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Fターム[4J246CA87]の内容

珪素重合体 (47,449) | Si上の一価の基 (11,590) | Siの次位にC;そのCが異種原子含有炭化水素基 (4,121) | P原子含有炭化水素基 (48)

Fターム[4J246CA87]に分類される特許

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(a)平版用基板上に画像領域と非画像領域とを含む平版印刷版を、以下に規定する一般式(I)の少なくとも1種のホスホノ置換型シロキサンを含む溶液と接触させ、そして(b)乾燥させることを含んで成る画像形成された平版印刷版の後処理方法。

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【課題】 溶液プロセスを用いた簡便な方法により形成できるとともに、基板表面に強固に吸着でき、かつ、高い秩序性(結晶性)および高密パッキング特性を有する機能性有機薄膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式;A−B−C−SiX(Aは水素原子がハロゲン原子によって置換されていてもよい1価脂肪族炭化水素基であって、ハロゲン原子によって置換されていない場合は炭素数16〜30、ハロゲン原子によって置換されている場合は炭素数13〜25のもの;Bは酸素原子または硫黄原子;Cはπ電子共役を示す2価の有機基;X〜Xは加水分解により水酸基を与える基)の有機シラン化合物を用いた機能性有機薄膜。上記有機シラン化合物のシリル基を加水分解して基板表面と反応させ、該基板に直接吸着した単分子膜を形成した後、該単分子膜上の未反応の有機シラン化合物を非水系有機溶剤を用いて洗浄除去する機能性有機薄膜の製造方法。 (もっと読む)


個別被覆ナノ構造の製造用リガンド組成物と、被覆ナノ構造自体及び前記ナノ構造を含むデバイスを提供する。ナノ構造上の堆積後シェル形成方法及びナノ構造の可逆的変性方法も提供する。本発明のリガンド及び被覆ナノ構造は細密充填ナノ構造組成物に特に有用であり、量子閉じ込めの改善及び/又はナノ構造間のクロストーク低減を図ることができる。 (もっと読む)


トリーイングにより低下した性能を有する配電ケーブルの修復方法であって、該方法は(i)芳香族官能性アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、アミノ官能性アルコキシシラン、エポキシ官能性アルコキシシラン、フルオロ官能性アルコキシシラン、ビニル官能性アルコキシシラン、またはメタクリレート官能性アルコキシシランから選択されるアルコキシシランまたはアルコキシシランの混合物を含む修復液を、該ケーブルのアルミニウムより線部分の隙間に供給すること、および(ii)スルフィドシラン、メルカプト官能性アルコキシシラン、ホスホネートシラン、またはそれらの混合物を該修復液に加えて、高温で腐食剤に接触したときの該アルミニウムの耐食性を改善することを含む方法。 (もっと読む)


本発明は、式[(RO)3−fSiCRP(O)(OR] (III)のシラン少なくとも1つと一般式(RSiO2/2(RSiO1/2[O1/2H] (IV)のケイ素化合物少なくとも1つとの反応[前記式中、Rは水素、又は場合により−CN又はハロゲン原子で置換したC〜C20−炭化水素残基を表し、かつmは1又は2の整数を表し、R、R、R、R、R、m、p、q、f及びsは、請求項1に挙げた意味を有する]によりホスホン酸エステルで変性した有機ケイ素化合物の製造方法に関する。 (もっと読む)


プロトン伝導性ポリマーは、有機鎖を含むケイ素化合物、及び少なくとも1つの酸基を含む化合物を含む、複数の化合物の共重合によって形成される。ポリマーは、結合基を介して結合される酸基を有するハイブリッド有機無機マトリックスを含んでいる。結合基は、1つ以上の電子吸引基を含むことができる。電子吸引基は、ハロゲンであり得る。
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本発明は、ホスホン酸エステル基を有するシランと反応性のケイ素化合物との反応によるホスホン酸エステルにより変性された有機ケイ素化合物の製造の方法に関する。 (もっと読む)


本発明は半導体または電気回路での低いk誘電性フィルムの製造方法に関し、前記方法は、一般式[(RSiO1.5(RSiO)](式中、a、bは0〜1であり、c、dは1であり、m+nは3以上であり、a+bは1であり、n、mは1以上であり、Rは水素原子またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリール基であり、それぞれ置換されているかまたは置換されてなく、Xはオキシ、ヒドロキシル、アルコキシ、カルボキシル、シリル、シリルオキシ、ハロゲン、エポキシ。エステル、フルオロアルキル、イソシアネート、アクリレート、メタクリレート、ニトリル、アミノまたはホスフィン基であり、またはタイプXの少なくとも1つの前記基を有するタイプRの置換基であり、Yはヒドロキシル、アルコキシまたはタイプO−SiZの置換基であり、Z、ZおよびZはフルオロアルキル、アルコキシ、シリルオキシ、エポキシ、エステル、アクリレート、メタクリレートまたはニトリル基であり、またはタイプRの置換基であり、同じかまたは異なり、タイプRの置換基が同じかまたは異なるだけでなく、タイプXおよびYの置換基もそれぞれ同じかまたは異なり、タイプYの置換基として少なくとも1個のヒドロキシル基を有する)の不完全に縮合した多面体のオリゴマーシルセスキオキサンをフィルムの製造のために使用することを特徴とし、更にこの方法により製造される低いk誘電性フィルムに関する。 (もっと読む)


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