【課題】 焼成が必要な透明導電膜前駆体について、膜強度や導電性への影響が無く、簡便に焼成処理を行い得る透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 基材上に形成され焼結によって透明導電膜を形成する透明導電膜前駆体の表面に、レーザー光に対して吸収のある吸収剤を含む吸収剤含有液を塗布し乾燥させることにより吸収剤層を形成し、該吸収剤層に吸収のある波長を有するレーザー光を該吸収剤層に照射することにより、前記透明導電膜前駆体を焼結させて透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 成膜工程で加熱された保持装置を冷却し、蓄熱による熱変形の影響を軽減して、基板とマスクとを高精度に位置合わせることが可能な技術を提供すること。
【解決手段】 基板、及び、基板の上に配置されるマスクパターンが形成されているパターン形成部と、パターン形成部の周囲を支持するマスク枠とを有するマスクを保持する保持装置は、基板と、マスク枠とを、保持面で保持する基台と、保持面に沿って配置され、磁気吸着によりマスクを吸着することにより、基板とマスクとを基台に固定する永電磁石と、保持面の裏面側で、冷却媒体により冷却された冷却体を基台と接触させて基台を冷却する冷却機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
アウトガスや配管の疲労損傷の問題を払拭できる、あるいは、真空排気の必要のない真空内配線・配管機構を有する信頼性の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】
本発明は、複数の真空チャンバと、前記複数の真空チャンバ内のうち少なくとも一つの真空チャンバ内に移動部を有し、蒸着材料を基板に蒸着する有機ＥＬデバイス製造装置あるいは成膜装置において、前記中空のリンク内に前記移動部への配線または流体を流す配管のうち少なくとも一方を敷設し、一端を大気に開放し、他端を前記移動部に接続した真空内配線・配管機構を有することを特徴とする （もっと読む）

【課題】
クラスタ構造を有し、ライン長を短くできる、あるいは、スペース効率のよい有機ＥＬデバイス製造装置または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
蒸着材料を基板に蒸着する処理部を具備する真空処理チャンバと、前記基板を搬入または搬出する受渡室と、前記基板を前記受渡室と前記複数の処理部との間を搬送する搬送手段とを具備する真空チャンバであるクラスタを複数直列に設け、前記処理部を一つの前記真空処理チャンバあるいは複数の前記真空処理チャンバに複数設け、前記複数の処理部のうち少なくとも２つ以上の処理部を前記搬送手段の片側に隣接して配置し、基板を搬入ロード室から搬入し、前記各クラスタを介して、搬出ロード室へと搬送する途中で前記搬送基板の搬送角度を補正する。 （もっと読む）

【課題】
搬送チャンバを小型化できる、生産性の高い、あるいは、稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または成膜装置あるいはシャドウマスク交換装置または同交換方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、真空チャンバであって、基板とシャドウマスクとの位置合せを行い、真空チャンバ内で蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバと大気雰囲気部とに隣接し、前記２つの隣接部を介して前記真空蒸着チャンバに前記シャドウマスクを搬入出する手段を有するシャドウマスク交換室を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れ、むくみの発生しない光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４５である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層１３６、第７層である透明導電層１３７及び第８層１３８から構成される。 （もっと読む）

フレキシブル基板上に堆積させる有機材料を気化させるための蒸発器について記載する。本蒸発器は、有機材料を気化させるためのキャビティを取り囲む壁を有する蒸発管と、壁に隣接して配置され、蒸発管を加熱する少なくとも１つの加熱デバイスと、蒸発管から突き出した少なくとも１つのノズルアセンブリであって、開口部を有するノズルカバーをさらに備えたノズルアセンブリと、ノズルカバーの開口部を選択的に開閉するためのシャッタであって、ノズルカバーの温度がシャッタ温度範囲内になるように、蒸発管の動作中、１４０℃のシャッタ温度範囲内の温度を有するシャッタとを含む。
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【課題】高精細なマスクを効率よく製造する。
【解決手段】本発明のマスクの製造方法は、膜パターンの形成に用いられ、膜材料を通過させるマスク開口２１を有するマスク２０の製造方法であって、表面にシリコン層３３を有する基板のシリコン層３３に凹部２１を形成する凹部形成工程と、基板を裏面３０ｂ側から薄肉化して裏面３０ｂ側に凹部２１を開通させて凹部２１をマスク開口２１にする薄肉化工程と、を有している。 （もっと読む）

【課題】非導電性試料の表面に、むらの無い良質な導電性のカーボン膜を短時間で形成する。
【解決手段】開閉弁９ａを開き、ロータリーポンプ１０で試料室２ａの大気を排気する。試料室２ａの真空度が１Ｐａ程度になったら、流量調整弁８ａを開いて試料室２ａにアルゴンガスを導入し、試料室２ａの真空度が２Ｐａ程度になるようにアルゴンガスの流量を調整する。電極棒７ａと７ｂ及び電極５ａと５ｂを通じてカーボン棒に５０Ａ程度の電流を流す。通電によりカーボン棒が赤熱し、カーボンが蒸発することにより蒸着が行なわれる。 （もっと読む）

【課題】チューブ全体を均一に加熱することができ、チューブの内周面に付着した材料を効率よく再蒸発させることができる蒸気案内管を提供する。
【解決手段】蒸気案内管１０は、蒸着材料を収容し、その材料を加熱して材料の蒸気を発生させる坩堝１２と、坩堝１２をその内部に設置し、坩堝１２から発生した蒸気を長手方向前方へ流動させるガラス管１１と、ガラス管１１の外周面を包被する金属管１３とを有する。この蒸気案内管１０では、所定の電気抵抗を有する透明導電性酸化スズ膜がガラス管１１の外周面に成膜され、ガラス管１１の外周面に所定の厚み寸法を有する電気抵抗薄膜を形成し、電気抵抗薄膜がその抵抗加熱によって発熱し、ガラス管１１を所定温度に加熱する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、（ＡｌＧａＩｎ）Ｎの光電子デバイス及び電子デバイスのための基材として好適な、高い品質の（ＡｌＧａＩｎ）Ｎ構造物及びそのような構造物を形成する方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る方法は、半導体構造物を分子線エピタキシー反応槽内で処理すること；基材上にＡｌ_ｘＩｎ_ｙＧａ（_{１−（ｘ＋ｙ）}）Ａｓ（０≦ｘ＋ｙ≦１）及びＡｌ_ｘＩｎ_ｙＧａ（_{１−（ｘ＋ｙ）}）Ｐ（０≦ｘ＋ｙ≦１）のうち少なくとも１つを含むぬれ層を成長させること；上記ぬれ層をインシチューアニーリング（ｉｎ−ｓｉｔｕ ａｎｎｅａｌｉｎｇ）すること；付加的なリン又はヒ素の流体と共に、プラズマ励起された窒素を窒素源として用いて、上記ぬれ層上に第１のＡｌＧａＩｎＮ層を成長させること；上記第１のＡｌＧａＩｎＮ層の上に、窒素源としてアンモニアを用いて第２のＡｌＧａＩｎＮ層を成長させること；を含む。 （もっと読む）

【課題】適切な位置に層を形成することができる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】スクリーン７に蒸着により反射層を形成する蒸着装置１は、スクリーン７の光入射側には、互いに所定の角度で交差する水平面および傾斜面が、所定の方向に沿って交互に形成され、蒸着装置１は、スクリーン７を支持する冷却ロール３３と、傾斜面に対向配置され、蒸着材料を蒸発させて水平面に反射層を形成する坩堝４とを備える。スクリーン７は、冷却ロール３３により鉛直方向に沿って支持され、水平面は、鉛直方向先端側を向くように、傾斜面と鉛直方向に沿って交互に形成され、坩堝４は、冷却ロール３３により支持されたスクリーン７の鉛直方向先端側に配置されている。これにより、蒸着材料がスクリーン７の傾斜面に対してのみ付着することができ、傾斜面にのみ反射層を形成できる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、低コストで高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、 高分子フィルムの少なくとも一方の表面に１層以上の無機物からなる蒸着薄膜層を形成する工程と、
次いで、該無機物からなる蒸着薄膜層の上に、ジメチルポリシロキサンを含むポリマーを加熱気化させてなる未硬化のポリマー薄膜層を形成する工程と、
次いで、該ポリマー薄膜層にプラズマを照射してポリマーを硬化させる工程と、を同一真空容器内で行うものである。 （もっと読む）

【課題】蒸着源がレールに沿って移動するスライディング走行方式の有機物蒸着装置を提供する。
【解決手段】チャンバ内の一側に配置され、基板を保持する基板保持部と、チャンバ内の他側に配置されたレールと、レールに沿って移動し、レールと交差する方向に移動する第１プレートおよび第２プレートを備える移送部と、第１プレート上に配置され、基板に蒸着させる有機物を収容するとともに蒸発させる第１蒸着源および第１補助蒸着源と、第２プレート上に配置され、基板に蒸着させる有機物を収容するとともに蒸発させる第２蒸着源および第２補助蒸着源と、を備える。第１蒸着源および第２蒸着源にそれぞれ収容した有機物がなくなると、第１蒸着源および第１補助蒸着源の位置と、第２蒸着源および第２補助蒸着源の位置とがそれぞれ変更され、第１補助蒸着源および第２補助蒸着源にそれぞれ収容した有機物を蒸発させて基板に蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】熱安定性の高いワイヤグリッド偏光板を得ることができるワイヤグリッド偏光板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のワイヤグリッド偏光板の製造方法は、表面に格子状凸部を有する基材フィルムがロール状に巻かれてなる原反ロールから、搬送用ロールを介して前記基材フィルムを巻取ロールに搬送する間に前記基材フィルムに金属を被着するロール・ツー・ロール方式のワイヤグリッド偏光板の製造方法であって、金属被着中において、前記基材フィルムの温度をＴ１、前記搬送用ロールの温度をＴ２としたときに、前記基材フィルムの温度がＴ１からＴ２へ変化した際の、搬送方向と直交する方向の寸法変化率が±０．０４％の範囲内であることを特徴とする。 （もっと読む）

基板に対する薄膜被覆の付与に使用する材料を蒸発させるための格納容器100は、耐火性材料から作製された本体110を含む。一実施形態では該本体は、端と端とを接続する態様で他の本体と接続できる端部112,114を含む。別の実施形態では、本体は、その外面部分に組み込まれて加熱用の電力源との連携を容易にする一体的にパターン形成された導体を含む。 （もっと読む）

【課題】ロール・ツー・ロール方式を用い、製品面内の光学特性にばらつきが小さいワイヤグリッド偏光板を得ることができるワイヤグリッド偏光板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のワイヤグリッド偏光板の製造方法は、表面に格子状凸部を有する基材フィルムがロール状に巻かれてなる原反ロールから、搬送用ロールを介して前記基材フィルムを巻取ロールに搬送する間に前記基材フィルム内の有効製品部に金属を被着するロール・ツー・ロール方式のワイヤグリッド偏光板の製造方法であって、前記基材フィルム内の有効製品部に金属が最も多く被着されている部分の金属被着量をｄＭＡＸとし、前記基材フィルム内の有効製品部に金属が最も少なく被着されている部分の金属被着量をｄＭＩＮとしたときに、（ｄＭＡＸ−ｄＭＩＮ）／（ｄＭＡＸ＋ｄＭＩＮ）で定義される数値δが、δ＜０．１５を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加圧エアーにより弁体を開閉するエアー駆動装置に加圧エアー及び電気を供給する小型化された連結部品を提供する。
【解決手段】エアー駆動装置３００に使用する連結部品６００は、内部で分岐することにより一の入口に対して複数の出口を持つ空間が形成された中間継手６０５と、中間継手６０５の入口ｉｎに取り付けられ、エアー駆動装置３００と連通する第１の継手６１０と、中間継手６０５の複数の出口ｏｕｔのうち、第１の出口ｏｕｔ１に取り付けられ、中間継手６０５及び第１の継手６１０を経由して加圧エアーをエアー駆動装置３００に供給するエアー供給経路Ｐａを形成する第２の継手６１５と、中間継手６０５の第２の出口ｏｕｔ２に取り付けられ、エアー供給経路Ｐａの少なくとも一部を利用して配線されたヒーター線Ｌをエアー供給経路Ｐａの気密を保ちながら貫通させる第３の継手６２０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】材料容器の温度制御性を高める。
【解決手段】成膜に用いられる蒸着源ユニット２０は、材料容器２１０ａを有する材料投入器２１０と、中空の内部に材料投入器２１０が着脱可能に装着される外部ケース２２０と、材料投入器２１０に設けられ、材料投入器２１０を加熱する内部ヒーター２１０ｄと、材料投入器２１０が外部ケース２２０に装着されることにより画定され、内部ヒーター２１０ｄの加熱により気化された成膜材料を搬送する搬送路２１０ｃとを有する。 （もっと読む）

【課題】例えば銅などの高融点材料を含む原料粉体を加熱して得られる気体を用いてウェハにこの銅膜を成膜するにあたって、原料粉体中の化合物中に含まれる有機物などの不純物が銅膜に取り込まれることを抑えると共に、簡便に固体状の原料粉体から気体が得られるようにして原料粉体のコストを抑えること。
【解決手段】固体状の原料粉体を貯留する原料貯留部から粉体導入路を介してキャリアガスと共にこの原料粉体を処理容器へと供給し、この粉体導入路に介設された粉体気化部において原料粉体をプラズマ化して気体状の原料を得る。 （もっと読む）