウォールを有する空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分、シランカップリング剤及びシリカを含有し、上記ゴム成分が下記式（１）で表される化合物により変性されたブタジエンゴムを含み、上記シランカップリング剤が特定のチオエステル基を有する珪素含有結合単位Ａと特定のチオール基を有する珪素含有結合単位Ｂとの合計量に対して、結合単位Ｂを１〜７０モル％の割合で共重合したものであり、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカの含有量が１５〜１５０質量部であるサイドウォール用ゴム組成物。
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【課題】
低屈折率である組成物を供給すると伴に、常温・常圧にて低屈折率膜を形成でき、充分な機械強度を有する低屈折率膜及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】
ボラジン系ポリマー又はボラジン珪素系ポリマーを母材とし、粒子径が５０ｎｍ以下のフッ化マグネシウムが１乃至９０重量％含まれる事により上記課題を解決した低屈折率組成物が提供可能となる。また、常温・常圧にて低屈折率膜が形成可能であり、透明基板上に形成する事で充分な機械強度を有する反射防止膜が提供可能となる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性及び耐溶剤性に加えて、特に低誘電性が優れた層間絶縁膜を形成可能であり、かつ十分な放射線感度及び保存安定性を有するポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］（ａ１）加水分解性基を有するポリカルボシラン及び（ａ２）加水分解性基を有するシランモノマーを、（ａ３）触媒の存在下で加水分解縮合することによって得られた加水分解縮合物、並びに［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】シルメチレン結合を有するケイ素系ポリマーからなる縮合硬化型オルガノポリシルメチレンの提供、並びに該縮合硬化型オルガノポリシルメチレンを含有して成り、硬化すると、耐熱性、電気絶縁特性、耐水性、成型加工性に優れ、気体透過性の少ないオルガノポリシルメチレン組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）：


で表され、ケイ素原子に結合したアルコキシ基、水酸基、またはハロゲン原子を１分子中に少なくとも２個有するオルガノポリシルメチレン。 （もっと読む）

【課題】 発泡体の表面粘着性の上昇を押さえ、かつ、加熱養生後も黄変せず、硬くなりにくい変成シリコーン樹脂発泡体を提供すること。
【解決手段】 耐光性安定剤（Ｅ）として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、紫外線吸収剤を含んでなる変成シリコーン樹脂発泡体であって、紫外線吸収剤が、ベンゾエート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、蓚酸アニリド系紫外線吸収剤、マロン酸エステル系紫外線吸収剤、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤、オキサゾロン系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、反応性紫外線吸収剤を反応・結合させた共重合樹脂型紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種である変成シリコーン樹脂発泡体。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜や無機膜との密着性に優れ、さらに低露光量であっても耐溶剤性に優れた着色層を形成することができる新規な着色組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、および（Ｃ）重合可能な基を有するポリカルボシランを含有することを特徴とする着色組成物。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、不純物量を大きく低減させ、着色や反応性の低下を抑制することが可能となる効率的なシリル化カゴ型ケイ酸の製造方法、および、それから得られる多面体構造ポリシロキサン変性体を提供する。
【解決手段】
テトラアルコキシシランまたはその部分縮合物（ａ）と水酸化４級アンモニウム（ｂ）を反応させて得られるアンモニウムオリゴシリケートをさらにシリルクロライド（ｃ）とを反応させてシリル化カゴ型ケイ酸（Ａ）を吸着剤（ｄ）と接触させることを特徴とするシリル化カゴ型ケイ酸の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い分子量のポリカルボシランを収率良く得ることができるポリカルボシランの製造方法の提供。
【解決手段】式２のポリカルボシランの製造方法は、アルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属と、ハロゲン化アルカリ金属との存在下、式１で表されるシラン化合物を反応させる工程を含む。ＳｉＲ^１_４−ｍ（Ｒ^２−Ｘ）_ｍ（１）（式中、Ｒ^１は同一又は異なり、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシロキシ基、スルホキシ基、メタンスルホキシ基、トリフルオロメタンスルホキシ基、Ｃ数１〜１０個のアルキル基、ビニル基、アリール基、アリル基及びグリシジル基から選ばれる基を示し、Ｒ^２は同一又は異なり、置換又は非置換のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、又はアリーレン基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは１〜２の整数を示す。）−（Ｓｉ（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｒ^２）_ｎ−（２）、ｎは１〜１０，０００の数を示す。 （もっと読む）

【課題】半導体装置に用いる低誘電率のシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


（ただし、式中、Ｒ¹は炭素数１〜６のアルキル基、アリール基またはフルオロアルキル基、Ｒ²はアルキレン基またはアリーレン基を示し、Ｘはハロゲンまたはアルコキシ基であり、ｎは０〜２の整数を示す）で表せられるシラン化合物を加水分解縮重合させてなるポリシロキサン樹脂を含有するシリカ系被膜２形成用塗布液を基板１上に塗布し、５０〜２５０℃で乾燥した後、窒素雰囲気下２００〜６００℃で加熱硬化する。 （もっと読む）

【課題】
成型加工性、透明性に優れる液状の多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物を提供する。
【解決手段】
アルケニル基および／またはヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）に対して、前記（ａ）成分とヒドロシリル化反応可能なヒドロシリル基および／またはアルケニル基を有する化合物（ｂ）を変性して得られた多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体硬化開始剤、硬化剤の組成物が耐熱性、光線透過率、接着性が良好な整形体が得られる。 （もっと読む）

【課題】光半導体用接着剤などに用いられるイソシアヌル環含有重合体およびそれを含む組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）


ここで、Ｒ_１は１価の有機基であり、Ｒ_２は２価の有機基である、
で表される繰り返し単位を有しそして重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００のイソシアヌル環含有重合体。 （もっと読む）

【課題】硬化させても回路素子へ応力を与えず、硬化時に体積変化を起こさない熱伝導性シリコーン組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（Ｘは−ＣＨ_２−又は−ＳｉＲ^３Ｒ^４−、Ｚは酸素原子又は二価の炭化水素基、Ｒ^１はＨ又はメチル基、Ｒ^２〜Ｒ^４は一価炭化水素基。ａ、ｂは１〜３の整数）で示される基を分子中に平均０．２〜２個有するオルガノポリシロキサン、（Ｂ）光反応開始剤、及び（Ｃ）熱伝導性充填剤を含有する紫外線硬化型熱伝導性シリコーン組成物。 （もっと読む）

共重合体を含むシリコン組成物を提供する。共重合体は、一般式：Ｈ−［ＳｉＨ_２ＣＨ_２］_ｘｎ［Ｓｉ（Ｒ_１）ＨＣＨ_２］_ｙｎ［ＳｉＨ（Ｒ_２）ＣＨ_２］_ｚｎ−Ｈで示され、式中、Ｒ_１は、メチル、フェニル、メトキシ、エトキシまたはブトキシ、Ｒ_２は、アリル、プロパギルまたはエチニル、そしてｘ，ｙおよびｚが０でないときｘ＋ｙ＋ｚ＝１である。前述の共重合体を使用した炭化ケイ素系材料と、それによって生成された生成物の生成方法も提供する。 （もっと読む）

【課題】新規なポリマー、特に、電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜形成組成物に用いられるポリマー、さらには膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】エチレン性二重結合またはアセチレン性三重結合を分岐末端にもつデンドリマーとケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも２つ以上有する化合物とをヒドロシリル化反応させて得られるポリマー、該ポリマーを含有する膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜、及び該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 基板と金属微粒子（特に金属ナノ粒子）との密着性を向上できる組成物を提供する。
【解決手段】 ポリシラン化合物と、還元により前記金属微粒子を生成可能な金属化合物（例えば、貴金属化合物）と、無機微粒子（シリカなど）とで前記組成物を構成する。前記ポリシラン化合物は、ポリシランと、金属化合物及び／又は金属微粒子に対する親和性を有するユニットを含むビニル単量体との共重合体であってもよい。このような組成物を基板に塗布し、活性エネルギー線を作用させてポリシラン化合物を分解させることにより、金属微粒子を生成できる。このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち現像して金属微粒子を含むパターンを形成し、無電解めっき処理することにより無電解めっきパターンを形成することもできる。 （もっと読む）