【課題】 飽和磁束密度、非晶質性および耐候性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金において、マグネトロンスパッタ時に効率良く使用できるターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、ＴａおよびＢの２種以上を含有し、残部ＣｏおよびＦｅ、ならびに不可避的不純物よりなり、下記式１および式２を満足し、相対密度９９％以上であることを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材。
０．６０≦Ｆｅ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）≦０．６５（ａｔ．％比） … （１）
５ａｔ％≦（Ｚｒ＋Ｈｆ＋Ｎｂ＋Ｔａ）＋Ｂ／２≦１０ａｔ％ … （２）
ただし、Ｂ：７％以下とする。 （もっと読む）

【課題】面内均一性に極めて優れたＡｇ系薄膜を形成するのに有用なＡｇ系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ａｇ系スパッタリングターゲットのスパッタリング面の平均結晶粒径ｄ_aveを下記手順（１）〜（３）によって測定したとき、平均結晶粒径ｄ_aveは１０μｍ以下を満足する。（手順１）スパッタリング面の面内に任意に複数箇所を選択し、選択した各箇所の顕微鏡写真（倍率：４０〜２０００倍）を撮影する。（手順２）各顕微鏡写真について、井桁状または放射線状に４本以上の直線を引き、直線上にある結晶粒界の数ｎを調べ、各直線ごとに下式に基づいて結晶粒径ｄを算出する。ｄ＝Ｌ／ｎ／ｍ式中、Ｌは直線の長さ、ｎは直線上の結晶粒界の数、ｍは顕微鏡写真の倍率を示す。（手順３）全選択箇所の結晶粒径ｄの平均値をスパッタリング面の平均結晶粒径ｄ_aveとする。 （もっと読む）

【課題】 ２８０℃以下の低温で接合が可能なＡｕ−Ｓｎ合金はんだペーストであって、かつこのペーストにより形成されたＡｕ−Ｓｎ合金はんだは、Ｓｎ−Ａｇ系鉛フリーはんだによるセカンドリフロー時にも溶融しない。ＬＥＤ素子にやさしい接合が可能でかつ、セカンドリフロー時にも溶融することがなく、低Ａｕ化による材料コスト低減を可能とするＡｕ−Ｓｎ合金はんだペーストを提供する。
【解決手段】 ＡｕとＳｎとの合計１００質量部に対して、Ｓｎを５５〜７０質量部含むＡｕ−Ｓｎ混合粉末と、（Ｂ）フラックスとを含み、成分（Ａ）が、（Ａ１）ＡｕとＳｎとの合計１００質量部に対して、Ｓｎを１８〜２３．５質量部含むＡｕ−Ｓｎ合金はんだ粉末、および（Ａ２）ＡｕとＳｎとの合計１００質量部に対して、Ｓｎを８８〜９２質量部含むＡｕ−Ｓｎ合金はんだ粉末を含む。 （もっと読む）

【課題】金属粉末の製造方法、それにより製造された金属粉末、および金属粉末製造装置において、脱酸素された金属粉末を効率的に製造することができるようにする。
【解決手段】金属粉末製造装置１により、粉末化する金属を溶融する金属溶融工程と、カルシウムとハロゲン化カルシウムとを加熱し溶解させ、混合溶融物を形成する混合溶融物形成工程と、金属溶融工程で溶融された金属を流下ノズル４から流下させ、混合溶融物形成工程によって形成された混合溶融物を加圧して、流下された金属に吹き付けて、粒子化された金属２０Ａを形成する混合溶融物吹き付け工程と、混合溶融物吹き付け工程によって金属に吹き付けられた混合溶融物を、金属の表面から除去する除去工程とを備える金属粉末の製造方法を行って、金属粉末を製造する。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−（Ｓｉ，Ｂ）系中間層膜製造用スパッタリングターゲット材および薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、Ｗを１〜２０％、ＳｉおよびＢを総量として０．１〜１０％含み、残部Ｎｉからなる垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−（Ｓｉ，Ｂ）系中間層膜を製造するスパッタリングターゲット材。また、上記ＳｉおよびＢの組成比が２：８〜６：４である、スパッタリングターゲット材、および薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜にある。 （もっと読む）

【課題】結晶組織が粗くコスト高となる溶湯金属の急冷によるバルク金属ガラスに替えて、焼結法による高密度の極微細で均一な組織を有するターゲットを提供する。
【解決手段】非晶質又は平均結晶子サイズが５０ｎｍ以下の組織を備えている焼結体パッタリングターゲット、特に３元系以上の合金からなり、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、希土類金属から選択した少なくとも１元素を主成分とする焼結体パッタリングターゲットに関し、該ターゲットを、アトマイズ粉を焼結することによって製造する。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−Ｐ，Ｚｒ系中間層膜用合金および薄膜製造用スパッタリングターゲット材、およびこれを用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、Ｗを１〜２０％、Ｐおよび／またはＺｒを合計０．１〜１０％を含み、残部Ｎｉからなる垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−Ｐ，Ｚｒ系中間層膜製造用スパッタリングターゲット材。また、上記スパッタリングターゲット材はガスアトマイズ法により作製した原料粉末を固化成形したもの、およびそれら上記スパッタリングターゲット材を用いて製造したＮｉ−Ｗ−Ｐ，Ｚｒ系薄膜。 （もっと読む）

【課題】結晶組織が粗くコスト高となる溶湯金属の急冷によるバルク金属ガラスに替えて、焼結法による高密度の極微細で均一な組織を有するターゲットを提供する。
【解決手段】非晶質又は平均結晶子サイズが５０ｎｍ以下の組織を備えている焼結体パッタリングターゲット、特に３元系以上の合金からなり、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、希土類金属から選択した少なくとも１元素を主成分とする焼結体パッタリングターゲットに関し、該ターゲットを、アトマイズ粉を焼結することによって製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来技術にはない観点にたち、低コストで焼結部品軽量化の要請に応える軽量焼結部材を製造するために好適な原料粉を提供する。
【解決手段】成分組成が、質量％で、Ｃ：０．０１％以下、残部鉄及び不可避不純物からなり、粒子内部に空孔を有し、平均粒子径が５０μｍ以上、５００μｍ以下、粒子の平均肉厚が１０μｍ以上、平均粒子径の１／５以下であることを特徴とする中空鉄粉。 （もっと読む）

【課題】所定粒径の微細金属粉末を粒度のバラツキ少なく製造できるとともに、直径の異なる微粉を効率よく製造できる微粉製造装置を提供する。
【解決手段】溶融金属流出用の溶湯ノズル１と高圧ガス噴射用のガスノズル２とを有し、高圧ガスで溶融金属を吸引して霧状に噴霧し金属微粉を製造する二流体ノズル構造の金属微粉製造用スプレーであって、溶湯ノズルには、流出量を調整するニードル弁８が配設されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】ＴｉＡｌ金属間化合物基合金の欠点である常温での切削性や延性を改善し、均質で微細組織に優れた材料特性とし、最終製品に近い形状で完全に緻密な金属の焼結体を再現性良く得られるＴｉＡｌ金属間化合物基合金の粉末焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】ＴｉＡｌ金属間化合物を主成分とする合金を溶解し、前記溶解で得られる液滴を急冷凝固させて金属粉末を得、前記金属粉末を缶に入れて後に真空排気し、前記缶の全体を熱間等方加圧処理により加熱及び加圧して粉末焼結体を製造する。 （もっと読む）

【課題】微細で粒径が揃った金属粉末を、効率よく製造可能な金属粉末製造装置、およびかかる金属粉末製造装置により製造された高品質な金属粉末を提供すること。
【解決手段】金属粉末製造装置（アトマイザ）１は、溶融金属Ｑをアトマイズ法により粉末化して、多数の金属粉末Ｒを得るために用いられるものである。この金属粉末製造装置１は、溶融金属Ｑを供給する供給部（タンディシュ）２と、供給部２の下方に設けられたノズル３と、供給部２とノズル３との間に設けられた筒状部材１０を有している。この筒状部材１０は、吐出口２３から吐出された溶融金属Ｑを、その内部（内腔部）を通過させ、その後、流体ジェットＳ１に接触させるよう構成されている。また、筒状部材１０は、その上端が供給部２に気密的に接続され、一方、その下端が溶融金属Ｑが通過する第１の流路３１の途中に位置するよう配設されている。 （もっと読む）

【課題】オリフィスから噴射される液体の流速を確実にほぼ一定に維持することができる金属粉末製造装置を提供すること。
【解決手段】金属粉末製造装置１Ａは、溶融金属Ｑを供給する供給部と、供給部の下方に設置され、供給部から供給された溶融金属Ｑが通過可能であり、内径が下方に向って漸減する内径漸減部３３を有する第１の流路３１と、第１の流路３１の下端部に開口し、第１の流路３１に水Ｓを噴射するオリフィス３４とが形成されたノズル３とを有している。このノズル３は、オリフィス３４を画成する、第１の部材４と、第１の部材４の下方に間隙３７を介して設置された第２の部材５とを備え、第１の部材４の内径漸減部３３付近には、温度上昇することにより内径漸減部３３付近を変形させ、これにより、オリフィス３４を通過する水Ｓの圧力によるオリフィス３４の拡大を規制する規制手段としての吸熱体６が設置されている。 （もっと読む）

【課題】オリフィスから噴射される流体の流速を確実にほぼ一定に維持することができる金属粉末製造装置を提供すること。
【解決手段】金属粉末製造装置１Ａは、溶融金属Ｑを供給する供給部２と、供給部２の下方に設置され、供給部２から供給された溶融金属Ｑが通過可能であり、内径が下方に向って漸減する内径漸減部３３を有する第１の流路３１と、第１の流路３１の下端部に開口し、第１の流路３１に流体を噴射するオリフィスとが形成されたノズル３とを有している。このノズル３は、オリフィスを画成する、第１の部材４と、第１の部材４の下方に間隙３７を介して設置された第２の部材５とを備え、ノズル３には、オリフィスを通過する流体の圧力によりオリフィスが拡大することを規制するクランプ６Ａが設置されている。 （もっと読む）

【課題】一定のサイズの微小球体を形成することにより、安定した性能を発揮させることのできる多孔質膜形成装置及び多孔質膜形成方法を提供する。
【解決手段】液体有機金属化合物または液体有機ケイ素化合物を含む微小球体原料１１を微粒子化して液状微粒子１５とする。そして、前記液状微粒子１５を加熱して前記液体有機化合物または前記液体有機ケイ素化合物を分解したのち、冷却して微小球体１５ｂを形成する。これを半導体ウエハ１８に付着させて、微小球体１５ｂからなる多孔質膜１７を形成する。 （もっと読む）

【課題】 高硬度、高靱性で安価な鉄基高硬度ショット材を提供する。
【解決手段】 アトマイズ法または急冷リボン粉砕法により製造した、面積率で５０〜９０％のＦｅ₂ Ｂ系鉄基硼化物と１０〜５０％のｂｃｃおよび／またはｆｃｃの鉄基固溶体よりなる、Ｂ：５〜８質量％を含む鉄基高硬度ショット材。また、上記Ｆｅ₂ Ｂ系鉄基硼化物をｂｃｃおよび／またはｆｃｃの鉄基固溶体が取り囲んだミクロ組織、またはＦｅ₂ Ｂ系鉄基硼化物をｂｃｃおよび／またはｆｃｃの鉄基固溶体とＦｅ₂ Ｂ系鉄基硼化物の共晶物が取り囲んだミクロ組織を有する鉄基高硬度ショット材。 （もっと読む）

平均結晶子サイズが１ｎｍ〜５０ｎｍの組織を備えている焼結体パッタリングターゲット、特に３元系以上の合金からなり、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、希土類金属から選択した少なくとも１元素を主成分とする焼結体スパッタリングターゲットに関し、該ターゲットを、アトマイズ粉を焼結することによって製造する。結晶組機が粗くコスト高となる溶湯金属の急冷によるバルク金属ガラスに替えて、焼結法による高密度の極微細で均一な組織を有するターゲットを得る。
（もっと読む）

溶融金属２０を噴射させる吐出ノズル３１と、吐出ノズル３１の吐出口３２の周囲に不活性ガスを供給するガス流路３３を有し、吐出ノズル３１の吐出口３２およびガス流路３３の出口には、ノズルカバー３４が設けられる。ノズルカバー３４には、吐出口３２およびガス流路３３の出口に連通して下方に開口した空間３５を有し、その開口周辺にはリング状の突出部３６を有する。吐出口３２から空間３５内に溶融金属２０を噴射させる際、空間３５に不活性ガスを供給することにより溶融金属２０の酸化が防止され、吐出口３２のノズル詰まりを防止し、溶融金属２０の形状を球状化することができる。
（もっと読む）