【課題】比較的低温での硬化が可能であり、酸素存在下の光硬化によっても良好な硬化性を示し、硬化物の硬度が高く、低屈折率で優れた反射防止性能を示す硬化性樹脂組成物並びにこれを用いた積層体、および反射防止材を提供する。
【解決手段】硬化性樹脂組成物が、成分（Ａ）：無機粒子存在下において合成することにより無機粒子が重合体内に分散しているフッ素含有重合体を少なくとも１成分とする。硬化性樹脂組成物には、成分（Ｂ）：重合開始剤、及び成分（Ｃ）重合性シリカも含有させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】放射線によって硬化し、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
Ｒ_fＳｉ（ＯＲ₁）₃・・・（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物同士か、又は前記一般式（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物と下記一般式（２）Ｒ_eＳｉ（ＯＲ₂）₃・・・（２）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるフッ素原子含有ケイ素化合物（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）、幹部分がフッ素系ポリマーで、枝部分がシリコーンで構成された櫛型ポリマー（Ｃ）及びフッ素原子を有する高分子化合物（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

式：（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_mＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_n（ＭｅＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_p（ＲＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_q（式中、Ｐｈはフェニル基であり、Ｍｅはメチル基であり、Ｒはエステル基及びポリエーテル基から選択され、ｘは０、１又は２の値を有し、ｍは０．０５〜０．９５の値を有し、ｎは０．０５〜０．９５の値を有し、ｐは０．０５〜０．９５の値を有し、ｑは０．０１〜０．３０の値を有し、ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ≒１である）を有する反射防止膜を形成するのに有用なシルセスキオキサン樹脂。 （もっと読む）

電子デバイス上に反射防止膜を形成する方法であって、（Ａ）電子デバイスに、（ｉ）式（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_mＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_n（式中、Ｐｈはフェニル基であり、ｘは０、１又は２の値を有し、ｍは０．０５〜０．９５の値を有し、ｎは０．０５〜０．９５の値を有し、ｍ＋ｎ≒１である）を有するシルセスキオキサン樹脂と、（ｉｉ）溶媒とを含むＡＲＣ組成物を塗布すること、及び（Ｂ）溶媒を除去すると共に、シルセスキオキサン樹脂を硬化させて、電子デバイス上に反射防止膜を形成することを含む反射防止膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 特定構造を有するポリオルガノシロキサンを含有し、柔軟性、透明性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物は、ポリオルガノシロキサンと、エポキシ化合物と、酸無水物と、硬化触媒とを含有する硬化性組成物であって、上記ポリオルガノシロキサンは、下記式（１）で表される単位、下記式（２）で表される単位、及び、共役ジエン系重合体ブロックを含む単位を含む重合体である。


〔但し、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数２〜６のアルキレン基である。〕
［Ｒ^３−Ｓｉ−Ｏ_３／２］ （２）〔但し、Ｒ^３は有機基である。〕 （もっと読む）

【課題】 水に不溶で塩基水溶現像液に可溶な上面反射防止コーティング材料／障壁層を提供すること。
【解決手段】 上面反射防止コーティング材料（ＴＡＲＣ）及び障壁層、並びにそれらのリソグラフィ工程における使用法が開示される。ＴＡＲＣ／障壁層は、特に、画像形成媒体として水を用いる浸漬リソグラフィに対して有用である。ＴＡＲＣ／障壁層は、少なくとも１つのシリコン含有部分と少なくとも１つの塩基水溶液に可溶な部分とを備えたポリマーを含む。適切なポリマーは、構造
【化１】


を有するモノマーを含んだポリマーなど、シルセスキオキサン（梯子状又は網目状）構造を有するポリマーを含むが、ここで、Ｒ１は塩基水溶液に可溶な部分を含み、ｘは１から１．９５まで、より好ましくは１から１．７５までである。 （もっと読む）

【解決手段】 合成樹脂製透明基材の最外層に設けられたＦ原子及びＳｉ原子を含む３次元架橋された反射防止膜であり、
（Ｉ）架橋構造は、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合及びＳｉ−Ｃ₂Ｈ₄−（ＣＦ₂）_n−Ｃ₂Ｈ₄−Ｓｉ結合（ｎは４又は６）で構成されており、
（ＩＩ）反射防止膜中のＦ原子とＳｉ原子の比率がＦ／Ｓｉ＝８．０〜１０．０（モル比）、
（ＩＩＩ）Ｓｉに結合する全１価有機置換基中、−Ｃ₂Ｈ₄−（ＣＦ₂）_aＦ（ａは４，６，８，１０又は１２）で示されるパーフルオロアルキル基を９０〜１００モル％含有する
耐アルカリ性に優れる反射防止膜。
【効果】 本発明の反射防止膜及びこれが表面に形成された物品は、耐アルカリ性、耐擦傷性及び防汚性に優れたものである。 （もっと読む）

【課題】ゾル−ゲル法で製造された、オキセタン環とシルセスキオキサン構造を有するポリオルガノシロキサンを含有する、金属やセラミックのような非透明性の基材を接着でき、曲面を有するような光を均一に照射できない物品をコーティングでき、厚みのある成形体、特に厚みが数ｍｍ以上の成形体が作製可能な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を必須成分とする熱硬化性組成物。
（ａ）ゾル−ゲル法で製造された、下式（１）で示される官能基とシルセスキオキサン構造を有するポリオルガノシロキサン。
【化１】


（１）
（但し、R^０は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、R^１は炭素数２〜６のアルキレン基である。）
（ｂ）エポキシ化合物
（ｃ）熱カチオン重合開始剤
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【課題】
高分子材料改質剤や化粧品原料等として有用な、ポリシロキサン架橋構造体から成る新規の有機シリコーン微粒子を提供する。
【解決手段】
ポリシロキサン架橋構造体から成る有機シリコーン微粒子を、全体として円形リング形状を呈し、外径の平均値が０．０５〜１５μｍ、内径の平均値が０．０１〜１０μｍ、且つ外径の平均値と内径の平均値との差が０．０４〜５μｍの範囲内にあるものとした。 （もっと読む）

【課題】ケイ素―メチル基結合部位を必ず含み、かつケイ素−水素結合およびケイ素−酸素結合の両方を有するポリカルボシランおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のポリカルボシランは、ケイ素原子と炭素原子とが交互に連続してなる主鎖を有し、ＳｉＨ基含有カルボシランの繰り返し構造単位、ジメチルカルボシランの繰り返し構造単位、およびＳｉＯ基含有カルボシランの繰り返し構造単位を有する。ジメチルカルボシランとＳｉＨ基含有シランの構造単位を有する原料ポリマーに塩基性触媒の存在下で水および／またはアルコールを反応させて製造する。 （もっと読む）

【解決手段】 酸存在下、極性溶媒を含む溶媒中で、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランと水を反応させることを特徴とする下記一般式（２）で表されるかご状オリゴシロキサンを製造する方法。
Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃ （１）
（Ｒ¹ＳｉＯ_3/2）_n（Ｒ¹ＳｉＯ₂Ｈ）₃ （２）
（一般式（１）及び（２）において、Ｒ¹は水素原子、炭素原子数１〜２０の置換又は非置換の炭化水素基又はケイ素原子数１〜１０のケイ素原子含有基から選ばれる。ＯＲ²は炭素原子１〜６のアルコキシル基である。ｎは２〜１０の整数である。）
【効果】 本発明によれば、酸存在下極性溶媒を含む溶媒中でアルコキシシランを水と反応させることで、高純度かつ容易に目的とするシラノール基を有するかご状オリゴシロキサンを製造できる。また、本発明で製造したかご状オリゴシロキサンは、新規な電子材料、光学材料、電子光学材料、触媒担体、又は樹脂改質剤の反応中間原料として極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンと反射防止膜とのエッチングレートの差を大きくできる反射防止膜形成用材料を提供する。
【解決手段】 （Ａ）光吸収化合物基を含有するシロキサンポリマーを含むことを特徴とする反射防止膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】かご型構造のシルセスキオキサン骨格を主鎖に有する重合体を提供すること。シルセスキオキサン骨格を主鎖に導入することにより、任意に分子量等を制御でき、その特性を活かすことができる。
【解決手段】式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体。この式において、Ｒ^０は水素、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはアリールアルキルであり、Ｙは式（ａ）または式（ｂ）で示される基である。これらの式のそれぞれにおいて、Ｘの少なくとも１つは水素、塩素または反応性の有機基であり、式（ｂ）におけるＺは−Ｏ−、−ＣＨ_２−または単結合である。


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(A)少なくとも1個のシラノール基を有する少なくとも1種のケイ素含有化合物と(B)少なくとも1個の-OR基を有する少なくとも1種のケイ素含有化合物を、(C)反応の進行を可能にするものとして選択されたカルシウムまたはマグネシウム触媒、および(D)少なくとも1種の溶媒の存在下で互いに反応させることを含む有機ケイ素縮合物の製造方法。有利な触媒として、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化マグネシウムまたは酸化マグネシウムがある。有利には、溶媒は、水、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノールなどのプロトン性溶媒とすることができる。本発明は、この方法によって調製されたシロキサンなどの縮合物にも関する。 （もっと読む）

【課題】
光学デバイス・光学部品用材料、電子デバイス・電子部品用絶縁材料、コーティング材料等に有用な硬化性シリコーン樹脂組成物であって、耐熱性、耐光性および耐クラック性に優れた硬化物を与える組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）(a)ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に３個以上有するシロキサン系化合物と、(b)付加反応性炭素−炭素二重結合を１分子中に２個有する多環式炭化水素との付加反応生成物であって、かつケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個以上有するシロキサン−多環式炭化水素系化合物、
（Ｂ）１分子中にアクリロイル基および／またはメタクリロイル基を合計２個以上有する有機化合物、
（Ｃ）ヒドロシリル化反応触媒、ならびに
（Ｄ）ヒンダードアミン化合物、
を含有する硬化性シリコーン樹脂組成物。 （もっと読む）

基材上に改良された被膜を形成させる方法を提供しようとするものであり、特に、基材上に、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示し、かつ当該基材の表面に密着して形成された被膜を提供する。
Ｓｉ（ＯＲ）₄で示される珪素化合物（Ａ）と、（Ｒ¹Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）_nＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＲ¹）₃で示される珪素化合物（Ｂ）と、Ｒ²ＣＨ₂ＯＨで示されるアルコール（Ｃ）と、蓚酸（Ｄ）とを特定比率に含有する反応混合物を水の不存在下に５０〜１８０℃で加熱することにより、ポリシロキサンの溶液を生成させ、当該溶液を含有する塗布液を基材表面に塗布し、その塗膜を８０〜４５０℃で熱硬化させることにより当該基材表面に密着して形成され、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示す被膜、その被膜の形成方法及びその塗布液の製造方法。 （もっと読む）