【課題】半導体装置用の有機シリカ系膜と，その形成方法を提供する。
【解決手段】形成方法は、絶縁膜形成用組成物を基板に塗布する工程、前記塗膜を加熱する工程、前記塗膜に熱と紫外線を照射して硬化処理を行う工程とを含む。前記絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）〜（４）で表される化合物の加水分解縮合物で、炭素原子を１１．８〜１６．７モル％含有する有機シリカゾル、有機溶媒とを含む。 Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３ ・・・・・（１） Ｓｉ（ＯＲ^３）_４ ・・・・・（２） （Ｒ^４）_２Ｓｉ（ＯＲ^５）_２ ・・・・・（３） Ｒ^６_ｂ（Ｒ^７Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^１０）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^８）_３−ｃＲ^９_ｃ・・・（４） 〔式中、Ｒ^１〜Ｒ^９は、それぞれアルキル基またはアリール基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜２の数を示し、Ｒ^１０は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒と、有機酸及び／又は無機酸とを含有してなる放射線硬化性組成物であり、非プロトン性溶媒がエーテルアセテート系溶媒又はエーテル系溶媒を含むものである。 （もっと読む）

固体樹脂に対して弗素含有率約５〜７５質量％を有する、多孔質及び非孔質基材の永久的表面処理のための液状弗素含有組成物が記載されており、これは、差し当たりａ）ペルフルオロアルキル−成分（Ａ）を製造し、ｂ）反応の前、間及び後に、工程ａ）からのペルフルオロアルキル−成分（Ａ）約５〜１００質量部を、溶剤−成分（Ｋ）約０〜１００質量部中に溶解させ、ｃ_１）場合により、工程ａ）又はｂ）からのペルフルオロアルキル−成分（Ａ）を、アミノアルキルアルコキシシラン−成分（Ｅ）（ｉ）及び／又はアミノシラン−成分（Ｅ）（ｉｉ）約０〜５０質量部の存在下に、水約１〜５０質量部を用いて（部分的に）加水分解又はシラノール化し、ｃ_２）このアミノ官能性付加生成物を、酸−成分（Ｌ）約５〜５０質量部を用いて第４級化（直接中和）し、ｃ_３）場合により遊離アルコール及び／又は溶剤−成分（Ｋ）を除去し、ｄ_１）工程ｃ）からの反応生成物を、引き続き又は同時に水約５０〜１０００質量部中に溶かし、かつオリゴマー化し、ｄ_２）場合により遊離アルコール及び／又は溶剤−成分（Ｋ）を除去し、ｅ）この際、場合により工程ａ）及び／又はｂ）及び／又はｃ）及び／又はｄ）の間又は後に、任意の方法で、配合−成分（Ｍ）約０〜５０質量部を添加し、かつ／又は官能化−成分（Ｎ）約０〜５０質量部を添加する及び／又は共に反応させることによって得られている。このようにして、鉱物質及び非鉱物質基材の永久的な撥油性、撥水性及び汚れ拒絶性表面処理又は変性のための、水蒸気通過性の被覆系が入手されている。更に、本発明による液状弗素含有組成物は、技術水準に相応する生成物と比べて、同じかつ低い弗素含有率で、明らかに良好な使用技術的特性を有している。 （もっと読む）

アミノ官能性シロキサンポリマーの粘度を安定化する方法であって、前記アミノ官能性シロキサンポリマー又は前記アミノ官能性シロキサンポリマーが生成する試薬にジアルコキシジアルキルシランを添加することを含む方法。 （もっと読む）

【課題】 金属アルコキシドのような加水分解性金属官能基を有するポリマーの硬化物を得る方法であって、高価な装置を必要とせず、紫外線や電子線などを長時間に渡って照射する必要がなく、さらに速やかに硬化物を得ることを可能とする架橋ポリマーの製造方法、並びに該製造方法により得られた架橋ポリマーを提供することにある。
【解決手段】 金属原子に加水分解性の官能基が結合されている加水分解性金属官能基を有するポリマー（Ａ）を、活性酸素を発生させる物質（Ｂ）の存在下で硬化させる、加水分解性官能基を有するポリマーの架橋ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

本発明は、粒状物およびモノリス、その製造方法、およびその使用、例えば、クロマトグラフィー分離材料を含む多孔性無機／有機の均質な共重合体ハイブリッド材料に関する。 （もっと読む）

本発明は、（ｉ）一般式Ｉ［Ｆ］_ｅ［Ｑ_ｃＰ_ｂ］_ｄ （Ｉ）のオルガノ官能性シロキサンの少なくとも１種のブロック縮合物および／または（ｉｉ）ｅ［Ｆ］およびｄ（ｃ［Ｑ］＋ｂ［Ｐ］）から成る少なくとも１種の混合物であり、かつ適切である場合にはｄ［ＱｃＰｂ］を含有する組成物に関する。前記組成物またはブロック縮合物は、ブロック単位Ｆとブロック単位Ｑ、Ｐおよび／またはＱＰとの反応によって得ることが可能であり、この場合、これらは以下の方法の一つによる：−ｃ１）ブロック単位Ｆを、場合によってはアルコールで希釈し、有機または無機酸および使用されたシロキサンＳｉの１モルに対して０．５〜１５０ｍｏｌの水を添加し、これにより、使用されたブロック単位の少なくとも部分的な加水分解が生じ、その後にブロック単位Ｑおよびブロック単位Ｐを添加し、かつ混合物を反応させるか、あるいは、−ｃ２）ブロック単位Ｆを、場合によってはアルコールで希釈し、Ｑ、Ｐおよび／またはブロック単位ＱＰと混合し、その後に、有機または無機酸を添加し、使用されたシロキサンのＳｉ１モルに対して０．５〜１５０モルの水を使用して、部分加水分解およびブロック縮合をおこなうか、あるいは、−ｃ３）ブロック単位Ｆを、場合によってはアルコールで希釈し、有機または無機酸および使用されたシロキサンＳｉ１モルに対して０．５〜１５０モルの水を添加し、その際、少なくとも部分的に加水分解が生じ、ブロック単位ＱＰを添加し、かつ混合物を反応させるか、あるいは、−ｃ４）ブロック単位Ｑ、Ｐおよび／またはＱＰを、場合によってはアルコールで希釈し、有機または無機酸および使用されたシロキサンのＳｉ１モルに対して０．５〜１．５モルの水を添加し、かつ少なくとも部分的に加水分解し、その後にブロック単位Ｆおよびさらには使用されたシロキサンのＳｉ１モルに対して０〜１４８．５モルの水を添加し、かつ混合物を反応させるか、あるいは、−ｃ５）ブロック単位Ｆを場合によってはアルコールで希釈し、使用されたシロキサンのＳｉ１モルに対して０．５〜１５０モルの水および有機または無機酸と混合し、その後にテトラアルコキシシランを添加し、混合物を反応させる。さらに本発明は、前記組成物またはブロック縮合物を製造するための方法およびその使用ならびにこれによって得ることが可能な製品、耐摩耗性ｅａｓｙ−ｃｌｅａｎ被覆およびこの型の被覆を備えた製品に関する。 （もっと読む）

本発明は、シロキサンコポリマーを製造するための方法に関し、この場合、この方法は、第１の工程において、式Ｒ^７Ｏ−ＳｉＲ^１_２−Ｒ^６−ＮＨＲ^２ （Ｉ）
のオルガニルオキシシランを、式Ｒ^３（ＮＣＯ）_ｘ （ＩＩ）のイソシアネートと一緒に反応させ、式Ｒ^３（ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＲ^２−Ｒ^６−ＳｉＲ^１_２−ＯＲ^７）_ｘ （ＩＩＩ）の尿素化合物を形成する（基および指数については、請求項１に示す）。場合によっては、第２の工程において、式（ＩＩＩ）の尿素化合物を水と反応させ、かつ第３の工程において、式（ＩＩＩ）の尿素化合物および／または第２の工程から得られた反応生成物を、式（ＩＶ）Ｒ^５（ＳｉＲ^４_２−ＯＨ）_ｙのシラノール末端化合物と反応させ、コポリマーを形成する（基および指数については、請求項１に示す）。 （もっと読む）

本発明のポリマーの製造方法は、１種以上の（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランのうち少なくとも１種が、以下のポリカルボシラン（Ｉ）である。
（Ｉ）下記一般式（１）で表される化合物をアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下に反応させて得られる、重量平均分子量５００以上のポリカルボシラン（Ｉ）：
Ｒ^１_ｍＹ_３−ｍＳｉＣＲ^２_ｎＸ_３−ｎ ・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は同一または異なり、それぞれ１価の有機基または水素原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、ｋは０〜３の整数を示し、ｍおよびｎは同一または異なり、０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

基材上に改良された被膜を形成させる方法を提供しようとするものであり、特に、基材上に、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示し、かつ当該基材の表面に密着して形成された被膜を提供する。
Ｓｉ（ＯＲ）₄で示される珪素化合物（Ａ）と、（Ｒ¹Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）_nＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＲ¹）₃で示される珪素化合物（Ｂ）と、Ｒ²ＣＨ₂ＯＨで示されるアルコール（Ｃ）と、蓚酸（Ｄ）とを特定比率に含有する反応混合物を水の不存在下に５０〜１８０℃で加熱することにより、ポリシロキサンの溶液を生成させ、当該溶液を含有する塗布液を基材表面に塗布し、その塗膜を８０〜４５０℃で熱硬化させることにより当該基材表面に密着して形成され、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示す被膜、その被膜の形成方法及びその塗布液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 １９３ｎｍ以下の波長にて改善された透明性を有し、像ぼやけを最小にする、レジスト組成物及びフォトリソグラフィ・プロセスに有用な改善されたシルセスキオキサン・ポリマー構造を提供すること。
【解決手段】 本発明は、シルセスキオキサン・ポリマーと、こうしたシルセスキオキサン・ポリマーを含有するレジスト組成物を提供するものであり、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部はフッ素化部分を有し、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部は、酸触媒による開裂反応のための活性化エネルギーが低く、光学密度の高い部分の存在を最小化又は回避する、溶解抑制型ペンダント酸不安定部分を有する。本発明のポリマーはまた、水性アルカリ溶液中でのレジストのアルカリ溶解を促進するペンダント極性部分を有する。本発明のポリマーは、ポジ型レジスト組成物に特に有用である。本発明は、基板にパターン形成された構造体を形成する際にこうしたレジスト組成物を用いる方法、特に多層（例えば二層）フォトリソグラフィ方法を包含し、この方法は１９３ｎｍ及び１５７ｎｍのような波長にて高解像度の像を生成できる。 （もっと読む）