【課題】 切屑処理性に優れ、高い耐欠損性を有する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 基体２表面に硬質被覆層６を被覆し、硬質被覆層６の少なくとも表面にボイド８が分散するとともに、硬質被覆層６の切刃５の表面に存在するボイド８の面積比率が、硬質被覆層６のすくい面３の表面に存在するボイド８の面積比率に比べて少ない表面被覆切削工具１である。これによって、切刃５においては耐欠損性が高くかつ加工面が平滑化できるとともに、すくい面３においては切屑排出性が良好で、結果として優れた切削性能を発揮できる。 （もっと読む）

【課題】
高速度切削、高送り切削、被削材の高硬度化などの厳しい切削加工条件において長寿命を実現できる切削工具用の被覆部材を提供する。
【解決手段】
基材の表面に被膜を被覆した被覆部材において、被膜は、基材に接して被覆された平均膜厚０．００１〜０．１μｍのＭＮ_x（但し、ＭはＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ａｌの中の少なくとも１種を示し、ｘはＭに対するＮの原子比を示し、ｘは０．１０≦ｘ≦０．９０を満足する。）で表される窒素拡散膜と、窒素拡散膜に接して被覆された表面膜と、からなる被覆部材。 （もっと読む）

【課題】 従来の硬質皮膜であるＴｉＮ皮膜やＴｉＡｌＮ皮膜よりも耐摩耗性に優れた硬質皮膜およびその形成用スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】〔１〕 （Ｚｒ_1-a ，Ｈｆ_a ）（Ｃ_1-x Ｎ_x ）からなる硬質皮膜であって、０．０５≦ａ≦０．４、０≦ｘ≦１を満たすことを特徴とする硬質皮膜（但し、上記式において、ａはＨｆの原子比、ｘはＮの原子比を示すものである）、〔２〕（Ｚｒ_1-a-b ，Ｈｆ_a ，Ｍ_b ）（Ｃ_1-x Ｎ_x ）からなる硬質皮膜（ただし、ＭはＷ，Ｍｏの１種以上）であって、０≦１−ａ−ｂ、０≦ａ、０．０３≦ｂ≦０．３５、０≦ｘ≦１を満たすことを特徴とする硬質皮膜（但し、上記式において、ａはＨｆの原子比、ｂはＭの原子比、ｘはＮの原子比を示すものである）等。 （もっと読む）

【課題】皮膜の更なる高硬度化と耐摩耗性を向上させ、耐熱性を改善して温度上昇よる摩耗増大を抑制した硬質皮膜を提供することである。更に、該硬質皮膜を複数層被覆した多層皮膜被覆部材、及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】基材表面に組成が異なる硬質皮膜を２層以上被覆した多層皮膜被覆部材であって、該硬質皮膜は少なくとも硬質皮膜Ａ及び硬質皮膜Ｂを有し、該硬質皮膜Ａは、Ｓｉ（Ｂ_ｕＣ_ｖＮ_ｗＯ_ｚ）で示され、但し、ｕ、ｖ、ｗ、ｚは各元素の原子％、ｕ＞０、ｖ＞０、ｗ＞０、ｚ≧０、ｕ＋ｖ＋ｗ＋ｚ＝１、を満足する硬質皮膜、該硬質皮膜Ｂは、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒ、Ｖ、Ｓｉから選択される２種以上とＢ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１種以上を有する硬質皮膜であることを特徴とする多層皮膜被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】乾式下であっても、大気中において、摺動部材の摩擦係数を低減することができる組合せ摺動部材を提供する。
【解決手段】この組合せ摺動部材は、摺動面に非晶質炭素膜を形成した第一摺動部材と、該第一摺動部材の摺動面と摺動する摺動面に窒化炭素膜を形成した第二摺動部材と、を有してなる。 （もっと読む）

【課題】長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。特に、環境に優しい方法で、前記装飾品、前記時計を提供すること。
【解決手段】本発明の装飾品１Ａは、少なくとも表面付近の一部が主としてＴｉおよび／またはステンレス鋼で構成された基材２と、基材２上に設けられ、主としてＰｔＣＮで構成された被膜３とを有し、被膜３の表面粗さＲａが０．３μｍ未満である。このような装飾品１Ａは、ＣおよびＮを含む雰囲気中で、開口部の形状が略円形の収納器に収納したＰｔに電子ビームを照射し、基材２上に被膜３を形成することにより得られる。被膜３を形成する工程における、電子ビームのビーム径をＤ_Ｂ［ｍｍ］、前記収納器の前記開口部の内径をＤ_Ｈ［ｍｍ］としたとき、１≦Ｄ_Ｈ−Ｄ_Ｂ≦５の関係を満足する。 （もっと読む）

【課題】焼結体製基材に被覆した硬質膜を強靭にしてその寿命を延ばすようにした硬質膜被覆焼結部材を提供する。
【解決手段】セラミックス膜、BCN系超硬質材膜、金属とセラミックスの混合物膜のいずれかが前記硬質膜として前記焼結体製基材の表面に被覆され、かつ、均一に分布した直線状の転位の転位密度が１×１０^４〜９×１０^1０ｃｍ^-2である転位組織を前記焼結体製基材界面から数１０μｍ以下の範囲で有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の耐欠損性、潤滑性の特性を犠牲にすることが無く、特に優れた靭性を有する硬質皮膜を提供する。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｓを含みＣ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＳ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の密着性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の高硬度化による耐摩耗性を改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であり、該硬質皮膜中に存在するＳｉはα型Ｓｉ_３Ｎ_４とβ型Ｓｉ_３Ｎ_４の結晶質相として存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたとき、１．０≦Ｉβ／Ｉα≦２０．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の有する密着性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の潤滑特性と耐欠損性を改善する。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｃを含みＮ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＣ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の有する耐高温酸化性、密着性と潤滑特性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の靭性の改善を目的とした。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜はｆｃｃ構造の柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、Ｉβ／Ｉα＜１．０であり、Ｘ線回折による（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【目的】一部に真空アークプラズマを用いて、ドロップレットの影響を受けることなく高純度に、かつ円滑に単一膜、混合膜及び積層膜を成膜するプラズマ表面処理方法、プラズマ処理装置及びこれらを用いて処理された目的物を提供する。
【構成】２種類の第１プラズマ１６及び第２プラズマ１７を使用する。各プラズマは、第１プラズマ発生部２、第２プラズマ発生部３において真空雰囲気下に設定されたアーク放電部で真空アーク放電を行って発生させる真空アークプラズマであり、第１と第２プラズマ導入路２２、２３を介して共通輸送ダクト１０に導入される。このとき、第１及び第２プラズマ１６、１７を共通輸送ダクト１０に導入するタイミングを制御して、プラズマ処理部１内のワークＷ表面に対して積層膜形成等の表面処理加工が行われる。各プラズマ導入路のプラズマ導入角度は共通輸送ダクト１０の輸送方向に対して鋭角に設定されている。 （もっと読む）

【課題】
Ｔｉ電極基材の上にＰｔ層を有する、アルカリイオン整水器用の電極において、従来品よりも薄いＰｔ層でありながら、寿命が延長された電極と、その製造方法を提供すること。
【解決手段】
Ｔｉ電極基材をスパッタリング装置に入れ、Ａｒガスを用いたエッチングにより表面に存在するＴｉＯ_２を除去したのち、Ｔｉターゲットを用いてＴｉのスパッタリングを行なってＴｉスパッタ層を形成し、つぎに雰囲気にアセチレンおよび窒素ガスを導入してＴｉＣＮのスパッタ層を形成し、最後にＰｔのスパッタリングを行なってＰｔ表面層を形成する。下記の表面層構成を有する電極が得られる。
（内部） （表面）
Ｔｉ電極基材／Ｔｉスパッタ層／ＴｉＣＮスパッタ層／Ｐｔスパッタ層 （もっと読む）

【課題】
高速度、高送りの過酷な切削条件の要求が増えており、加えて長時間安定した加工ができる工具の要求が多くなっている。耐欠損性や耐チッピング性に優れ、長時間安定した加工が可能な被覆焼結合金を提供する。
【解決手段】
結合相と硬質相とからなる焼結合金の基材の表面に周期律表４ａ、５ａ、６ａ族元素、Ａｌ、Ｓｉの炭化物、窒化物およびこれらの相互固溶体の中から選ばれた少なくとも１種の被膜を被覆した被覆焼結合金において、被覆焼結合金の断面組織を観察したときに、基材の結合相２と被膜１との界面の少なくとも１部に、凸状結合相が形成されている被覆焼結合金。 （もっと読む）

【課題】 微細なフォトマスクパターンが高精度で形成されたハーフトーン型位相シフトマスクおよびこれを作製するためのマスクブランクを提供すること。
【解決手段】 フォトマスク基板としての石英などの透明基板１１の一方主面上に、露光光に対して所定の位相シフト量および透過率を有する半透明膜１５と、この半透明膜１５上に設けられた遮光性膜１２とが設けられている。遮光性膜１２は、いわゆる「遮光性膜」であることは勿論、反射防止膜をも兼ねる膜とすることができる。半透明膜１５はその吸収体材料が、シリコン（Ｓｉ）とモリブデン（Ｍｏ）の双方を含有するハーフトーン材料であるハーフトーン位相シフト層である。ハーフトーン型位相シフトマスクブランクをＡｒＦ露光用のマスク作製用とする場合には、遮光性膜１２の光学濃度ＯＤが、波長１９３ｎｍまたは２４８ｎｍの光に対して１．２〜２．３の範囲の値となるように膜厚と組成が選択される。 （もっと読む）

【課題】 潤滑性被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具を構成する潤滑性被覆層が、密着接合層、下地潤滑層、および表面潤滑層からなり、（ａ）上記密着接合層を、０．１〜３μｍの平均層厚を有しＴｉＮ層およびＴｉＣＮ層のいずれか、または両方、（ｂ）上記表面潤滑層を、１〜１０μｍの平均層厚を有し、炭素系非晶質体の素地に、結晶質炭窒化チタン系化合物の微粒が分散分布した組織を有する非晶質炭素系潤滑層、で構成し、さらに（ｃ）上記下地潤滑層を、０．１〜３μｍの平均層厚を有し、Ｔｉ、窒素、炭素、およびＷ成分の含有割合が、層厚に沿って、上記密着接合層の界面部における含有割合から上記表面潤滑層の界面部における含有割合に連続的または多段階的に変化する成分濃度変化構造を有する非晶質炭素系潤滑層、で構成する。 （もっと読む）

【課題】 硬質被膜の耐熱性および耐摩耗性を更に向上させる。
【解決手段】 エンドミル１０の工具母材１２の表面を被覆している硬質積層被膜２０は、ＴｉＡｌＣｒＸ_1-a Ｎ_a （但し、Ｘは炭素または酸素で、混晶比ａは０．５≦ａ≦１）から成る第１被膜層２２と、ＴｉＡｌＣｒＸ_1-b Ｎ_b （但し、混晶比ｂは０．５≦ｂ≦１）およびＴｉＡｌ（ＳｉＣ）Ｘ_1-c Ｎ_c （但し、混晶比ｃは０．５≦ｃ≦１）の混合層から成る第２被膜層２４と、ＴｉＡｌ（ＳｉＣ）Ｘ_1-d Ｎ_d （但し、混晶比ｄは０．５≦ｄ≦１）から成る第３被膜層２６とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】ブローチに適用する超硬合金を最適化することによって、ブローチの精度を長期間維持できる被覆超硬ブローチを提供することを課題とする。
【解決手段】シェル型の被覆超硬合金製ブローチにおいて、該シェルに用いる超硬合金は、ＷＣの平均粒径が１．２μｍ以下、保磁力が２０ｋＡ／ｍ以上４０ｋＡ／ｍ未満、飽和磁化値をＲとし、２０２×Ｃｏ重量％／１００の値をＳとした時、飽和磁化比Ｒ／Ｓが、０．６５≦Ｒ／Ｓ≦０．９５、更に、該被覆は、金属成分として少なくともＡｌとＣｒを含有する窒化物、酸化物、硼化物、硫化物、炭化物のいずれか１種以上の固溶体又は混合物から構成されていることを特徴とする被覆超硬合金製ブローチである。 （もっと読む）

【課題】高速・高能率切削が可能な、ＴｉＡｌＳｉＮよりも耐摩耗性に優れた切削工具用硬質皮膜、およびこの様な硬質皮膜を得るための有用な製造方法を提供する。
【解決手段】（Ｔｉ_{１−ａ−ｂ−ｃ−ｄ}，Ａｌ_ａ，Ｃｒ_ｂ，Ｓｉ_ｃ，Ｂ_ｄ）（Ｃ_１−ｅＮ_ｅ）からなる硬質皮膜であって、Ａｌ，Ｃｒ，Ｓｉ，Ｂのそれぞれの原子比ａ，ｂ，ｃ，ｄが、０．５≦ａ≦０．８、０．０６≦ｂ、０≦ｃ≦０．１、０≦ｄ≦０．１、０．０１≦ｃ＋ｄ≦０．１およびａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜１を満たすようにし、かつＮの原子比ｅが０．５≦ｅ≦１を満たすようにする。 （もっと読む）

【課題】高速・高能率切削が可能な、ＴｉＡｌＮよりも耐摩耗性に優れた切削工具用硬質皮膜を得るための有用な製造方法を提供する。
【解決手段】所定の組成および結晶構造を有する硬質皮膜を製造するための方法であって、ターゲットを構成する金属の蒸発およびイオン化をアーク放電にて行うアークイオンプレーティング法において、該ターゲットの蒸発面にほぼ直交して前方に発散ないし平行に進行する磁力線を形成し、この磁力線によって被処理体近傍における成膜ガスのプラズマ化を促進すると共に、前記被処理体に印加するバイアス電位をアース電位に対して−５０Ｖ〜−３００Ｖとして成膜する。 （もっと読む）