【課題】 被処理物品を支持して、少なくとも公転させる回転テーブル及び該回転テーブル上に支持される被処理物品を冷却する冷却機構を有する、蒸発源を用いたＰＶＤによるコーティング装置であって、回転テーブルに支持される被処理物品を従来より確実に冷却することができ、冷却機構の設計の自由度が従来より大きいコーティング装置を提供する。さらに、メインテナンスの容易なコーティング装置を提供する。
【解決手段】回転テーブル４２上に支持される被処理物品Ｗに臨むように該テーブル４２上に冷却部５を搭載し、冷却部５の冷媒循環通路５１には、テーブル４２とは分離されたコネクタ部ＣＣを介して冷媒を循環させる。冷却部５を搭載した回転テーブル４２は、真空容器２に対し搬入搬出可能の可動テーブル４０に支持させる。或いは、真空容器壁の一部（例えば底壁）であって、容器本体に対し着脱可能の部分に設置する。 （もっと読む）

【課題】 長尺なプラスチックフィルムの基材上に電子ビームを使い蒸着薄膜を連続的に形成する巻き取り式電子ビーム真空蒸着装置の除電器に関する。除電器の長期間使用においても除電装置の電極起因のゴミのプラスチックフィルムに巻き込まれによる不良を防ぎ、ゴミの電極とアースとの間に入り短絡することを防ぐ。
【解決手段】 除電器の電極表面を炭素材料により構成する。 （もっと読む）

【課題】 真空処理装置の装置停止時間を短縮すること。
【解決手段】 真空処理装置１００は、ロード／アンロード室１０とプラズマ処理室２０とが連結されており、プラズマ処理室２０は、上面に開口部Ａを有する真空容器２０ａと開口部Ａを開閉する平板状の上蓋３０とを備えている。上蓋３０の下面（真空容器２０ａ側）および上面には、それぞれ同一の真空処理用機器３１ａおよび３１ｂが表裏対称的に配置されている。上蓋３０を昇降機構４０により上昇させ、回転機構５０により回転軸５４廻りに１８０°回転させ、昇降機構４０により下降させることにより、真空処理用機器３１ａと３１ｂの位置を上下反転し、真空処理用機器３１ａのメンテナンスと並行して真空処理用機器３１ｂを用いた真空処理を実施する。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いた気相堆積法による成膜時の基板温度をより正確に管理し、これにより、これら薄膜の位置精度を向上させること。
【解決手段】本発明の方法は、絶縁基板ＳＵＢとその上に形成され且つ表示素子ＯＬＥＤを含んだ構造体とを具備した表示装置を製造する方法であって、真空中で、マスクを用いた気相堆積法により、前記絶縁基板ＳＵＢ上に、前記構造体の一部として前記マスクのパターンに対応したパターンを有する薄膜を形成する工程を含み、前記薄膜を形成する前及び／又は前記薄膜を形成している間、金属基板とその一主面を被覆し且つ前記金属基板よりも赤外線吸収率がより高い赤外線吸収層とを備えた冷却板を、前記赤外線吸収層が前記絶縁基板ＳＵＢと向き合うように配置することにより、前記絶縁基板ＳＵＢを冷却することを特徴とする。 （もっと読む）

分子線エピタキシーシステム等の超高真空システムに用いられるフェイズセパレータである。真空チャンバ内には極低温パネルが配置されており、この極低温パネルには極低温シュラウド領域とフェイズセパレータ領域とが含まれている。液体窒素はインレットラインを介して極低温パネルに導入される。液体窒素の温度が上昇し、蒸発すると、窒素蒸気がシュラウド内の上部へ移動する。極低温パネルのフェイズセパレータ領域においては、略大気圧蒸気層が液体窒素の上にあり、その結果、窒素蒸気は、ガスバーストを形成することなくパネルからスムーズに排出される。また、液体窒素レベルの変化による極低温シュラウド表面の温度変化を防ぐため、フェイズセパレータ領域は真空ジャケットされ、これにより極低温シュラウドのポンプ安定性が高められる。分子線エピタキシーシステム（ＭＢＥ）で用いられる一実施例では、極低温パネルを第一と第二の冷却室に分割している。第一の冷却室は液体窒素を含み、被膜される基板を取り囲む。第二の冷却室は水のような異なる流体を含み、エフュージョンセルを取り囲むことによって、エフュージョンセルの動作中に発生される熱を散逸させる。
（もっと読む）

【解決手段】基板を磁気ディスクメモリに製造するのに使用するための冷却装置であって、冷却プレートが基板に関して動的に配置されるところの冷却装置が説明される。これにより、効果的な冷却のために冷却プレートを基板により近く配置することが可能となる。配置は冷却プレートと冷却すべき基板との間の容量測定値により制御される。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明は、基体が蒸着装置の加熱された蒸着チャンネル中を動く際に、固体および／または液体被覆材料の蒸発およびその蒸気状被覆材料の基体上への蒸着によって、連続的に運搬される基体を熱的に真空被覆する方法において、蒸着チャンネル（３）を、最少の運搬速度に達しない場合でもまたは基体が静止した場合でも、少なくとも１つの位置変更可能な中空要素（７）の差し込みよって、基体が内部空間に存在する様に外部空間（３）と内部空間に分離することを特徴とする、上記真空被覆法に関する。この方法を実施するための装置にも関する。
（もっと読む）