【課題】紫外線が照射されても疎水性の低下が抑えられ、誘電率の上昇が抑制された低誘電率膜を製造するための低誘電率膜の前駆体組成物、及び、低誘電率膜の製造方法を提供する。
【解決手段】低誘電率膜の前駆体組成物は、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチルシラン、ジエトキシジシラン、ジメトキシジシラン、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン及びジメチルメトキシシランから選択される一種以上の化合物と、式：（ＲＯ）_３−Ｓｉ−Ｘ−Ｓｉ−（ＲＯ）_３（ＲＯはアルコキシ基、Ｘは有機架橋基であってメチレン基、エチレン基、ビニレン基、１，４−フェニレン基から選択される）で表される化合物、式：Ｓｉ（ＯＲ）_４（Ｒは一価の有機基）で表される化合物、環状シロキサン、二重環状シロキサン及びゼオライト微結晶から選択される一種以上の物質と、熱分解性化合物と、アルコキシシラン加水分解触媒と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤を使用するまでもなく、１段階の乳化工程のみでも調製することができ、しかも生成率が高く、同時に長期間の安定性にも優れたＷ／Ｏ／Ｗ型ピッケリングエマルションを提供する。
【解決手段】内部に水相の粒子を閉じ込めた油相の粒子が水相中に分散した状態のＷ／Ｏ／Ｗ型ピッケリングエマルションにおいて、油相とその両側の水相との界面に特定の中空半球状有機シリコーン微粒子を含有する有機シリコーン微粒子を局在させ、且つ水相を４０〜８０質量％、油相を１０〜５０質量％及び有機シリコーン微粒子を１０〜２０質量％（合計１００質量％）の割合で含有して成るものとした。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性、接着性及び応力緩和性に優れ、且つボイドやクラックといった欠陥のない硬化体を提供する。
【解決手段】（ｉ）Ｘ線小角散乱法（ＳＡＸＳ）を用いて測定される散乱プロファイルのギニエ（Ｇｕｉｎｅｒ）プロットにより求められる相分離構造のサイズ（Ｒｇ）が５０ｎｍ以下であること、（ｉｉ）下記式（１）：
緩和指標＝（２００℃におけるＴ２）／（２５℃におけるＴ２）・・・（１）
（式中、Ｔ２は固体^１Ｈ−ＮＭＲのソリッドエコー法によって得られる緩和時間である）で表される緩和指標が１．２〜１０であること、及び（ｉｉｉ）黄色度（ＹＩ）が３０以下であることを満足し、シリコーンを含有するハイブリッド硬化体である。 （もっと読む）

【課題】優れた熱伝導性を有する熱伝導性組成物およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】アルコキシシラン、無機粒子および水を含むゾルを調製し、ゾルをゲル化させてゲルを調製し、ゲルを加熱により硬化させるゾル・ゲル法により、熱伝導性組成物を得る。この熱伝導性組成物は、無機粒子が、ポリシロキサンからなるマトリクス中に分散されており、無機粒子とポリシロキサンとが、互いに化学結合されている。そのため、無機粒子間において、それらが有する熱を、ポリシロキサンを介して分散させることができ、優れた熱伝導性を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高い力学物性と低い水膨潤性を有する新規な有機・無機複合ヒドロゲルの製造方法を提供する。
【解決手段】水溶性有機高分子（Ａ）と、水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）と、シロキサンネットワーク（Ｃ）とが複合化して形成された三次元網目の中に水（Ｄ）が包含されている有機・無機複合ヒドロゲルの製造方法であって、水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）と水（Ｄ）との共存下に、前記水溶性有機高分子化合物（Ａ）の原料モノマー（Ａ’）の重合と、シリコンアルコキシド（Ｃ’）の加水分解及び重縮合とを並行して行わせることを特徴とする有機・無機複合ヒドロゲルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】水酸基含有率の高いアルコキシドの加水分解物を用いたガスバリア性組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】前記アルコキシドと水と反応触媒とからなる原料を、複数のスタティックミキサーと前記複数のスタティックミキサーを連設する配管とからなる所定構造の加水分解物製造装置に導入して前記アルコキシドの加水分解物を得て、これをポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有させ、ゾルゲル法によって重縮合すること特徴とする。効率的な加水分解反応の進行と、重縮合反応の抑制とによって、水酸基含有率の高いアルコキシドの加水分解物を製造することができ、これを用いて、ガスバリア性積層フィルムを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】光透過性が良好で、低吸湿性であり、高温使用時の変色がない光半導体素子封止用樹脂、および良好な輝度保持率を有する、該樹脂を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置を提供すること。
【解決手段】ケイ素化合物とアルミニウム化合物を反応させて得られるポリアルミノシロキサンを含む光半導体素子封止用樹脂、および該光半導体素子封止用樹脂を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置。 （もっと読む）

【課題】優れた保存安定性を発現させることが可能な硬化促進性化合物−ゲル複合体、それを含む硬化性樹脂組成物、及びこの硬化性樹脂組成物により封止された素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】（ａ）硬化促進性化合物と、（ｂ）フェノール性水酸基を有する化合物と、（ｃ）下記一般式（Ｉ−１）で示される化合物及びその部分縮合物から選ばれる少なくとも１種類の化合物とを反応させて得られる硬化促進性化合物−ゲル複合体。


（式（Ｉ−１）中、ｎは０又は１であり、Ｒ^１は、水素原子及び炭素数１〜１８の置換又は非置換の炭化水素基からなる群より選ばれ、１以上のＲ^２と結合して環状構造を形成してもよく、Ｒ^２は、フェノール性水酸基と反応可能な官能基を示し、それぞれ独立して、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜１８の置換又は非置換のオキシ基、炭素数０〜１８の置換又は非置換のアミノ基、及び炭素数２〜１８の置換又は非置換のカルボニルオキシ基からなる群より選ばれ、全てが同一でも異なってもよく、２以上のＲ^２が互いに結合して環状構造を形成してもよい。） （もっと読む）

本発明は、（１）約０．４以上のＴ２：Ｔ３比（ここで、Ｔ２は−５６ｐｐｍ〜−５９ｐｐｍの範囲に中心があるＣＰ／ＭＡＳ²⁹Ｓｉ ＮＭＲスペクトルにおける化学シフトを有するピークの強度であり、Ｔ３は−６５ｐｐｍ〜−６９ｐｐｍの範囲に中心があるＣＰ／ＭＡＳ²⁹Ｓｉ ＮＭＲスペクトルにおける化学シフトを有するピークの強度である）、及び（２）約０．０５超の（Ｔ２＋Ｔ３）／（Ｔ２＋Ｔ３＋Ｍ）比（ここで、Ｍは＋７ｐｐｍ〜＋１８ｐｐｍの範囲に中心があるＣＰ／ＭＡＳ²⁹Ｓｉ ＮＭＲスペクトルにおける化学シフトを有するピークの強度である）を有する疎水性の表面処理されたシリカ粒子を提供する。本発明は、疎水性の表面処理されたシリカ粒子の調製方法をさらに提供する。
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【課題】実験室規模で得られる所望のゾル−ゲル溶液を大規模で製造するための装置である。
【解決手段】装置２００は、攪拌機２０２を場合により備えた容器２０１と、ポンプ２０４と、流動床反応カラム２０６と、複数の流体配管２０３ａ〜２０３ｄを備える。流体配管２０３ａ、２０３ｂは第１の循環ループにおいて、容器２０１およびポンプ２０４に接続し、かつ流体配管２０３ａ、２０３ｂ、２０３ｃ、２０３ｄは第２の循環ループにおいて、容器２０１、ポンプ２０４および流動床反応カラム２０６に接続している。 （もっと読む）

本発明は、一般式［１］〜［３］すなわち−ＮＲ_２^＋−Ｂ−Ａ⁻［１］、＝ＮＲ^＋−Ｂ−Ａ⁻［２］、≡Ｎ^＋−Ｂ−Ａ⁻［３］から選択される少なくとも１つの構造要素と、一般式［１］〜［３］のプロトン化および脱プロトン化の形態の構造要素とを含み、Ａが‐ＳＯ_３スルホン酸基、‐Ｃ（Ｏ）Ｏカルボン酸基、または‐Ｐ（Ｏ）（ＯＲ^７）Ｏホスホン酸基であり、Ｂが（ＣＲ^１_２）_ｍの任意選択的に置換されたアルキル基、アリール基、またはヘテロ原子を間に挟むヘテロアリール基であり、ＲおよびＲ^７が水素基、または任意選択的に置換された炭化水素基であり、Ｒ^１が水素基、ハロゲン基、または任意選択的に置換された炭化水素基であり、ｍが１、２、３、４、または５の値であることを特徴とし、一般式［２］の窒素原子が環内窒素原子として脂肪族複素環の一部であること、および一般式［３］の窒素原子が環内窒素原子として芳香族複素環の一部であることを条件とする粒子（ＰＳ）に関する。 （もっと読む）

本発明は、式Ｘ_m−Ｍ−（ＯＲ）_n-mを有する少なくとも１つの化合物の溶液を調製し、ドーパントの溶液に添加し、該化合物を加水分解してゾルを形成し、場合により、酸化物を添加し、ゾルをゲル化し、前記液体を再循環し、かつ液体のpH値を調節して、アクアゲル中のドーパントを固定させ、ゲルを乾燥させ、かつ密度を高めてガラスを得ることから成るゾル−ゲル法に関する。 （もっと読む）

【課題】 透明基板の表面上に設けた際に十分な機械強度を有するシリカ系被膜を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決するシリカ系被膜は、透明基板上に形成するためのシリカ系被膜であって、その弾性率が５ＧＰａ以上であるものである。 （もっと読む）