【課題】レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物、および当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】ポリシロキサンは、−（Ｓｉ（Ｒ）Ｏ_２）−〔Ｒは、−Ｒ^１ＮＨＳＯ_２Ｒ^２基であり、Ｒ¹ およびＲ² は置換されていてもよい直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基（但し、Ｒ² はフッ素原子をもたない。）を示す。〕で表される構造単位を有し、好ましくはさらに−（Ｓｉ（Ｒ^３ＣＯＯＲ^４）Ｏ_２）−〔Ｒ^３は環状２価炭化水素基、Ｒ^４は１価の酸解離性基を示す〕で表される構造単位を有する。 （もっと読む）

【課題】より高い配向秩序を有する有機半導体膜を、より簡便且つ効率よく形成できる有機半導体装置形成用基板、この基板を用いる有機半導体装置、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成されたゲート電極と、該ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に形成された有機薄膜とを有する有機半導体装置製造用基板であって、前記有機薄膜が、式（１）：Ｒ_ｎ−Ｓｉ−Ｘ_４−ｎ（式中、Ｒは置換基を有していてもよいＣ１〜２０の炭化水素基等を、Ｘは水酸基等を、ｎは１〜３の整数を表す。）で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機薄膜形成用溶液から形成された有機薄膜であることを特徴とする有機半導体装置製造用基板、この基板に、ソース電極、ドレイン電極、半導体膜および保護膜を有する有機半導体装置、並びにこの有機半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 透明基板の表面上に設けた際に十分な機械強度を有するシリカ系被膜を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決するシリカ系被膜は、透明基板上に形成するためのシリカ系被膜であって、その弾性率が５ＧＰａ以上であるものである。 （もっと読む）

外部触媒不含であって、かつシラン縮合物を含有する、自触媒により熱硬化可能な組成物に関し、この場合、これらのシランは、加水分解可能な原子および／または加水分解可能な基および（ｉ）エポキシド基を含有し、かつイソシアネートアダクト基を含有しない非加水分解性の基ならびに（ａ）二価の結合−ＮＨ−Ｃ（Ｘ）−Ｘおよび／または−Ｘ−（Ｘ）Ｃ−ＮＨ−ウレタン基、（ｂ）二価の結合−ＨＮ−Ｃ（Ｘ）−ＮＨ−尿素基、および／または（ｃ）一価の、末端Ｙ−Ｃ（Ｘ）−ＮＨ−基［式中、可変の基Ｘが酸素原子または硫黄原子を示し、その一方でＹはイソシアネート基のためのブロッキング剤の基を示す］を有するエポキシド基不含の非加水分解性の基であるか、（ｉｉ）エポキシド基および基（ａ）、（ｂ）および／または（ｃ）を有する非加水分解性の基であるか、あるいは、（ｉｉｉ）イソシアネートアダクト基を含有することなく、エポキシド基を含有する非加水分解性の基、基（ａ）、（ｂ）および／または（ｃ）を有する、エポキシド基不含の非加水分解性の基、およびエポキシド基および基（ａ）、（ｂ）および／または（ｃ）を有する非加水分解性の基を含有する。さらに、本発明による、自触媒により熱硬化可能な組成物を製造するための方法および熱硬化材料を製造するためのその使用に関する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式(1)


(Yは官能基を有してもよい脂肪族有機基、又は官能基を有してもよい芳香族構造を含む有機基、X¹，X²，X³はH、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアリーロキシ基を示す。)
で示される側鎖に嵩高い置換基を有する3官能性シランを含むシラン原料を酸又は塩基を触媒とする第1段の加水分解後、第2段として上記シラン原料に強塩基触媒の存在下、縮合による生成する水を反応系外に除去する操作を伴う脱水縮合反応を行う側鎖に嵩高い置換基を有する縮合度100％であるシルセスキオキサン型化合物高含量のシルセスキオキサン系化合物混合物の製造方法。
【効果】本発明によれば、嵩高い置換基を有する縮合度が実質的に100％であるシルセスキオキサン型化合物の存在比の高いシルセスキオキサン系化合物混合物を容易かつ確実に得ることができ、この混合物は、ポジ型レジスト組成物に好適な材料である。 （もっと読む）

【課題】前記の欠点を有さず、シラノール側基で官能化されたオルガノポリシロキサンの選択的な合成を可能にする方法を提供する。
【解決手段】シラノール基を有する有機ケイ素化合物を製造するにあたり、ＳｉＨ基を有する有機ケイ素化合物（Ａ）を、周期律表の第ＶＩＩＩ副族の金属及びそれらの化合物の群から選択される触媒（Ｂ）の存在下に、かつ場合により助触媒（Ｋ）の存在下に、水（Ｃ）と反応させる。 （もっと読む）

【課題】生成物中に残留しない触媒を用いて、生成物の後加工または使用の場合に望ましくない効果をまねくことのない、櫛状にトリオルガノシロキシ基で官能化された線状オルガノポリシロキサンの選択的な合成を可能にする方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）のトリオルガノシロキシ基を有するオルガノポリシロキサンを製造する方法の場合に（ａ）第１の工程で一般式（ＩＩ）のＳｉＨ基を有するオルガノポリシロキサン（Ａ）を周期律表の第ＶＩＩＩ副族の金属およびその化合物の群から選択された触媒（Ｂ）の存在下および場合によっては助触媒（Ｋ）の存在下で水と反応させ、一般式（ＩＩＩ）のＳｉ−ＯＨを有する中間生成物に変え、（ｂ）第２の工程でこうして得られたＳｉＯＨ基を有する中間生成物をＳｉＯＨ基に対して反応性の基を有するシラン（Ｄ）と反応させる。 （もっと読む）

【解決手段】ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_a（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_bＲ
（Ｒは水素原子、又はＣ１〜１０のアルキル基、アシル基もしくは炭素数２〜１０のアルケニル基、ａは０〜５０、ｂは０〜５０、１≦ａ＋ｂ≦１００。）
で表されるポリオキシアルキレンアリルエーテルとオルガノハイドロジェンポリシロキサンとを白金系触媒存在下で反応させて、ポリオキシアルキレン−オルガノポリシロキサン共重合体の製造方法において、ＣＰＲ値０．５未満のポリオキシアルキレンアリルエーテルを用いるか、または、ＣＰＲ値５未満のポリオキシアルキレンアリルエーテルを用い、反応前に酸又は酸の溶液を添加する。
【効果】本発明では、反応性が向上し、溶剤や他の添加剤を実質的に添加せず、添加量を最小限に抑え、ポリオキシアルキレン−オルガノポリシロキサン共重合体を製造することができる。 （もっと読む）

本発明は、電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンを提供する。即ち本発明は、式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサンである。

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【課題】 誘電率が低く、機械的強度が高い絶縁材料を提供できる化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁膜などの絶縁材料を提供する。
【解決手段】 アダマンタン構造に連結基を介してケイ素を含有する基が置換した特定の化合物を加水分解及び／または縮合して得られるケイ素酸素架橋化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁材料。 （もっと読む）

一般式Ｉ：
（Ｒ^１Ｏ−）_ｍＳｉ（−Ｒ^Ｘ−ＮＲ^２Ｒ^３）_４−ｍ Ｉ
［式中、基−ＮＲ^２Ｒ^３内の少なくとも１つの窒素基はＲ^Ｚ基に直接結合しており、そしてＲ^Ｚは−（Ｃ＝Ｏ）Ｒ^４もしくは−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ^５である］
の少なくとも１つのモノマーから形成されるオリゴマーもしくはポリマー物質を含んでなる塗料用の水性結合剤組成物。 （もっと読む）

式（Ｉ）で表されるシリコーンワックス。


Ｒ^１：Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、
アラルキル基、フッ素置換アルキル基の何れか
Ｒ^２：下記の（ジ）ペンタエリスリトールポリベヘネート残基を含む基


ｐ，ｑ：０〜２００、ｒ，ｓ：０〜３、但し０≦ｐ＋ｑ≦２００、１≦ｑ＋ｒ＋ｓである。
（もっと読む）

【課題】 優れた紫外線吸収性を示し、アルコキシシリル基を有する新規な紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びに耐熱性及び耐水性に優れ、該化合物を安定にコーティング膜中に保持することが可能なコーティング組成物、及びこの組成物の硬化皮膜にて被覆してなる被覆物品を提供する。
【解決手段】 式（１）又は（２）の紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物。
【化１】


［Ｒ¹はアルキル基又はアリール基、Ｒ²はアルキル基、Ｒ³¹は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基又はアシロキシ基、Ｒ³²〜Ｒ³⁴は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基、Ｒ³⁵はエステル結合含有二価有機基、Ｒ³⁶は二価炭化水素基、ａは０〜２、Ｚは式（３）
【化２】


の基、Ｒは水素原子又は一価炭化水素基、Ｒ²はアルキル基、０＜ｍ≦１、０≦ｎ≦２、０≦ｐ＜３、０≦ｑ≦３、０＜ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＜４］ （もっと読む）

【課題】 超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を効率良く中和できる、オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】 トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸等の超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を、塩化ナトリウム、塩化カリルム等のアルカリ金属のハロゲン化物またはアルカリ土類金属のハロゲン化物で中和し、生成した中和塩およびハロゲン化水素を分離することを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を中和後、残存する該超強酸を効率良く除去できる、オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】 トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸等の超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸アンモニム、炭酸水素アンモニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等炭酸塩またはアンモニアで中和し、次いで該オルガノポリシロキサンをハイドロタルサイト類｛該オルガノポリシロキサン１００重量部に対して０.０１〜１重量部（但し、１重量部を含まない。）となる量｝で処理することを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐熱水性を付与する透明な熱硬化型オルガノシロキサン樹脂塗料の調製方法、および該塗料で表面を保護されたポリカーボネート樹脂成形体を提供する。
【解決手段】 コロイダルシリカと下記式（１）で表わされるアルコキシシランの加水分解物とを縮合反応させたオルガノシロキサン樹脂塗料を調製するにあたり、シリカ微粒子の平均粒子径が１０〜７０ｎｍであり、且つその粒子径に基づく変動係数が２０〜４０％になるように反応させることを特徴とす調製方法。


（但し、式中Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、またはメタクリロキシ基、アミノ基、グリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ^３は炭素数１〜４のアルキル基、ｍ、ｎはそれぞれ０、１、２のいずれかの整数、ｍ＋ｎは０、１、２のいずれかの整数である） （もっと読む）

【課題】優れた透明性や耐熱性を有し、界面で剥離を生じたり内部にクラックを発生させず、優れた形状精度を有するエッチングマスクを安価に形成する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）：（Ｒ^１）_ｐ（Ｒ^２）_ｑＳｉ（Ｘ）_{４−ｐ−ｑ}（式中、Ｒ^１はフッ素原子を含有する炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基、Ｒ^２は炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基（ただし、フッ素原子を含有するものを除く。）、Ｘは加水分解性基、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は１の整数である。）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解物及び該加水分解物の縮合物からなる群より選ばれる少なくとも一種以上、および（Ｂ）光酸発生剤を含有し、かつ、全Ｓｉ上の結合基に占めるシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）基の含有率が１０〜５０％であるエッチングマスク組成物によって、基板１上にエッチングマスク５を形成する。 （もっと読む）

【解決手段】 酸存在下、極性溶媒を含む溶媒中で、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランと水を反応させることを特徴とする下記一般式（２）で表されるかご状オリゴシロキサンを製造する方法。
Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃ （１）
（Ｒ¹ＳｉＯ_3/2）_n（Ｒ¹ＳｉＯ₂Ｈ）₃ （２）
（一般式（１）及び（２）において、Ｒ¹は水素原子、炭素原子数１〜２０の置換又は非置換の炭化水素基又はケイ素原子数１〜１０のケイ素原子含有基から選ばれる。ＯＲ²は炭素原子１〜６のアルコキシル基である。ｎは２〜１０の整数である。）
【効果】 本発明によれば、酸存在下極性溶媒を含む溶媒中でアルコキシシランを水と反応させることで、高純度かつ容易に目的とするシラノール基を有するかご状オリゴシロキサンを製造できる。また、本発明で製造したかご状オリゴシロキサンは、新規な電子材料、光学材料、電子光学材料、触媒担体、又は樹脂改質剤の反応中間原料として極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ′は炭素数１〜３のアルキル基、ｍは０、１または２を意味する）で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する１価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表されるかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー。
【化１】


（式中、Ｘは酸素原子を含有する炭素数１〜４０の重合性基を表す。Ｒ¹は同一でも異なってもよく、炭素数１〜２０の飽和炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜２０のオルガノキシ基、ハロゲン原子の中から選ばれる基を表す。Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜４０の非重合性一価炭化水素基を表し、同一ケイ素原子に結合したＲは互いに同一でも異なっていてもよい。）
【効果】 本発明により、溶媒や他の重合性モノマーとの相溶性を改善した新規なかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー及びその製造方法が提供される。また本発明の製造方法によれば、かご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマーが一段階で高純度かつ高収率で得られる。 （もっと読む）