本発明は、式Ｘ_m−Ｍ−（ＯＲ）_n-mを有する少なくとも１つの化合物の溶液を調製し、ドーパントの溶液に添加し、該化合物を加水分解してゾルを形成し、場合により、酸化物を添加し、ゾルをゲル化し、前記液体を再循環し、かつ液体のpH値を調節して、アクアゲル中のドーパントを固定させ、ゲルを乾燥させ、かつ密度を高めてガラスを得ることから成るゾル−ゲル法に関する。 （もっと読む）

【課題】ゾル−ゲル法で製造された、オキセタン環とシルセスキオキサン構造を有するポリオルガノシロキサンを含有する、金属やセラミックのような非透明性の基材を接着でき、曲面を有するような光を均一に照射できない物品をコーティングでき、厚みのある成形体、特に厚みが数ｍｍ以上の成形体が作製可能な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を必須成分とする熱硬化性組成物。
（ａ）ゾル−ゲル法で製造された、下式（１）で示される官能基とシルセスキオキサン構造を有するポリオルガノシロキサン。
【化１】


（１）
（但し、R^０は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、R^１は炭素数２〜６のアルキレン基である。）
（ｂ）エポキシ化合物
（ｃ）熱カチオン重合開始剤
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【課題】 電気化学素子への応用に好適な、熱安定性、機械的安定性、耐溶媒性が良好で、低湿度においてもプロトン伝導性の優れた経済的に安価なハイブリッドシリカポリマーとその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）：
(HO_３S-CH_２-CH_２-CH_２-SiO_3/2)_ｎ（HS-CH_２-CH_２-CH_２-SiO_3/2)_ｍ（SiO_２)_1-n-m ‥（１）
（式中、ｎ＝０．３０〜０．６３、ｍ＝０．０３〜０．４０、ｎ＋ｍ＝０．３３〜０．７０である。）
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有メソポーラスシリカポリマーであるメソポーラスなシリカポリマー。このポリマーをプロトン伝導性材料として、燃料電池、キャパシター、電解セルなどの電気化学素子に応用する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置用の有機シリカ系膜と，その形成方法を提供する。
【解決手段】形成方法は、絶縁膜形成用組成物を基板に塗布する工程、前記塗膜を加熱する工程、前記塗膜に熱と紫外線を照射して硬化処理を行う工程とを含む。前記絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）〜（４）で表される化合物の加水分解縮合物で、炭素原子を１１．８〜１６．７モル％含有する有機シリカゾル、有機溶媒とを含む。 Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３ ・・・・・（１） Ｓｉ（ＯＲ^３）_４ ・・・・・（２） （Ｒ^４）_２Ｓｉ（ＯＲ^５）_２ ・・・・・（３） Ｒ^６_ｂ（Ｒ^７Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^１０）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^８）_３−ｃＲ^９_ｃ・・・（４） 〔式中、Ｒ^１〜Ｒ^９は、それぞれアルキル基またはアリール基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜２の数を示し、Ｒ^１０は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕 （もっと読む）

【課題】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなる有機無機ハイブリッド構造を有するシリカ系メソ構造体であるにも拘らず、十分な柔軟性を有しており、柔軟性が高く強度に優れた自立膜を形成することができ、しかも機能性の高い種々の有機基を骨格内に導入することが可能なシリカ系メソ構造体を提供すること。
【解決手段】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなり、１ｎｍ以上のｄ値に相当する回折角度に１本以上のピークを有するＸ線回折パターンを示すシリカ系メソ構造体であって、Ｔサイト骨格成分の存在割合（Ｔモル％）と、Ｄサイト骨格成分の存在割合（Ｄモル％）と、Ｓサイト骨格成分の存在割合（Ｓモル％）とが、Ｔ≠０の場合は下記数式（Ｆ１）、Ｔ＝０の場合は下記数式（Ｆ２）：
｛（Ｄ＋Ｓ）／（Ｔ＋Ｄ＋Ｓ）｝≧０．１ （Ｆ１）
｛Ｓ／（Ｄ＋Ｓ）｝≦０．９］ （Ｆ２）
で表される条件を満たしていることを特徴とするシリカ系メソ構造体。 （もっと読む）

【課題】 ゾルゲル法により得られるアルコキシシラン縮合物であるにも拘らず、柔軟性が高く強度に優れたアルコキシシラン硬化物からなる自立膜を形成することが可能なアルコキシシラン縮合物、並びにその製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）〜（４）：
【化１】


［式（１）〜（４）中、Ｘ^１は１価の加水分解性基、Ｒ^１は２価の有機基を示す。］
でそれぞれ表されるＴ^０、Ｔ^１、Ｔ^２及びＴ^３サイト骨格成分からなる有機架橋型アルコキシシラン縮合物であって、^２９Ｓｉ−ＮＭＲにおける、前記Ｔ^０、Ｔ^１、Ｔ^２及びＴ^３サイト骨格成分にそれぞれ相当するシグナルの積分値（Ｔ^０、Ｔ^１、Ｔ^２、Ｔ^３）が下記数式：
Ｔ^０／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．６
Ｔ^１／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≧０．４
Ｔ^２／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．２
Ｔ^３／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．０３
で表される条件を満たしていることを特徴とする有機架橋型アルコキシシラン縮合物。 （もっと読む）

本発明は、（ｉ）一般式Ｉ［Ｆ］_ｅ［Ｑ_ｃＰ_ｂ］_ｄ （Ｉ）のオルガノ官能性シロキサンの少なくとも１種のブロック縮合物および／または（ｉｉ）ｅ［Ｆ］およびｄ（ｃ［Ｑ］＋ｂ［Ｐ］）から成る少なくとも１種の混合物であり、かつ適切である場合にはｄ［ＱｃＰｂ］を含有する組成物に関する。前記組成物またはブロック縮合物は、ブロック単位Ｆとブロック単位Ｑ、Ｐおよび／またはＱＰとの反応によって得ることが可能であり、この場合、これらは以下の方法の一つによる：−ｃ１）ブロック単位Ｆを、場合によってはアルコールで希釈し、有機または無機酸および使用されたシロキサンＳｉの１モルに対して０．５〜１５０ｍｏｌの水を添加し、これにより、使用されたブロック単位の少なくとも部分的な加水分解が生じ、その後にブロック単位Ｑおよびブロック単位Ｐを添加し、かつ混合物を反応させるか、あるいは、−ｃ２）ブロック単位Ｆを、場合によってはアルコールで希釈し、Ｑ、Ｐおよび／またはブロック単位ＱＰと混合し、その後に、有機または無機酸を添加し、使用されたシロキサンのＳｉ１モルに対して０．５〜１５０モルの水を使用して、部分加水分解およびブロック縮合をおこなうか、あるいは、−ｃ３）ブロック単位Ｆを、場合によってはアルコールで希釈し、有機または無機酸および使用されたシロキサンＳｉ１モルに対して０．５〜１５０モルの水を添加し、その際、少なくとも部分的に加水分解が生じ、ブロック単位ＱＰを添加し、かつ混合物を反応させるか、あるいは、−ｃ４）ブロック単位Ｑ、Ｐおよび／またはＱＰを、場合によってはアルコールで希釈し、有機または無機酸および使用されたシロキサンのＳｉ１モルに対して０．５〜１．５モルの水を添加し、かつ少なくとも部分的に加水分解し、その後にブロック単位Ｆおよびさらには使用されたシロキサンのＳｉ１モルに対して０〜１４８．５モルの水を添加し、かつ混合物を反応させるか、あるいは、−ｃ５）ブロック単位Ｆを場合によってはアルコールで希釈し、使用されたシロキサンのＳｉ１モルに対して０．５〜１５０モルの水および有機または無機酸と混合し、その後にテトラアルコキシシランを添加し、混合物を反応させる。さらに本発明は、前記組成物またはブロック縮合物を製造するための方法およびその使用ならびにこれによって得ることが可能な製品、耐摩耗性ｅａｓｙ−ｃｌｅａｎ被覆およびこの型の被覆を備えた製品に関する。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜中に規則的で均一なナノ気孔を形成させ得る新規星型高分子物質の提供。
【解決手段】アルコキシシラン末端基を有し、中心部にエーテル基を有する式（Ｉ）で表される星型高分子を気孔誘導体として用いると、規則的で均一に分布されたナノ気孔を有する低誘電性シリケート高分子薄膜が得られる。前記星型高分子は、環状モノマーを多価アルコールと開環重合させた後、得られた高分子をアルコキシシラン化合物と反応させることによって製造される。 （もっと読む）