改良された硬化性及び、特にエアバッグの製造で使用される合成テキスタイル等の様々な基材への改良された接着性、並びに良好な気圧保持性能を示す硬化性被覆組成物。 （もっと読む）

【課題】シート状基材表面に高速塗工時にミスト発生量が少ない無溶剤型剥離性硬化皮膜形成性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】
(A)粘度が２５〜１,０００ｍＰa・ｓであり、アルケニル基を有するジオルガノポリシロキサン：１００重量部、(B)粘度が１０,０００ｍＰａ・ｓ以上であり、脂肪族不飽和基含有量が０.１モル％以下であるジオルガノポリシロキサン：０.５〜１５重量部、
(C）平均シロキサン単位式〔1〕: (ＳｉＯ_4/2)(Ｒ^aＲ^b₂ＳｉＯ_1/2)_x 〔1〕
で示される分岐状オルガノシロキサンオリゴマーとジオルガノシロキサンオリゴマーとの平衡重合体であり、１より多いＳｉＯ_4/2単位を有する分岐状オルガノポリシロキサン：０.５〜５重量部
(D)粘度が１〜１,０００ｍＰa・ｓであるオルガノハイドロジェンポリシロキサン所定量、及び、(Ｅ）ヒドロシリル化反応触媒：触媒量からなり、粘度が５０〜２,０００ｍＰa・ｓである無溶剤型剥離性硬化皮膜形成性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】成型加工性、透明性、耐熱性、耐光性に優れ、さらには、耐クラック性、耐冷熱衝撃性に優れる、特には液状の多面体構造ポリシロキサンを用いることを特徴とするポリシロキサン系組成物と硬化物を提供する。
【解決手段】アルケニル基および／またはヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）に対して、前記（ａ）成分とヒドロシリル化反応可能なヒドロシリル基および／またはアルケニル基を有する化合物（ｂ）を変性して得られた多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）、および、シリコーン系粒子（Ｂ）、を必須成分としてなるポリシロキサン系組成物。 （もっと読む）

【課題】
成型加工性、透明性、耐熱性、耐光性等に優れ、かつ、硬化時に発生するクラックが低減されたポリシロキサン系組成物を提供する。
【解決手段】
アルケニル基および／またはヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）に対して、前記（ａ）成分とヒドロシリル化反応可能なヒドロシリル基および／またはアルケニル基を有する化合物を変性して得られた多面体構造ポリシロキサン変性体、少なくとも1個のヒドロシリル基またはアルケニル基を有する非直鎖状のポリシロキサン、を必須成分としてなるポリシロキサン系組成物。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、不純物量を大きく低減させ、着色や反応性の低下を抑制することが可能となる効率的なシリル化カゴ型ケイ酸の製造方法、および、それから得られる多面体構造ポリシロキサン変性体を提供する。
【解決手段】
テトラアルコキシシランまたはその部分縮合物（ａ）と水酸化４級アンモニウム（ｂ）を反応させて得られるアンモニウムオリゴシリケートをさらにシリルクロライド（ｃ）とを反応させてシリル化カゴ型ケイ酸（Ａ）を吸着剤（ｄ）と接触させることを特徴とするシリル化カゴ型ケイ酸の製造方法。 （もっと読む）

ポリマー−エアロゲル複合コーティング、ポリマー−エアロゲル複合コーティングを含むデバイスおよび物品、ならびにそのポリマー−エアロゲル複合材を調製する方法が提供される。例示的物品は、少なくとも１つの領域を含む表面と、その少なくとも１つの領域上に配置された、少なくとも約１４０°の水接触角および約１°未満の接触角ヒステリシスを有するポリマー−エアロゲル複合コーティングとを含むことができる。ポリマー−エアロゲル複合コーティングはポリマー、および超高水分含量触媒作用によるポリシリケートエアロゲルを含むことができ、このポリシリケートエアロゲルは、シリル化剤により誘導体化された表面官能基を有するシリカ粒子の三次元網目、および多数の孔を含む。
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【課題】スズ触媒のような金属系化合物を含まず、乾燥だけでオルガノポリシロキサン皮膜を得ることができる安定性良好なエマルジョン組成物及び繊維用風合い改良剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）式：
ＨＯ−［Ｒ¹₂ＳｉＯ］_n−Ｈ
の両末端ヒドロキシオルガノポリシロキサンと、式：
［Ｒ²₃ＳｉＯ_1/2］_a［Ｒ²₂ＳｉＯ_2/2］_b［ＳｉＯ_4/2］_c
（Ｒ¹、Ｒ²は１価有機基、水酸基又は水素原子、ｎは２〜５，０００の正数、０．１≦ａ≦０．７、０≦ｂ≦０．５、０．３≦ｃ≦０．７、ａ＋ｂ＋ｃ＝１）
のトリアルキルシロキシ単位、シリケート単位及びシラノール基を有するオルガノポリシロキサンとの反応物、
（Ｂ）ＳＰ値が８．０〜１１．０である水混和性有機溶剤、
（Ｃ）乳化剤、
（Ｄ）水
を含有する皮膜形成性オルガノポリシロキサンエマルジョン組成物。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）下式で示される分子鎖両末端が水酸基で封鎖されたジオルガノポリシロキサン
ＨＯ−（Ｒ₂ＳｉＯ）_n−Ｈ
（Ｒは一価炭化水素基、ｎは１０以上の整数）
（Ｂ）Ｒ¹₃ＳｉＯ_1/2単位、Ｒ¹₂ＳｉＯ_2/2単位、Ｒ¹ＳｉＯ_3/2単位（Ｒ¹は一価炭化水素基）及びＳｉＯ_4/2単位から本質的になり、ＳｉＯ_4/2単位に対するＲ¹₃ＳｉＯ_1/2単位のモル比が０．６〜１．２、ＳｉＯ_4/2単位に対するＲ¹₂ＳｉＯ_2/2単位及びＲ¹ＳｉＯ_3/2単位のモル比がいずれも０〜１．０であり、シラノール基含有量が１．５質量％未満であるオルガノポリシロキサン
（Ｃ）表面処理煙霧質シリカ
（Ｄ）分子中に加水分解性基を２個以上有するシラン及び／又はその部分加水分解物
（Ｅ）硬化触媒
を含有する室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
【効果】本発明の室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、硬化性と温感性に優れ、かつ高温時の形状保持性を有するものである。 （もっと読む）

【課題】高温処理を行なう必要なく、低誘電率で且つ高い機械的強度を有する被膜を形成することができる低誘電率被膜形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】低誘電率粒子とマトリクス形成材料とを含有する低誘電率被膜形成用樹脂組成物に関する。低誘電率粒子が、テトラアルコキシシラン、アミノ基を有するアルコキシシラン、４級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤、２つ以上の水酸基を有する多価アルコール、及び水を含有する混合液中で、テトラアルコキシシランとアミノ基を有するアルコキシシランをアルカリ存在下で共加水分解反応させることにより、メソ孔を表面に有する球状のシリカナノ粒子を生成させた後、酸溶液中で４級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤を抽出することによって調製されたメソポーラスシリカ微粒子であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加温時には粘度が低く、作業性に優れ、施工後に放冷することで初期密着性が発現し、その後、常温硬化することによって架橋反応が進行し、良好なゴム物性を与え、長期保存性に優れるシリコーン系シーリング剤、接着剤、コーティング剤、ポッティング剤等として有効な室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｒ₃ＳｉＯ_1/2単位（式中、各Ｒは１価炭化水素基）及びＳｉＯ_4/2単位からなり、ＳｉＯ_4/2単位に対するＲ₃ＳｉＯ_1/2単位のモル比が０．６〜１．２であって、ヒドロキシシリル基を０．０４〜０．０７モル／１００ｇ有するオルガノシロキサンポリマー、
（Ｂ）分子中にアルキレン結合を介した加水分解性シリル基を有するポリシロキサン、
（Ｃ）沸点が１５０℃／１０１３２５Ｐａ以上の加水分解性シラン及び／又はその部分加水分解縮合物、
（Ｄ）硬化触媒
を含有する室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】 特殊な粘弾性を有し、触感が良好である粒状シリコーン硬化物、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 (Ａ)一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合アルケニル基を有するポリジオルガノシロキサン、(Ｂ)平均単位式：(Ｒ₃ＳｉＯ_1/2)_x(ＳｉＯ_4/2)_1.0（式中、Ｒは同じか、または異なる一価炭化水素基、但し、一分子中の少なくとも１個のＲはアルケニル基であり、ｘは０.６〜４.０の数である。）で示されるポリオルガノシロキサンレジン、および(Ｃ)一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合水素原子を有するポリオルガノシロキサンを、(Ｄ)白金系触媒により硬化してなる、平均粒径が０.１〜５００μｍである粒状シリコーン硬化物、(Ａ)成分〜(Ｃ)成分を乳化剤により水中に分散状態で、(Ｄ)成分により硬化することを特徴とする上記粒状シリコーン硬化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高弾性のためシール性に優れ、湿度変化によるプロトン伝導性能の変動が小さく、特に低湿下におけるプロトン伝導性能にも優れるプロトン伝導性膜の材料となり得る珪素−酸素架橋構造体及びその製造方法、これを用いた高分子電解質用シリコーンゴム組成物、該組成物の硬化物よりなるゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜を提供する。
【解決手段】エポキシ基を持つアルコキシシランと硫黄原子含有基を持つアルコキシシランとを、水及び酸化剤の存在下で反応させ、前記両アルコキシシランの共加水分解・縮合と、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換と、前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせることによって得られた珪素−酸素架橋構造体、これを含有する高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物、該組成物の硬化物よりなるゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用レジストカバー膜に好適に使用可能であり、ＡｒＦレーザー光等に対する透過率が高いレジストカバー膜形成材料等の提供。
【解決手段】レジスト膜に対して液浸露光を行う際に該レジスト膜をカバーするレジストカバー膜を形成するのに用いられ、アルカリ可溶性基を少なくとも有し下記一般式（１）で表されるケイ素含有ポリマーと、該ケイ素含有ポリマーを溶解可能な有機溶剤とを少なくとも含むことを特徴とするレジストカバー膜形成材料である。
【化１】
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【課題】耐熱性、可撓性、靭性、電気特性を改善する熱硬化性重合体組成物を提供する。
【解決手段】 式（１）で表されるシルセスキオキサン骨格を繰り返し単位として有する化合物の少なくとも１つである第１成分と、オキシラニル、オキシラニレンまたは３、４−エポキシシクロヘキシルを有するかご型構造のシルセスキオキサン誘導体の少なくとも１つである第２成分と、硬化剤である第３成分とを必須成分として含有する熱硬化性重合体組成物：


ここに、Ｒ^１ａ〜Ｒ^１ｄはアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、またはオキシラニル、オキシラニレンもしくは３、４−エポキシシクロヘキシルを有する基である。 （もっと読む）

【課題】表面滑り性が良く、耐擦傷性に優れた撥水撥油性の被膜を形成する表面処理剤を提供する。
【解決手段】下記平均組成式（１）で示される含フッ素オルガノポリシロキサン（Ｚ^２Ｑ）_βＲｆ（ＱＺ^１Ａ_α）_２−β （１）［Ｒｆは２価のパーフロロエーテル残基を含む基、Ｑは２価の有機基、Ｚ^１はシルアルキレン結合を含んでいてよい、２〜９価のオルガノポリシロキサン残基、αは１〜８の整数、βは０より大きく２未満の数、Ｚ^２は下記式（２）で示される１価の基、
−（Ｓｉ（Ｒ^１）_２−Ｏ）_ｂ−Ｓｉ（Ｒ^１）_３ （２）
（ｂは１〜１０の整数、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基である）、及びＡは、下記式（３）で示される１価の基である
−Ｃ_ＣＨ_２Ｃ−Ｓｉ（Ｒ^２）_３−ａＸ_ａ （３）
（Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基であり、Ｘは加水分解性基であり、ａは２又は３、ｃは１〜６の整数である）］。 （もっと読む）

一般式（１）［Ａ¹_zＲ¹_pＳｉＯ_(4-p-z)/2］（１）［式中、ｚ及びｐはそれぞれ０〜３の値にある整数を意味し、
Ａ¹は同一又は異なる、水素−、アルキル−、シクロアルキル−、アリール−又はアルコキシ残基であって、脂肪族の線状又は分枝した又は脂環式のアルキル残基又はアリールオキシ残基を有する残基を意味するか、又は、官能基を意味し、
これは１８個までのＣ原子を含有し、更に１個又は複数個の同一又は異なるヘテロ原子であって、Ｏ−、Ｓ、Ｓｉ、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、Ｐ又はＮ原子から選択されたヘテロ原子を含有することができる、
その際、
Ｒ¹は同一又は異なる、脂肪族又は脂環式のアルコキシ−、アリールオキシ又はヒドロキシ残基又は残基Ａ¹を意味する］
の繰り返し単位から構成され、少なくともＴ単位又はＱ単位又はこの両方が存在しなくてはならず、かつこの他にＭ単位及び／又はＤ単位が存在することができ、かつ少なくとも１ｐｐｍのＨＣｌを含有することにより特徴付けられるシリコーン樹脂。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィおよび液浸フォトリソグラフィシステムにおいて非常に適したフォトレジスト用のトップコートを提供する。
【解決手段】本発明のトップコートは、式Ｔ_ｍ^Ｒ３（ただしｍが８、１０、または１２に等しい）および式Ｑ_ｎＭ_ｎ^{Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３}（ただしｎが８、１０、または１２に等しい）の官能化多面体オリゴマー・シルセスキオキサン誘導体を含む組成物である。その官能基として、塩基性水溶液可溶性部分を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物および当該組成物より得られる絶縁膜。
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも１種以上のシラン化合物に、一般式（２）で表される化合物を添加して、加水分解、縮合して得られる化合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｘ¹は、加水分解性基を表し、Ｒ¹は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、ｎ₁は１〜３の整数を表し、ｍ₁は２以上の整数を表す。Ｌ¹は、単結合または２価の連結基を表し、Ａは、かご型構造を含有する基を表す。
【化２】


一般式（２）中、Ｘ₂は、加水分解性基を表わし、Ｒ₂〜Ｒ₄は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はビニレン基を表わす。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用のＡｒＦレーザ光等に対する透過率が高いレジストカバー膜形成材料。
【解決手段】レジスト膜に対して液浸露光を行う際に該レジスト膜をカバーするレジストカバー膜を形成するのに用いられ、アルカリ可溶性基を有し一般式（１）〜（３）で表されるケイ素含有ポリマーから選択される少なくとも１つとを含むレジストカバー膜形成材料。






一般式（１）〜（３）中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^６〜Ｒ^８の少なくともいずれかはアルカリ可溶性基を有する一価の有機基及びトリオルガノシリル基の少なくともいずれかを表し、Ｒ^２、Ｒ^５及びＲ^９は一価の有機基、トリオルガノシリル基及び水酸基の少なくともいずれかを表す。 （もっと読む）

式（Ｉ）：（Ｒ^１Ｒ^３_２ＳｉＯ_１／２）ｗ（Ｒ^３_２ＳｉＯ_１／２）_ｘ（Ｒ^１ＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ（式中、Ｒ^１は、Ｃ_１〜Ｃ_１０ヒドロカルビル又はＣ_１〜Ｃ_１０ハロゲン置換されたヒドロカルビル（ともに脂肪族不飽和を含まない）であり、Ｒ^３は、Ｒ^１又はケイ素と結合した少なくとも１つの水素原子を有するオルガノシリルアルキル基であり、ｗは０〜０．８であり、ｘは０〜０．６であり、ｙは０〜０．９９であり、ｚは０〜０．３５であり、ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１であり、ｙ＋ｚ／（ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ）は０．２〜０．９９であり、ｗ＋ｘ（ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ）は０．０１〜０．８であり、基Ｒ^３の少なくとも５０モル％はオルガノシリルアルキルである）を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン樹脂、上記樹脂を含有するシリコーン組成物及び当該シリコーン組成物を硬化させることにより調製される硬化シリコーン樹脂。
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