【課題】メタクリロキシ基もしくはアクリロキシ基を有するポリオルガノシルセスキオキサンを含む半導体絶縁膜用組成物と、それを用いた薄膜の製造方法、及びそれによって有機溶媒に耐性を示す絶縁膜を提供する。
【解決手段】メタクリロキシ基もしくはアクリロキシ基を有するポリオルガノシルセスキオキサンに、ビニルモノマーおよび重合開始剤を加えて半導体絶縁膜用組成物とし、スピンコート法などで塗布した後、加熱または紫外線照射によってビニル基のラジカル重合を行ない、続いてアルコキシ基の縮合重合により複合的に硬化させてシリコーン系絶縁膜（ＰＳＱ膜）を製造する。 （もっと読む）

（ａ）可逆的付加開裂連鎖移動（ＲＡＦＴ）剤の１つ以上のチオカルボニルチオ断片を含む１種以上のシロキサン含有ホモポリマー及び（ｂ）１種以上のバイオメディカルデバイス形成性モノマーを含む混合物の重合生成物から形成されるシリコーンヒドロゲルなどのバイオメディカルデバイスが開示される。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ硬化および熱硬化により高硬度で耐擦傷性に優れるとともに、高い耐クラック性を有する硬化膜を与えるシロキサン樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェニル基を有するポリシロキサン、（Ｂ）光ラジカル重合開始剤および（Ｃ）トリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートおよびペンタペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のラジカル重合性モノマーを含有することを特徴とするシロキサン樹脂組成物。 （もっと読む）

シロキサン組成物及びその製造方法である。該組成物は，塩基性水溶液中で脱プロトン化可能な官能基を示す骨格を有するシロキサンプレポリマーを含む。更に，熱又は放射線で開始される硬化工程中に反応可能な反応性官能基がある。シロキサンは，重合中にその分子量が増加するよう架橋する。該組成物は，リソグラフィー製法の現像工程に水系現像システムを適用する高分解能ネガティブトーンリソグラフィー加工工程に使用可能である。 （もっと読む）

【課題】共有結合した末端ハロゲンを含まず、触媒として使用された遷移金属を好ましくは可能な限り容易かつ完全に除去することができるポリシロキサンブロックコポリマーを提供すること。
【解決手段】本発明は、式Ａ［ＬＢ（Ｓ）Ｑ］_ｍ（式中、Ａは、ポリシロキサンブロックであり、Ｌは、２価の有機結合基であり、Ｂは、ラジカル重合性モノマーから構成されるポリマーブロックであり、Ｓは、硫黄原子であり、Ｑは、１価の有機基であり、ｍは、１〜５０の整数である）のポリシロキサンブロックコポリマー、その製造方法、および化粧またはパーソナルケアにおけるその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】ポリシロキサンブロックコポリマーの提供。
【解決手段】本発明はポリシロキサンブロックとポリカチオン性ブロックとを含む新規の両親媒性ブロックコポリマーを包含する。該ポリカチオン性ブロックはジアリルジアルキルアンモニウム誘導体から形成される。前記形成されたブロックコポリマーは特に髪及び皮膚のようなケラチン基質のトリーティング又はコンディショニングに有用である。 （もっと読む）

（ａ）アルデヒドベースのレドックス開始剤を供給する工程；及び（ｂ）前記レドックス開始剤と、複数の水素化物末端キャップ成分を有するシロキサンとを反応させて、複数の末端アルデヒド成分を有するシロキサンポリマーを生成させる工程；を含むシロキサンポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】２６０℃のハンダリフロー工程を必要とする固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造用として有用な耐熱性、密着性、伸度、高温でもクラックや剥がれが生じないという耐温度衝撃性に優れた特性を有する感光性樹脂を提供する。
【解決手段】特定の組合せの少なくとも２元素からなる有機シランを含む化合物を、触媒存在下で４０℃〜１５０℃以下の温度で０．１〜１０時間重縮合して液体樹脂を得るステップを含むプロセスによって得られる感光性樹脂。 （もっと読む）

本発明は、ヒドロシリル化反応に適切な新たなアルコキシアミン、シロキサン改質アルコキシアミン及びシロキサン改質ポリマー、並びにスリップ及び均展剤としての又は分散剤としてのそれらの使用に関する。このアルコキシアミンは、式（Ｉ）又は（ＩＩ）：


〔式中、Ａは、その酸素原子を介して炭素原子に結合する安定したフリーニトロキシルラジカルＡ・を形成することができる基であり；Ｒ_１及びＲ_２は、互いに独立して、水素か、非置換であるか又はＮＯ_２、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルアミノ若しくはジ（Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル）アミノで置換されているＣ_１〜Ｃ_１８アルキル、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル又はフェニルであり；Ｒ_３、Ｒ_４及びＲ_５は、互いに独立して、水素又はＣ_１〜Ｃ_１８アルキル若しくはフェニルであるか；或いはＲ_３及びＲ_５は、結合基Ｃ＝Ｃと一緒になって、５〜１２員環を形成し；Ｒ_６は、水素又はＣ_１〜Ｃ_１８アルキル若しくはフェニルであり；Ｘは、Ｏ、ＮＨ又はＮＲ_７であり、ここでＲ_７は、Ｃ_１〜Ｃ_１８アルキル、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル又はフェニルであり；Ｙは、直接結合、Ｃ_１〜Ｃ_３０アルキレン又はＣ_６〜Ｃ_１２アリーレンであるが、但し、式Ｉの化合物が、（１）又は（２）


ではない〕で示される化合物である。
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【課題】アスベスト又はアスベストを主成分とする屑又は物質を、無害にする処理組成物を提供すること。
【解決手段】下記成分を含む組成物。
(a) 式：Si(OR)₄（Ｒはアルキル）のオルガノシラン、式：M(OR)_m（ＭはＢ、Ti、Fe、Al、Mg、Ｖ、Zr、Ｗ、Ｐ又はLa）の金属アルコキシド、又はシリカのコロイド状懸濁液、
(b) 式：[X-(CH₂)_n ] _x -Si(OR)_4-x（Ｘはスルフヒドリル、アミノ、イソシアナト、（メタ）アクリロイル、エチルアクリロイル、ビニル、フェニル、アニリノ、ウレイド、チオシアナト、ニトリロ又はエポキシ基、ｎは０〜３、ｘは１〜３）のオルガノ珪酸化合物、
(c) エチレングリコール、（メタ）アクリル酸、マレイン酸又はフタール酸、ビニル、アクリルアミド又はエチレンオキシド、を主成分とするモノマー、及び
(d)フリーラジカル開始剤。 （もっと読む）

【課題】 基板と金属微粒子（特に金属ナノ粒子）との密着性を向上できる組成物を提供する。
【解決手段】 ポリシラン化合物と、還元により前記金属微粒子を生成可能な金属化合物（例えば、貴金属化合物）と、無機微粒子（シリカなど）とで前記組成物を構成する。前記ポリシラン化合物は、ポリシランと、金属化合物及び／又は金属微粒子に対する親和性を有するユニットを含むビニル単量体との共重合体であってもよい。このような組成物を基板に塗布し、活性エネルギー線を作用させてポリシラン化合物を分解させることにより、金属微粒子を生成できる。このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち現像して金属微粒子を含むパターンを形成し、無電解めっき処理することにより無電解めっきパターンを形成することもできる。 （もっと読む）